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1,8-bis-(2,4-dihydroxy-phenyl)-octane-1,8-dione | 26086-74-8

中文名称
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中文别名
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英文名称
1,8-bis-(2,4-dihydroxy-phenyl)-octane-1,8-dione
英文别名
1,8-Bis-(2,4-dihydroxy-phenyl)-octan-1,8-dion;1,8-Bis(2,4-dihydroxyphenyl)-octan-1,8-dion;1,8-Bis(2,4-dihydroxyphenyl)-1,8-octanedione;1,8-bis(2,4-dihydroxyphenyl)octane-1,8-dione
1,8-bis-(2,4-dihydroxy-phenyl)-octane-1,8-dione化学式
CAS
26086-74-8
化学式
C20H22O6
mdl
——
分子量
358.391
InChiKey
ZZQDHKDAYKUQNA-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.3
  • 重原子数:
    26
  • 可旋转键数:
    9
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.3
  • 拓扑面积:
    115
  • 氢给体数:
    4
  • 氢受体数:
    6

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Lichtempfindliches Gemisch auf Basis von o-Naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0056092A1
    公开(公告)日:1982-07-21
    Lichtempfindliches Gemisch auf Basis von o-Naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial. Es wird ein lichtempfindliches Gemisch beschrieben, das als lichtempfindliche Verbindung einen Naphthochinondiazidsulfonsäureester der allgemeinen Formel I enthält, worin D der Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonyl- oder -4-sulfonylrest ist, R1, R2, R3 Wasserstoff- oder Halogenatome, R,', R2' und R3' Alkylgruppen mit 1-4 Kohlenstoffatomen oder Reste der Formel DO sind und n eine Zahl von 2 bis 18 bedeutet, wobei insgesamt nicht mehr als drei DO-Reste an einem Benzolring stehen. Das Gemisch wird zur Herstellung von Druckplatten und Photoresists verwendet.
    基于邻萘醌噻嗪类的感光混合物及其制备的感光复印材料 所述光敏混合物含有通式 I 的萘醌噻嗪类磺酸酯作为光敏化合物 其中 D 是萘醌-(1,2)-二叠氮-(2)-5-磺酰基或-4-磺酰基、 R1、R2、R3 为氢原子或卤素原子、 R、'、R2'和 R3'是具有 1-4 个碳原子的烷基或式 DO 的基团,以及 n 是 2 至 18 之间的数字 苯环上的 DO 自由基总数不超过三个。该混合物用于生产印版和光刻胶。
  • v. Braun; Anton; Meyer, Chemische Berichte, 1941, vol. 74, p. 1772,1781
    作者:v. Braun、Anton、Meyer
    DOI:——
    日期:——
  • DE521458
    申请人:——
    公开号:——
    公开(公告)日:——
  • Positive type photoresist composition
    申请人:FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
    公开号:EP0445819B1
    公开(公告)日:2001-08-22
  • US4628020A
    申请人:——
    公开号:US4628020A
    公开(公告)日:1986-12-09
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