2-氨基-1-硝基蒽-9,10-二酮 | 10262-82-5

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂 - 多环化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 蒽
• 中文名称: 2-氨基-1-硝基蒽-9,10-二酮
• 英文名称: 2-amino-1-nitro-anthraquinone
• 英文别名: 2-Amino-1-nitro-anthrachinon；2-Amino-1-nitroanthraquinone；2-amino-1-nitroanthracene-9,10-dione
• CAS: 10262-82-5
• 化学式: C₁₄H₈N₂O₄
• 分子量: 268.229
• InChiKey: MTXKQBHZBNCFSC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  557.5±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.548±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  106
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

安全信息

• 海关编码：
  2922399090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-氨基-1-硝基蒽-9,10-二酮 在 sodium sulfide 、 溶剂黄146 作用下， 生成 2-(9,10-dioxo-9,10-dihydro-[2]anthryl)-3H-anthra[1,2-d]imidazole-6,11-dione
  参考文献：
  名称：

  Schaarschmidt, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1915, vol. 407, p. 186

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  N-(9,10-二氧代蒽-2-基)乙酰胺 在 乙醇 、 硫酸 、 硝酸 作用下， 生成 2-氨基-1-硝基蒽-9,10-二酮
  参考文献：
  名称：

  Ullmann; Medenwald, Chemische Berichte, 1913, vol. 46, p. 1807

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Dichroitisches Material, enthaltend Anthrachinonfarbstoffe
  申请人：BAYER AG

  公开号：EP0103095A2

  公开（公告）日：1984-03-21

  57 Dichroitisches Material, vorwiegend in Form flüssigkri- stalliner Phasen, enthaltend mindestens einen Anthrachinonfarbstoff der Formel in der Y1, Y2, Y3, Y4 die in der Beschreibung angegebenen Bedeutungen haben, neue Anthrachinonfarbstoffe sowie ihre Verwendung zum Färben von synthetischen Polymeren.

  57 主要为液晶相形式的二色性材料，含有至少一种式如下的蒽醌染料 其中 Y1、Y2、Y3、Y4 具有说明中给出的含义、 新型蒽醌染料及其在合成聚合物着色中的应用。
• METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT EMITTING ELEMENT USING SAME
  申请人：Toray Industries, Inc.

  公开号：EP3369780A1

  公开（公告）日：2018-09-05

  The present invention provides a method of producing a substrate on the surface of which the curved surface pattern is carved, using a resin composition that can afford a cured film which can be formed into a resist pattern in curved surface shape, which does not cause resist burning and carbonization even in high-output dry etching processing subject to a high temperature, and which has good etching selectivity and post-etching removability. The present invention is a method of producing a patterned substrate, the method including the steps of: providing, on a substrate, a coating film of a resin composition including (A) an alkali-soluble resin selected from the group consisting of polyimides, polyamideimides, polyimide precursors, polyamideimide precursors, polybenzoxazoles, polybenzoxazole precursors, copolymers of at least two of the resins, and copolymers of at least one of the resins and another structural unit, (B) a photoacid generator, and (C) at least one compound selected from the group consisting of epoxy compounds and oxetane compounds; forming a pattern of the coating film; patterning the substrate through etching using the pattern of the coating film as a mask; and removing the coating film of the resin composition.

  本发明提供了一种在其表面雕刻弧形表面图案的基板的生产方法，该方法使用的树脂组合物可以提供一种固化膜，该固化膜可以形成弧形表面形状的抗蚀剂图案，即使在高温的高输出干蚀刻加工中也不会导致抗蚀剂烧焦和碳化，并且具有良好的蚀刻选择性和蚀刻后可去除性。本发明是一种生产图案化基板的方法，该方法包括以下步骤：在基底上提供一层树脂组合物的涂膜，该树脂组合物包括 (A) 碱溶性树脂，该树脂选自由以下组成的组(A) 至少两种树脂的共聚物，以及至少一种树脂和另一种结构单元的共聚物； (B) 光酸发生器；以及 (C) 至少一种选自由环氧化合物和氧杂环丁烷化合物组成的组中的化合物；形成涂膜图案；使用涂膜图案作为掩膜，通过蚀刻对基底进行图案化；以及去除树脂组合物的涂膜。
• Method for manufacturing substrate and method for manufacturing light emitting element using same
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：US10418521B2

  公开（公告）日：2019-09-17

  A method of producing a patterned substrate includes the steps of: providing, on a substrate, a coating film of a resin composition including (A) an alkali-soluble resin selected from the group consisting of polyimides, polyamideimides, polyimide precursors, polyamideimide precursors, polybenzoxazoles, polybenzoxazole precursors, copolymers of at least two of the resins, and copolymers of at least one of the resins and another structural unit, (B) a photoacid generator, and (C) at least one compound selected from the group consisting of epoxy compounds and oxetane compounds; forming a pattern of the coating film; patterning the substrate through etching using the pattern of the coating film as a mask; and removing the coating film of the resin composition.

  一种生产图案化基底的方法包括以下步骤在基底上提供一层树脂组合物涂膜，该树脂组合物包括 (A) 碱溶性树脂，该树脂选自由聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚酰胺酰亚胺前体、聚苯并恶唑、聚苯并恶唑前体、至少两种树脂的共聚物和至少一种树脂与另一结构单元的共聚物组成的组(A) 至少两种树脂的共聚物，以及至少一种树脂和另一种结构单元的共聚物； (B) 光酸发生器；以及 (C) 至少一种选自由环氧化合物和氧杂环丁烷化合物组成的组中的化合物；形成涂膜图案；使用涂膜图案作为掩膜，通过蚀刻对基底进行图案化；以及去除树脂组合物的涂膜。
• Mayer; Freund, Chemische Berichte, 1922, vol. 55, p. 2056
  作者：Mayer、Freund

  DOI：——

  日期：——
• DE170562
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——