1-ethoxy-1-butanol | 855232-16-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-ethoxy-1-butanol
• 英文别名: 1-ethoxybutanol；1-Ethoxybutan-1-ol
• CAS: 855232-16-5
• 化学式: C₆H₁₄O₂
• 分子量: 118.176
• InChiKey: HMNZROFMBSUMAB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  149.5±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.896±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二苯基(异硫氰酸基)磷酸酯 、 1-ethoxy-1-butanol 以 正己烷 为溶剂， 反应 15.0h， 生成 1-ethoxybutyl isothiocyanate
  参考文献：
  名称：

  A Convenient One-Pot Synthesis of α-Isothiocyanatoethers and Unusual Course of Some of Its Nucleophilic Displacement Reactions

  摘要：

  已经开发了一种简单的新方法，通过PO(NCS)3或(PhO)2PONCS与醛和醇的等摩尔混合物反应，在良好产率下制备α-异硫氰酸醚1a-1f。描述了甲醇、胺类和联氮对1a-1f的亲核加成过程。

  DOI：

  10.1135/cccc19971491
• 作为产物：
  描述：

  乙醇 、 正丁醛 反应 1.0h， 生成 1-ethoxy-1-butanol
  参考文献：
  名称：

  A Convenient One-Pot Synthesis of α-Isothiocyanatoethers and Unusual Course of Some of Its Nucleophilic Displacement Reactions

  摘要：

  已经开发了一种简单的新方法，通过PO(NCS)3或(PhO)2PONCS与醛和醇的等摩尔混合物反应，在良好产率下制备α-异硫氰酸醚1a-1f。描述了甲醇、胺类和联氮对1a-1f的亲核加成过程。

  DOI：

  10.1135/cccc19971491

文献信息

• ANTIREFLECTIVE COMPOSITIONS WITH THERMAL ACID GENERATORS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20190085173A1

  公开（公告）日：2019-03-21

  New methods and substrates are provided that include antireflective compositions that comprise one or more thermal acid generators.

  提供了包括一个或多个热酸发生剂的防反射组分的新方法和基板。
• COATING COMPOSITIONS SUITABLE FOR USE WITH AN OVERCOATED PHOTORESIST
  申请人：Amara John P.

  公开号：US20110003250A1

  公开（公告）日：2011-01-06

  In one aspect, organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that comprise that comprise a diene/dienophile reaction product. In another aspect, organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that comprise a component comprising a hydroxyl-naphthoic group, such as a 6-hydroxy-2-naphthoic group Preferred compositions of the invention are useful to reduce reflection of exposing radiation from a substrate back into an overcoated photoresist layer and/or function as a planarizing, conformal or via-fill layer.

  在一个方面，提供了有机涂层组合物，特别是抗反射涂层组合物，其包括二烯/二烯亲双反应产物。在另一个方面，提供了有机涂层组合物，特别是抗反射涂层组合物，其包括一个含有羟基-萘甲基团的组分，例如6-羟基-2-萘甲基团。本发明的优选组合物可用于减少曝光辐射从基板反射回覆盖的光刻胶层，并/或作为平坦化、整平或填孔层。
• [EN] PROCESS FOR THE PREPARATION OF SUBSTITUTED OCTANOYL AMIDES<br/>[FR] PROCEDE DE FABRICATION D'OCTANOYLAMIDES SUBSTITUES
  申请人：SPEEDEL PHARMA AG

  公开号：WO2002008172A1

  公开（公告）日：2002-01-31

  Compounds of formula (XII), are simultaneously halogenated in the 5 position and hydroxylated in the 4 position under lactonization, the halolactone is reacted with an amine to form a carboxamide, the halogen is replaced with azide, if necessary after the introduction of a hydroxy protecting group, the resulting azide is converted to a lactone, the lactone is amidated and then the azide converted to the amine group, in order to obtain compounds of formula (I) or a salt thereof.

  公式（XII）的化合物在 lactonization 过程中，5 位同时被卤化，4 位被羟基化，卤代内酯与胺反应形成羧酰胺，卤素被叠氮基取代，如有必要，在引入羟基保护基团后，将所得叠氮化物转化为内酯，内酯进行酰胺化，然后将叠氮化物转化为胺基团，以获得公式（I）的化合物或其盐。
• QUATERNARY AMMONIUM SALT COMPOUND, COMPOSITION FOR FORMING A RESIST UNDER LAYER FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20150357204A1

  公开（公告）日：2015-12-10

  A quaternary ammonium salt compound is represented by the following formula (A-1), wherein, R 1 , R 2 , and R 3 each represent an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or an aralkyl group, a part or all of hydrogen atoms in these groups may be substituted by a hydroxyl group(s), an alkoxy group(s), or a halogen atom(s), and these groups may include one or more of a carbonyl group and an ester bond; R 4 represents a single bond, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, or an aralkylene group, a part or all of hydrogen atoms in these groups may be substituted by an alkoxy group(s) or a halogen atom(s), and these groups may include one or more of an ether bond, a carbonyl group, an ester bond, and an amide bond; and A − represents a non-nucleophilic counter ion.

  一个四元铵盐化合物由以下式（A-1）表示，其中，R1、R2和R3分别代表烷基、烯基、芳基或芳基烷基，这些基团中的氢原子的一部分或全部可以被羟基、烷氧基或卤原子取代，这些基团中可能包括一个或多个羰基和酯键；R4代表一个单键、烷基、烯基、芳基或芳基烷基，这些基团中的氢原子的一部分或全部可以被烷氧基或卤原子取代，这些基团中可能包括一个或多个醚键、羰基、酯键和酰胺键；A−代表一个非亲核对离子。
• METHOD FOR PRODUCING ALPHA-HALOGENOACETOPHENON COMPOUND, AND ALPHA-BROMOACETOPHENON COMPOUND
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20160200654A1

  公开（公告）日：2016-07-14

  A method for producing an α-halogenoacetophenon compound includes reacting a specific α-halogenocarboxylic halide compound and a specific phenyl compound in the presence of a Lewis acid in a solvent, in which the α-halogenoacetophenon compound and the phenyl compound are reacted with each other in a molar ratio of the Lewis acid to the phenyl compound represented below. 2≦Lewis acid/phenyl compound≦6

  生产α-卤代乙酰苯酮化合物的方法包括在溶剂中，在Lewis酸的存在下，反应特定的α-卤代羧酸卤化物化合物和特定的苯化合物，其中α-卤代乙酰苯酮化合物和苯化合物按照以下所示的Lewis酸与苯化合物的摩尔比进行反应。2≦Lewis酸/苯化合物≦6