2-氰基-N,N-二丙基乙酰胺 | 53807-35-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 2-氰基-N,N-二丙基乙酰胺
• 英文名称: 2-cyano-N,N-dipropylacetamide
• CAS: 53807-35-5
• 化学式: C₉H₁₆N₂O
• 分子量: 168.239
• InChiKey: GAORRGUPLLEASI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  115-122°C at 0.5 mm Hg
• 溶解度：
  可溶于氯仿、二氯甲烷

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.78
• 拓扑面积：
  44.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-氰基-N,N-二丙基乙酰胺 在 四(三苯基膦)钯 、 potassium carbonate 作用下， 以 四氢呋喃 、 二甲基亚砜 为溶剂， 生成 2-amino-5-(4-cyanobutyl)-N,N-dipropylquinoline-3-carboxamide
  参考文献：
  名称：

  [EN] AMINOQUINOLINE COMPOUNDS, IMMUNOCONJUGATES, AND USES THEREOF
  [FR] COMPOSÉS AMINOQUINOLINE, IMMUNOCONJUGUÉS ET LEURS UTILISATIONS

  摘要：

  该发明提供了公式（I）的免疫结合物，包括通过共轭连接与一种或多种氨基喹啉衍生物相连的抗体。该发明还提供了公式（III）的氨基喹啉衍生物中间体组合物，包括一个反应性功能基团。这种中间体组合物适用于通过连接物或连接基团形成免疫结合物。该发明还提供了使用这些免疫结合物治疗癌症的方法。

  公开号：

  WO2021046112A1
• 作为产物：
  描述：

  二正丙胺 、 氰乙酸 在 N-[(dimethylamino)-3-oxo-1H-1,2,3-triazolo[4,5-b]pyridin-1-yl-methylene]-N-methylmethanaminium hexafluorophosphate 作用下， 以 二氯甲烷 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 以89%的产率得到2-氰基-N,N-二丙基乙酰胺
  参考文献：
  名称：

  [EN] AMINOQUINOLINE COMPOUNDS, IMMUNOCONJUGATES, AND USES THEREOF
  [FR] COMPOSÉS AMINOQUINOLINE, IMMUNOCONJUGUÉS ET LEURS UTILISATIONS

  摘要：

  该发明提供了公式（I）的免疫结合物，包括通过共轭连接与一种或多种氨基喹啉衍生物相连的抗体。该发明还提供了公式（III）的氨基喹啉衍生物中间体组合物，包括一个反应性功能基团。这种中间体组合物适用于通过连接物或连接基团形成免疫结合物。该发明还提供了使用这些免疫结合物治疗癌症的方法。

  公开号：

  WO2021046112A1

文献信息

• [EN] SUBSTITUTED PYRROLOPYRIDINES AS INHIBITORS OF ACTIVIN RECEPTOR-LIKE KINASE<br/>[FR] PYRROLOPYRIDINES SUBSTITUÉES UTILISÉES EN TANT QU'INHIBITEURS DE LA KINASE APPARENTÉE AU RÉCEPTEUR DE L'ACTIVINE
  申请人：BLUEPRINT MEDICINES CORP

  公开号：WO2019079649A1

  公开（公告）日：2019-04-25

  Described herein are compounds that inhibit ALK2 and its mutants, pharmaceutical compositions including such compounds, and methods of using such compounds and compositions.

  本文描述了抑制ALK2及其突变体的化合物，包括这些化合物的药物组合物，以及使用这些化合物和组合物的方法。
• Design, Synthesis, and Anti-Neuroinflammatory Activity of Amide- Containing Dithiolethiones
  作者：Karrington Craig、Paula Avila、Dennis A. Brown

  DOI：10.2174/1573406416666200909105100

  日期：2021.12

  Multiple sclerosis (MS) is a chronic immune-mediated disease of the central nervous system characterized by demyelination of neurons and neurodegeneration. Current MS therapies ameliorate inflammatory damage but are unable to address the degenerative aspects of the disease.

  In this report, we evaluate the ability of amide-based dithiolethiones (DTTs) to suppress neuroinflammation in microglia and increase anti-oxidant capacity in neuron-like cells.

  A series of amide-containing DTTs were designed, synthesized, and assayed for the ability to suppress pro-neuroinflammatory cytokines IL-12p40 and IL-23p19 induced by LPS in the BV2 microglial cell line. Lead analog 2c was identified and further characterized.

  Structure-activity data revealed tolerance towards a variety of amides. Morpholine analog 2c dose-dependently reduced various other inflammatory cytokines and mediators, including TNF, IL-6, IL-1β, NOS2, and COX2. Additionally, 2c elevated cellular levels of glutathione in SH-SH5Y neuronal cell line. Furthermore, mechanistic studies showed that 2c increased the expression of antiinflammatory Nrf2 and HMOX proteins.

  The combination of anti-neuroinflammatory and anti-oxidant activities of amide-based DTTs suggests that they are promising agents for the treatment of both demyelination and neurodegeneration in MS.

  背景：多发性硬化症（MS）是一种慢性免疫介导的中枢神经系统疾病，其特征是神经元的髓鞘脱失和神经退行性。目前的MS治疗方法能够缓解炎症损伤，但无法解决疾病的退行性方面。 目标：在本报告中，我们评估了酰胺基二硫乙烯硫醚（DTTs）抑制微胶质细胞中的神经炎症和增加神经样细胞抗氧化能力的能力。 方法：设计、合成一系列含酰胺的DTTs，并对其抑制BV2微胶质细胞系中LPS诱导的前神经炎症细胞因子IL-12p40和IL-23p19的能力进行分析。鉴定并进一步表征了主导类似物2c。 结果：结构活性数据显示对各种酰胺具有耐受性。吗啉类似物2c剂量依赖性地减少了其他各种炎症细胞因子和介质，包括TNF、IL-6、IL-1β、NOS2和COX2。此外，2c提高了SH-SH5Y神经细胞系中谷胱甘肽的细胞水平。此外，机械研究表明，2c增加了抗炎Nrf2和HMOX蛋白的表达。 结论：基于酰胺的DTTs具有抗神经炎症和抗氧化活性的组合表明它们是治疗MS中髓鞘脱失和神经退行性的有前景的药物。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。
• COMPOSITION COMPRISING CHELATING AGENTS CONTAINING AMIDOXIME COMPOUNDS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100105595A1

  公开（公告）日：2010-04-29

  The present invention is a novel aqueous cleaning solution for use in semiconductor front end of the line (FEOL) manufacturing process wherein the cleaning solution comprises at least one amidoxime compound.

  本发明是一种用于半导体前端制造过程中的新型水性清洗溶液，其中清洗溶液包含至少一种酰胺肟化合物。