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4-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanone | 116356-57-1

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanone
英文别名
4-(1,1,1,3,3,3-Hexafluoro-2-hydroxypropan-2-yl)cyclohexan-1-one
4-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanone化学式
CAS
116356-57-1
化学式
C9H10F6O2
mdl
——
分子量
264.168
InChiKey
MPOJXEGYHZFXHZ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.1
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.89
  • 拓扑面积:
    37.3
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    8

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    4-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanone甲基碘化镁 生成 4-(1,1,1,3,3,3-Hexafluoro-2-hydroxypropan-2-yl)-1-methylcyclohexan-1-ol
    参考文献:
    名称:
    ZALESSKAYA, I. M.;FIALKOV, YU. A.;PARAXNENKO, A. I.;YAGUPOLSKIJ, L. M., ZH. ORGAN. XIMII, 23,(1987) N 10, 2140-2145
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    trans-e,e-4-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanol 在 pyridinium chloroformate 作用下, 以 乙醚二氯甲烷 为溶剂, 以87.5%的产率得到4-(2-hydroxyperfluoroisopropyl)cyclohexanone
    参考文献:
    名称:
    Zalesskaya, I. M.; Fialkov, Yu. A.; Parakhnenko, A. I., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1987, vol. 23, # 10, p. 1890 - 1894
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • POLYMERIZABLE TERTIARY ESTER COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US20130189620A1
    公开(公告)日:2013-07-25
    The present invention provides a polymerizable tertiary ester compound represented by the following general formula (1a) or (1b). There is provided a polymerizable ester compound useful as a monomer for a base resin of a resist composition having a high resolution and a reduced pattern edge roughness in photolithography using a high-energy beam such as an ArF excimer laser light as a light source, especially in immersion lithography, a polymer containing a polymer of the ester compound, a resist composition containing the polymer as a base resin, and a patterning process using the resist composition.
  • US9040222B2
    申请人:——
    公开号:US9040222B2
    公开(公告)日:2015-05-26
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