2-Chlor-1-cyclohexyl-2-methyl-propan-1-on | 1127-39-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-Chlor-1-cyclohexyl-2-methyl-propan-1-on
• 英文别名: 2-Chloro-1-cyclohexyl-2-methyl-1-propanone；2-chloro-1-cyclohexyl-2-methylpropan-1-one
• CAS: 1127-39-5
• 化学式: C₁₀H₁₇ClO
• 分子量: 188.697
• InChiKey: OMZQWSPVAWCLGS-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  105 °C(Press: 14 Torr)
• 密度：
  1.035±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.9
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Chlor-1-cyclohexyl-2-methyl-propan-1-on 在 氢氧化钾 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 生成 1-Isopropyl-cyclohexancarbonsaeure
  参考文献：
  名称：

  Rouzaud,J. et al., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1964, p. 2908 - 2916

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1-环己基-2-甲基丙烷-1-酮 在 磺酰氯 作用下， 生成 2-Chlor-1-cyclohexyl-2-methyl-propan-1-on
  参考文献：
  名称：

  Rouzaud,J. et al., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1964, p. 2908 - 2916

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Chemical amplified resist material containing photosensitive compound
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05350660A1

  公开（公告）日：1994-09-27

  A resist material comprising (a) a polymer having a monomer unit having a special functional group, a monomer unit having a phenolic hydroxyl group, and if necessary a third monomer unit, (b) a photoacid generator, and (c) a solvent can provide a resist film excellent in heat resistance and adhesiveness to a substrate when exposed to light with 300 nm or less such as deep UV light, KrF excimer laser light, etc., and is suitable for forming ultrafine patterns.

  一种抗性材料，包括（a）聚合物，其具有具有特殊功能基团的单体单位，具有酚羟基的单体单位，必要时还包括第三单体单位，（b）光酸发生剂和（c）溶剂，当暴露于300纳米以下的光线（如深紫外线光、KrF准分子激光等）时，可以提供优异的耐热性和与基板的粘附性，并适用于形成超细图案。
• Resist material and process for forming pattern using the same
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES LTD

  公开号：EP0476865A1

  公开（公告）日：1992-03-25

  A resist material of chemical amplified type comprising (a) a polymer such as a polymer of 1-methylcycloalkyl 4-ethenylphenoxyacetate and 4-hydroxystyrene, etc., (b) a photo-sensitive compound capable of generating an acid when exposed to light, and (c) a solvent for dissolving both the components (a) and (b) is excellent in heat resistance and adhesiveness to substrates, capable of maintaining stable pattern dimension from exposure to light to heat treatment, and capable of forming patterns using deep ultraviolet light, KrF excimer laser light, etc.

  一种化学放大型抗蚀剂材料，包括（a）聚合物，如 1-甲基环烷基 4-乙烯基苯氧乙酸酯和 4-羟基苯乙烯等的聚合物、(c) 用于溶解(a)和(b)两种成分的溶剂。这种抗蚀剂具有优异的耐热性和与基材的粘合性，从受光到热处理都能保持稳定的图案尺寸，并能使用深紫外线、KrF 准分子激光等形成图案。
• Gros,G.; Giral,L., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1970, p. 1115 - 1121
  作者：Gros,G.、Giral,L.

  DOI：——

  日期：——
• Rouzaud,J. et al., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1964, p. 2908 - 2916
  作者：Rouzaud,J. et al.

  DOI：——

  日期：——