2,2-Dimethyl-3-ethyl-1-pentanol | 66793-95-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2,2-Dimethyl-3-ethyl-1-pentanol
• 英文别名: 3-Ethyl-2,2-dimethylpentan-1-ol
• CAS: 66793-95-1
• 化学式: C₉H₂₀O
• 分子量: 144.257
• InChiKey: HEQYMZTUSVDQBW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  甲醇 、 2,3,4-三甲基戊烷 在 汞 作用下， 反应 17.0h， 以50%的产率得到3-Methyl-2,2-diethyl-1-butanol
  参考文献：
  名称：

  通过汞光敏交叉脱氢二聚反应在制备规模上进行烷烃功能化

  摘要：

  烷烃可以通过烷烃与醇、醚或硅烷之间的汞光敏反应以高转化率和高化学和量子产率在多克规模下官能化，得到同二聚体和交叉脱氢二聚体。由于同二聚体和交叉二聚体的极性差异很大，因此产物混合物的分离通常特别容易。当通过改变液体组成来调节气相中组分的比例时，也可以偏向产物组成。这对于最大化化学产率或通过有利于形成最容易分离的化合物对来简化分离是有用的。讨论了反应的机理基础，并详细描述了许多特定类型的合成，例如 2,2-二取代的甲醇。交叉二聚的选择性被证明超过了均二聚的选择性，并讨论了原因。不同化合物和化合物类别的相对反应性为 MeOH < 对二恶烷 < 环己烷 < 1,3,5-三恶六环己烷 < 乙醇 < 异丁烷 < THF < Et{sub 3}SiH。观察到的选择性通常与前一篇论文中报道的均二聚化的选择性相似，但注意到了某些差异，并提出了差异的原因。Et{sub 3}SiH 的键离解能根据反应性数据估计为

  DOI：

  10.1021/ja00190a032

文献信息

• COMPOSITION FOR FORMING UPPER FILM AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1950610A1

  公开（公告）日：2008-07-30

  An upper layer-forming composition formed on a photoresist while causing almost no intermixing with the photoresist film and a photoresist patterning method are provided. The upper layer-forming composition is stably maintained without being eluted in a medium such as water during liquid immersion lithography and is easily dissolved in an alkaline developer. The upper layer-forming composition covers a photoresist film for forming a pattern by exposure to radiation. The composition comprises a resin dissolvable in a developer for the photoresist film and a solvent in which the resin is dissolved. The solvent has a viscosity of less than 5.2 x 10-3 Pa·s at 20°C. In addition, the solvent does not cause intermixing of the photoresist film and the upper layer-forming composition. The solvent contains an ether or a hydrocarbon.

  本发明提供了一种在光刻胶上形成的上层形成组合物，同时几乎不会造成与光刻胶膜的混合，并提供了一种光刻胶图案化方法。在液浸光刻过程中，上层形成组合物可稳定地保持在水等介质中而不会被洗脱，并且很容易溶解在碱性显影剂中。上层形成组合物覆盖在光刻胶膜上，通过辐射形成图案。该组合物包括一种可溶解于光刻胶膜显影剂中的树脂和一种可溶解树脂的溶剂。溶剂在 20°C 时的粘度小于 5.2 x 10-3 Pa-s。此外，该溶剂不会造成光刻胶膜和上层形成组合物的混合。溶剂含有醚或烃。
• NOVEL COMPOUND, POLYMER, AND RESIN COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1961739B1

  公开（公告）日：2012-10-17
• COPOLYMER AND UPPER FILM-FORMING COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1806370B1

  公开（公告）日：2013-05-22
• IMMERSION LITHOGRAPHIC COMPOSITION FOR FORMING UPPER FILM AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1950610B1

  公开（公告）日：2012-05-02
• EP2277929A1
  申请人：——

  公开号：EP2277929A1

  公开（公告）日：2011-01-26