2-methylprop-2-enoic acid cyclohex-2-en-1-yl ester | 16507-11-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-methylprop-2-enoic acid cyclohex-2-en-1-yl ester
• 英文别名: (methyl)propenoic acid cyclohexen-3-yl ester；methylpropenoic acid cyclohex-2-enyl ester；cyclohex-2-en-1-yl 2-methylprop-2-enoate；Cyclohex-2-en-1-yl-2-methylprop-2-enoat；2-Cyclohexen-1-yl methacrylate
• CAS: 16507-11-2
• 化学式: C₁₀H₁₄O₂
• 分子量: 166.22
• InChiKey: SFQKRXAORPUHSH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-methylprop-2-enoic acid cyclohex-2-en-1-yl ester 在 Co(tdcpp) 三乙基硅烷 、 氧气 作用下， 以 二氯甲烷 、 异丙醇 为溶剂， 28.0 ℃ 、101.32 kPa 条件下， 反应 2.0h， 以89%的产率得到2-Hydroperoxy-2-methyl-propionic acid cyclohex-2-enyl ester
  参考文献：
  名称：

  卟啉钴（II）催化的共轭烯烃直接加氢过氧化

  摘要：

  通过钴（II）卟啉催化的加氢过氧反应，建立了由各种类型的共轭烯烃新型直接合成加氢过氧化合物的方法。在催化量的钴（II）卟啉存在下，α，β，γ，δ-不饱和羰基化合物，丙烯酸酯，α-取代的丙烯酸酯和苯乙烯衍生物与分子氧和三乙基硅烷的反应迅速进行，得到相应的加氢过氧化的化合物，产率高或中等。

  DOI：

  10.1039/a805888a
• 作为产物：
  描述：

  甲基丙烯酸 、 环己烯 在 manganese(IV) oxide 、 palladium diacetate 、 对苯醌 作用下， 反应 72.0h， 以45%的产率得到2-methylprop-2-enoic acid cyclohex-2-en-1-yl ester
  参考文献：
  名称：

  Acryloxy and methacryloxy palladation of alkenes

  摘要：

  使用 Pd(OAc)2/ 苯醌/MnO2 催化剂，可一步从烯中获得丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯；使用丙烯酸和合适的烯，也可一步获得α-亚甲基γ-内酯。

  DOI：

  10.1039/c39940002589

文献信息

• One-Pot Preparation of Alcohols from Aromatic Olefins and Acrylic Acid Derivatives by Cobalt(II) Porphyrin-Catalyzed Reductive Oxygenation Followed by Reduction with Trimethyl Phosphite
  作者：Yoh-ichi Matsusita、Kazuhiro Sugamoto、Takanao Matsui

  DOI：10.1246/cl.1993.925

  日期：1993.6

  acid derivatives were converted to benzyl alcohols and α-hydroxyalkanoic acid derivatives in good yields by the reductive oxygenation with oxygen and triethylsilane in the presence of a catalytic amount of cobalt(II) porphyrin followed by treating the reaction mixture with trimethyl phosphite.

  在催化量的钴 (II) 卟啉存在下，通过氧和三乙基硅烷的还原氧化，各种芳族烯烃和丙烯酸衍生物以良好的收率转化为苯甲醇和 α-羟基链烷酸衍生物，然后用三甲基卟啉处理反应混合物。亚磷酸盐。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, POLYMER, AND METHOD FOR PRODUCING COMPOUND
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20150323866A1

  公开（公告）日：2015-11-12

  A radiation-sensitive resin composition contains: a polymer having a structural unit that includes a group represented by formula (1); a radiation-sensitive acid generator; and an organic solvent. In the formula (1), R P represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and * denotes a binding site to a rest of the structural unit other than the group represented by the formula (1). It is preferred that R P in the formula (1) represents a monovalent organic group, and the monovalent organic group is an acid-nonlabile group. It is also preferred that R P in the formula (1) represents a monovalent organic group, and the monovalent organic group is an acid-labile group.

  一种辐射敏感的树脂组合物包含：具有结构单元的聚合物，该结构单元包括由公式（1）表示的基团；辐射敏感的酸发生剂；和有机溶剂。在公式（1）中，RP表示氢原子或一价有机基团，*表示与公式（1）中表示的基团以外的结构单元的其余部分的结合位点。优选的是，在公式（1）中，RP表示一价有机基团，该一价有机基团是不可酸解的基团。还优选在公式（1）中，RP表示一价有机基团，该一价有机基团是可酸解的基团。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER, COMPOUND, AND METHOD FOR PRODUCING COMPOUND
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20140186771A1

  公开（公告）日：2014-07-03

  A radiation-sensitive resin composition includes a polymer that includes a structural unit represented by a formula (1), and an acid generator. R 1 is a hydrogen atom, a fluorine atom, or the like. R 2 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. R 3 is a hydrogen atom, a monovalent chain hydrocarbon group, or the like. R 4 is a hydrogen atom, a monovalent chain hydrocarbon group, or the like. R 5 is a hydrogen atom, a monovalent chain hydrocarbon group, or the like. R 6 is a monovalent chain hydrocarbon group. R 6 is bonded to R 3 to form a first alicyclic structure, or R 6 is bonded to R 5 to form a second alicyclic structure. At least one hydrogen atom of R 2 , R 3 , or R 4 is optionally substituted with a fluorine atom.

  一种辐射敏感树脂组合物，包括聚合物，该聚合物包括由式（1）表示的结构单元和酸发生剂。其中R1为氢原子、氟原子或类似物。R2为氢原子或一价碳氢基团。R3为氢原子、一价链状碳氢基团或类似物。R4为氢原子、一价链状碳氢基团或类似物。R5为氢原子、一价链状碳氢基团或类似物。R6为一价链状碳氢基团。R6与R3结合形成第一脂环结构，或R6与R5结合形成第二脂环结构。R2、R3或R4中的至少一个氢原子可以被氟原子取代。
• PHOTOCURABLE ACRYLIC RESIN, ADHESIVE COMPOSITION COMPRISING SAME, AND ADHESIVE FILM FORMED BY USING SAME
  申请人：LG CHEM, LTD.

  公开号：EP3733721A1

  公开（公告）日：2020-11-04

  The present invention relates to a photocurable acrylic resin which is a polymer of a monomer mixture including a crosslinkable monomer represented by [Formula 1]; a (meth)acrylic monomer including a photoinitiating functional group; and an alkyl (meth)acrylate-based monomer, and has a weight average molecular weight of 100,000 to 500,000, and a branch-type polymer structure, and an adhesive composition and an adhesive film including the same.

  本发明涉及一种光固化丙烯酸树脂，它是单体混合物的聚合物，其中包括由[式 1]表示的可交联单体；包括光引发官能团的（甲基）丙烯酸单体；以及（甲基）丙烯酸烷基单体，其重量平均分子量为 100,000 至 500,000，并具有分支型聚合物结构，以及包括其在内的粘合剂组合物和粘合膜。
• ADHESIVE COMPOSITION AND PROTECTIVE FILM USING SAME
  申请人：LG CHEM, LTD.

  公开号：EP3733807A1

  公开（公告）日：2020-11-04

  The present invention relates to an adhesive composition and a protective film including an adhesive layer formed by using the same, wherein the adhesive composition includes an acrylic copolymer formed by polymerizing a monomer mixture, the monomer mixture including a monomer represented by [Formula 1], a (meth)acrylic monomer including a carboxy group, a (meth)acrylic monomer including a cross-linkable functional group, and an alkyl(meth)acrylate-based monomer, wherein the acrylic copolymer has a polymerization conversion rate of 99 wt% or higher.

  本发明涉及一种粘合剂组合物以及使用该组合物形成的包括粘合剂层的保护膜，其中粘合剂组合物包括通过聚合单体混合物形成的丙烯酸共聚物，该单体混合物包括由[式 1]表示的单体、包括羧基的（甲基）丙烯酸单体、包括可交联官能团的（甲基）丙烯酸单体以及烷基（甲基）丙烯酸酯基单体，其中丙烯酸共聚物的聚合转化率为 99 wt%或更高。