Verfahren zur Herstellung von 4-Halogen- und 0,0-Dialkyl-4-phosphono-2-methyl-2-butensäurealkylestern mit hohem Anteil an E-Isomeren, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man die entsprechenden 2-Hydroxy-2-methyl-3-butensäurealkylester bei Temperaturen von 0 bis 80°C in Abwesenheit von Pyridin mit PBr₃ oder PCl₃ umsetzt und gewünschtenfalls das erhaltene Gemisch bestehend aus überwiegend 4-Halogen-2-methyl-2-butensäurealkylester und wenig 2-Halogen-2-methyl-3-butensäurealkylester bei Temperaturen von 70 bis 140°C mit Phosphorigsäuretrialkylestern umsetzt.
Die Verfahrensprodukte sind begehrte C₅-Bausteine für Polyensynthesen bzw. Vorstufen davon.
制备具有高比例 E 异构体的 4-卤代和 0,0-二烷基-4-膦酰基-
2-甲基-2-丁烯酸 烷基酯的工艺,其特征在于相应的
2-羟基-2-甲基-3-丁烯酸烷基酯与 PBr₃或 PCl₃在 0 至 80℃的温度下在无
吡啶的条件下反应,如果需要,将得到的主要由 4-卤代-
2-甲基-2-丁烯酸烷基酯和少量 2-卤代-
2-甲基-3-丁烯酸烷基酯组成的混合物与
磷三烷基酯在 70 至 140℃的温度下反应。
该工艺产物是聚烯合成所需的 C₅结构单元或其前体。