6-Ethoxy-3,4-dihydro-2H-pyran | 103781-88-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 6-Ethoxy-3,4-dihydro-2H-pyran
• 英文别名: 2-ethoxy-5,6-dihydropyran；6-Ethoxy-2,3-dihydropyran
• CAS: 103781-88-0
• 化学式: C₇H₁₂O₂
• 分子量: 128.171
• InChiKey: MONCCXUVJLSBQI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  197.6±29.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.97±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-Ethoxy-3,4-dihydro-2H-pyran 在 磷酸 作用下， 以 水 为溶剂， 以38%的产率得到(E)-penta-2,4-dienal
  参考文献：
  名称：

  在合成抗毒素-a（非常快的死亡因子）中使用硝酮

  摘要：

  Anatoxin-a（1）的合成是通过将1-pyrroline 1-oxide（2）环加成到二烯醇（6）上来完成的，该反应以高立体选择性，区域选择性和位点选择性进行。将所得的加合物（即7）氧化为第二硝酮（即8），将其进行第二次封闭以提供具有区域特异性的环加合物9a。将9a转化为盐酸Anatoxin-a（1 ·HCl）既直接又有效。

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(01)96699-2

文献信息

• Photosensitive copolymers of alkyl vinyl ether and resist compositions containing the same
  申请人：SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.

  公开号：EP1120689A2

  公开（公告）日：2001-08-01

  There are provided a photosensitive polymer having a copolymer of alkyl vinyl ether and a resist composition containing the same. The photosensitive polymer includes a copolymer of alkyl vinyl ether and maleic anhydride, represented by the following structure: wherein X is one of a linear alkyl vinyl ether and a cyclic alkyl vinyl ether, which are respectively represented by the structures wherein y is one of the integer values 1 through 4, R1 is one of a hydrogen atom and a methyl group, R2 is a C1 to C20 hydrocarbon, and R3 is one of a hydrogen atom, a C1 to C3 alkyl group and an alkoxy group.

  本发明提供了一种具有烷基乙烯基醚共聚物的光敏聚合物和含有该聚合物的抗蚀剂组合物。光敏聚合物包括烷基乙烯基醚和马来酸酐的共聚物，其结构如下： 其中 X 是线性烷基乙烯基醚和环状烷基乙烯基醚中的一种，它们分别由以下结构表示 其中 y 为 1 至 4 的整数值之一，R1 为氢原子和甲基之一，R2 为 C1 至 C20 碳氢化合物，R3 为氢原子、C1 至 C3 烷基和烷氧基之一。
• Photosensitive polymer including copolymer of alkyl vinyl ether and resist composition containing the same
  申请人：SAMSUNG ELECTRONIC CO. LTD.

  公开号：EP1830229A2

  公开（公告）日：2007-09-05

  There are provided a photosensitive polymer having a copolymer of alkyl vinyl ether and a resist composition containing the same. The photosensitive polymer includes a copolymer of alkyl vinyl ether and maleic anhydride, represented by the following structure: wherein X is one of a linear alkyl vinyl ether and a cyclic alkyl vinyl ether, which are respectively represented by the structures wherein y is one of the integer values 1 through 4, R1 is one of a hydrogen atom and a methyl group, R2 is a C1 to C20 hydrocarbon, and R3 is one of a hydrogen atom, a C1 to C3 alkyl group and an alkoxy group.

  本发明提供了一种具有烷基乙烯基醚共聚物的光敏聚合物和含有该聚合物的抗蚀剂组合物。光敏聚合物包括烷基乙烯基醚和马来酸酐的共聚物，其结构如下： 其中 X 是线型烷基乙烯基醚和环型烷基乙烯基醚中的一种，它们分别由以下结构表示 其中 y 为 1 至 4 的整数值之一，R1 为氢原子和甲基之一，R2 为 C1 至 C20 碳氢化合物，R3 为氢原子、C1 至 C3 烷基和烷氧基之一。
• Schulz, Dieter; Simchen, Gerhard, Liebigs Annalen der Chemie, 1990, # 8, p. 745 - 750
  作者：Schulz, Dieter、Simchen, Gerhard

  DOI：——

  日期：——
• SCHULZ, DIETER;SIMCHEN, GERHARD, LIEBIGS ANN. CHEM.,(1990) N, C. 745-750
  作者：SCHULZ, DIETER、SIMCHEN, GERHARD

  DOI：——

  日期：——
• AKOPYAN, K. G.;SAYADYAN, A. P.;DZHOMARDYAN, A. G.;GARIBYAN, G. X.;MORLYAN+, ARM. XIM. ZH., 41,(1988) N 3, 160-163
  作者：AKOPYAN, K. G.、SAYADYAN, A. P.、DZHOMARDYAN, A. G.、GARIBYAN, G. X.、MORLYAN+

  DOI：——

  日期：——