3,3,3-三氟-2-羟基-2-三氟甲基丙酸甲酯 | 7594-51-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 3,3,3-三氟-2-羟基-2-三氟甲基丙酸甲酯
• 英文名称: methyl 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propionate
• 英文别名: Methyl 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethylpropionate；methyl 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propanoate
• CAS: 7594-51-6
• 化学式: C₅H₄F₆O₃
• 分子量: 226.075
• InChiKey: GZNNMGJAIPPJBM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  209.7±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.560±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,3,3-三氟-2-羟基-2-三氟甲基丙酸甲酯 在 sodium methylate 作用下， 以 乙二醇 、 苯 为溶剂， 以76%的产率得到氯乙酸
  参考文献：
  名称：

  CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ArF IMMERSION LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING PROCESS

  摘要：

  一种化学增感正型光刻胶组合物，包括（A）三氟甲基-3,3,3-三氟-2-羟基-2-丙酸磺酸盐，（B）酸发生剂，（C）碱性树脂和（D）有机溶剂，适用于ArF浸没光刻。羧酸磺酸盐具有高度疏水性，在浸没水中几乎不溶出。通过控制酸扩散，可以构建具有高分辨率的图案轮廓。

  公开号：

  US20130034813A1
• 作为产物：
  描述：

  重氮甲烷 、 2-羟基-3,3,3-三氟-2-(三氟甲基)丙酸 生成 3,3,3-三氟-2-羟基-2-三氟甲基丙酸甲酯
  参考文献：
  名称：

  Setileuton 的发现，一种有效且选择性的 5-脂氧化酶抑制剂

  摘要：

  描述了人类 5-脂肪氧化酶 (5-LO) 的新型选择性抑制剂的发现。这些化合物是有效的、口服生物可利用的，并且在狗 PK/PD 模型中在体内抑制白三烯生物合成方面具有活性。优化过程的一个主要焦点是降低对人类 ether-a-go-go 基因钾通道的亲和力，同时保持对 5-LO 的抑制效力。这些努力导致了抑制剂 ( S ) -16（MK-0633，setileuton）的鉴定，该化合物被选为临床开发用于治疗呼吸系统疾病的化合物。

  DOI：

  10.1021/ml100029k

文献信息

• PREPARATION OF 2,2-BIS (FLUOROALKYL) OXIRANE AND PREPARATION OF PHOTOACID GENERATOR THEREFROM
  申请人：SAGEHASHI Masayoshi

  公开号：US20130005997A1

  公开（公告）日：2013-01-03

  A 2,2-bis(fluoroalkyl)oxirane (A) is prepared by reacting a fluorinated alcohol (1) with a chlorinating, brominating or sulfonylating agent under basic conditions to form an oxirane precursor (2) and subjecting the oxirane precursor to ring closure under basic conditions. R 1 and R 2 are fluoroalkyl groups, R 3 and R 4 are hydrogen or monovalent hydrocarbon groups, X is chlorine, bromine or —OSO 2 R 5 group, and R 5 is alkyl or aryl.

  一种2,2-双(氟烷基)环氧烷（A）是通过将氟化醇（1）与氯化、溴化或磺化试剂在碱性条件下反应以形成环氧烷前体（2），然后将环氧烷前体在碱性条件下进行环闭合制备的。R1和R2是氟烷基，R3和R4是氢或一价碳氢基团，X是氯、溴或—OSO2R5基团，R5是烷基或芳基。
• Fluoroalcohol preparation method, fluorinated monomer, polymer, resist composition and patterning process
  申请人：Hasegawa Koji

  公开号：US20070179309A1

  公开（公告）日：2007-08-02

  Fluoroalcohol compounds of formula (4) are prepared by reacting a fluorine compound of formula (1) with reducing agents or organometallic reagents of formulas (2) and (3) wherein R 1 is H or a monovalent C 1 -C 20 hydrocarbon group in which any —CH 2 — moiety may be replaced by —O— or —C(═O)—, R 2 is H or a monovalent C 1 -C 6 hydrocarbon group, R 3 and R 4 are H or a monovalent C 1 -C 8 hydrocarbon group, and M 1 is Li, Na, K, Mg, Zn, Al, B, or Si. From the fluoroalcohol compounds, fluorinated monomers can be produced in a simple and economic way, which are useful in producing polymers for the formulation of radiation-sensitive resist compositions.

  通过将化学式（1）的氟化合物与化学式（2）和（3）的还原剂或有机金属试剂反应制备化学式（4）的氟醇化合物，其中R1是H或一价的碳1-碳20烃基，其中任何一个—CH2—基团可能被—O—或—C(═O)—替代，R2是H或一价的碳1-碳6烃基，R3和R4是H或一价的碳1-碳8烃基，M1是Li、Na、K、Mg、Zn、Al、B或Si。通过这些氟醇化合物，可以简单经济地生产氟化单体，这些单体在制备用于辐射敏感抗蚀剂组合物的聚合物中非常有用。
• FLUORINATED MONOMER, FLUORINATED POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：HASEGAWA Koji

  公开号：US20090035699A1

  公开（公告）日：2009-02-05

  Fluorinated monomers of formula (1) are useful in producing polymers for the formulation of radiation-sensitive resist compositions. R 1 is H or monovalent C 1 -C 20 hydrocarbon group, R 2 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 3 and R 4 are H or a monovalent C 1 -C 8 hydrocarbon group, or R 3 and R 4 may form an aliphatic hydrocarbon ring, and A is a divalent C 1 -C 6 hydrocarbon group.

  式（1）的氟化单体在制备用于辐射敏感抗蚀组合物的聚合物方面很有用。 R1是H或一价的C1-C20碳氢基团，R2是H，F，甲基或三氟甲基，R3和R4是H或一价的C1-C8碳氢基团，或R3和R4可以形成脂肪烃环，A是二价的C1-C6碳氢基团。
• FLUOROALCOHOL, FLUORINATED MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：HASEGAWA Koji

  公开号：US20120077121A1

  公开（公告）日：2012-03-29

  Fluoroalcohol compounds of formula (1) are useful in producing polymers which are used as the base resin to formulate radiation-sensitive resist compositions having transparency to radiation having a wavelength of up to 500 nm and improved development characteristics. R 1 is hydrogen or a monovalent C 1 -C 20 hydrocarbon group in which any constituent —CH 2 — moiety may be replaced by —O— or —C(═O)—, Aa is a (k 1 +1)-valent C 1 -C 20 hydrocarbon or fluorinated hydrocarbon group, and k 1 is 1, 2 or 3.

  公式（1）的氟醇化合物在生产用作基础树脂的聚合物方面很有用，这些聚合物用于配制对波长高达500纳米的辐射具有透明性和改进的开发特性的辐射敏感型光刻胶组合物。R1是氢或一价的C1-C20碳氢基团，在其中任何成分的—CH2—基团可以被—O—或—C(═O)—替代，Aa是(k1+1)-价的C1-C20碳氢基团或氟化碳氢基团，k1为1、2或3。
• 碘鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法
  申请人：信越化学工业株式会社

  公开号：CN110885282B

  公开（公告）日：2023-04-18

  本发明为碘鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供了新的羧酸碘鎓盐和包含其作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当将所述抗蚀剂组合物通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行加工时，形成在矩形性、MEF、LWR和CDU方面得以改进的抗蚀剂图案。