bis-(2-chloromethoxy-ethyl) ether | 19117-01-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: bis-(2-chloromethoxy-ethyl) ether
• 英文别名: Diaethylenglykol-bis-chlormethylaether；Bis-(2-chlormethoxy-aethyl)-aether；Bis-<2-chlormethoxy-ethyl>-ether；O,O'-bis-chloromethyl-diethylene glycol；1-(Chloromethoxy)-2-[2-(chloromethoxy)ethoxy]ethane
• CAS: 19117-01-2
• 化学式: C₆H₁₂Cl₂O₃
• 分子量: 203.065
• InChiKey: TUNBZIGMOAKTRC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  145 °C(Press: 18 Torr)
• 密度：
  1.2593 g/cm3(Temp: 12.5 °C)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  27.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  bis-(2-chloromethoxy-ethyl) ether 在 selenium(IV) oxide 、 水 、 双氧水 、 对甲苯磺酸 、 mercury dichloride 作用下， 生成 dimethyl 2,2,12,12-tetramethyl-4,7,10-trioxatridecanedioate
  参考文献：
  名称：

  骨架中含季碳原子的聚醚多元羧酸的制备

  摘要：

  氯化汞（II）催化将氯甲基醚（4a-c），（10a）和（11a）加到1-甲氧基-2-甲基丙-1-烯（5 ）中。所得氯醚的水解[例如。（6a）]得到3-烷氧基-2,2-二烷基丙醛[例如。（7a）]可以被氧化成相应的羧酸[例如。（8a）]在二氧化硒存在下用过氧化氢作为催化剂。聚（alkoxyacetic）氨基酸已经被通过与醇盐反应得到NN -dialkylchloroacetamides接着水解。因此，酸（12a–c）分别从2,2-二甲基丙烷-1,3-二醇，2-羟甲基-2-甲基丙烷-1,3-二醇和季戊四醇获得。

  DOI：

  10.1039/p19810000741
• 作为产物：
  描述：

  聚合甲醛 、 二乙二醇 在 盐酸 作用下， 生成 bis-(2-chloromethoxy-ethyl) ether
  参考文献：
  名称：

  Mamedov,S. et al., Journal of general chemistry of the USSR, 1964, vol. 34, p. 1435 - 1437

  摘要：

  DOI：

文献信息

• COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Echigo Masatoshi

  公开号：US20130122423A1

  公开（公告）日：2013-05-16

  The object is to provide a compound having high dissolvability in a safe solvent and high sensitivity, and also capable of obtaining a good resist pattern shape, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition. For this purpose, a compound (B) obtained by reaction between a polyphenol based cyclic compound (A) and a compound (C) having a particular structure, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition are provided.

  本发明的目的是提供一种在安全溶剂中具有高溶解度和高灵敏度的化合物，同时还能获得良好的抗蚀图案形状，包含该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。为此，提供了通过多酚基环状化合物（A）和具有特定结构的化合物（C）反应得到的化合物（B），包含该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。
• COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2599814A1

  公开（公告）日：2013-06-05

  The object is to provide a compound having high dissolvability in a safe solvent and high sensitivity, and also capable of obtaining a good resist pattern shape, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition. The solving means are a compound (B) obtained by reaction between a polyphenol based cyclic compound (A) and a compound (C) having a particular structure, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition.

  本发明的目的是提供一种在安全溶剂中具有高溶解性和高灵敏度并能获得良好抗蚀剂图案形状的化合物、一种含有该化合物的辐射敏感组合物以及一种使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法。 解决方法是由基于多酚的环状化合物（A）和具有特定结构的化合物（C）反应得到的化合物（B），含有该化合物的辐射敏感性组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法。
• Lichtenberger; Martin, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1947, p. 474
  作者：Lichtenberger、Martin

  DOI：——

  日期：——
• Lupo, B.; Gal, M.; Tarrago, G., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1984, vol. 2, # 11-12, p. 464 - 472
  作者：Lupo, B.、Gal, M.、Tarrago, G.

  DOI：——

  日期：——
• DE831992
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——