3,4-甲酚 | 15831-10-4

• 物质功能分类: 有机原料 - 醇、酚、酚醇类化合物及衍生物 - 酚及其卤化、磺化、硝化或亚硝化衍生物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 中文名称: 3,4-甲酚
• 中文别名: 克里撒酸；间对甲酚
• 英文名称: M-cresol; P-cresol
• 英文别名: 3-methylphenol;4-methylphenol
• CAS: 15831-10-4；84989-04-8
• 化学式: C14H16O2
• mdl: MFCD00071734
• 分子量: 216.27
• InChiKey: PHVAHRJIUQBTHJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.04
• 闪点：
  82 °C
• 介电常数：
  9.0（Ambient）

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.18
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.142
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2905199090

制备方法与用途

用途
用于医药、塑料、农药及油漆等工业，也用作显影剂。

生产方法
可由切除3,5-二甲酚馏分后的工业二甲酚残渣，在精馏塔内切取223～226℃的馏分，经冷却结晶和离心分离而获得。另外，以邻二甲苯为原料，经过硫酸磺化、碱熔、酸析及蒸馏等步骤，也可得到3,4-二甲酚。

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  对甲酚 、 间甲酚 以D-2: Novolak resin (novolak resin obtained的产率得到3,4-甲酚
  参考文献：
  名称：

  CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME

  摘要：

  一种化学增感光敏树脂组合物，包括式（1）和/或式（4）所表示的化合物，具有酸解离溶解控制基团的树脂，其在酸作用下碱溶性增加或可溶于碱的树脂，光酸发生剂和有机溶剂，其中固体浓度为40%至65%的质量百分比。其中，R1、R2和R3独立地表示氢原子或烷基，R4表示式（2）或（3）所表示的基团，而R5和R6表示可能具有取代基的一价碳氢基团。

  公开号：

  US20150044613A1

文献信息

• Bacterium KB2
  申请人：Canon Kabushiki Kaisha

  公开号：US05665597A1

  公开（公告）日：1997-09-09

  A biologically pure culture of Pseudomonas alcaligenes KB2 (Deposition No. FERM P-14644) which can decompose at least one of aromatic compounds and haloorganic compounds, and a process utilizing this strain to decompose these compounds, and a process for remedying environment polluted with these compounds utilizing this microorganism.

  一种生物纯的假单胞菌Pseudomonas alcaligenes KB2（存储编号为FERM P-14644），该菌株能够分解至少一种芳香族化合物和卤代有机化合物，以及利用该菌株分解这些化合物的过程，以及利用这种微生物治理受这些化合物污染的环境的过程。
• Chemical amplification type positive resist composition
  申请人：——

  公开号：US20030114589A1

  公开（公告）日：2003-06-19

  A chemical amplification type positive resist composition comprising a novolak resin, a resin insoluble or poorly soluble itself in an alkali aqueous solution but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid, and an acid generator, wherein when the novolak resin is measured by gel permeation chromatography (GPC) using a 254 nm UV detector using polystyrene as a standard, the area ratio of components having molecular weights of 1000 or less is 25% or less based on the total pattern area excepting unreacted monomers; and the chemical amplification type positive resist composition can reduce cost without deteriorating basic abilities such as sensitivity, resolution and the like, and shows small unevenness due to standing wave, and can improved pattern profile, particularly, line edge roughness.

  一种化学增强型正性光刻胶组合物，包括诺伍拉克树脂、一种在碱性水溶液中本身不溶或难溶，但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液的树脂，以及酸发生剂。其中，当使用254nm紫外线检测器以聚苯乙烯为标准，通过凝胶渗透色谱（GPC）测量诺伍拉克树脂时，分子量小于1000的组分的面积比例在除未反应单体外的总图案面积中为25％或以下。该化学增强型正性光刻胶组合物可以降低成本而不会破坏基本能力，如灵敏度、分辨率等，并且由于驻波引起的不均匀性小，可以提高图案轮廓，尤其是线边粗糙度。
• Dye-containing resist composition and color filter using same
  申请人：Suzuki Masayoshi

  公开号：US20060172206A1

  公开（公告）日：2006-08-03

  There is provided a color resist composition comprising a resin (A), a photoacid generator or a photobase generator (B), a crosslinking compound (C) and a dye mixture (D) containing a dye having a structure of amino sulfonate ester or ammonium sulfonate salt in a proportion of 40 to 95% by weight on total dye content. Preferably, resin (A) is polyvinyl phenol or a copolymer thereof, and the color resist composition has an optical quality having at least a region with a transmittance of 70% or more and a region with a transmittance of 10% or less in wavelength range between 400 nm and 700 nm, and in which a variation in transmittance is 5% or less even when the composition is subjected to a temperature of 200° C. or more. The color resist composition is applicable for color filters which exhibits a high spectrum reproducibility, a high light-resistance and a heat-resistance, and has a high resolution of 5 μm or less and no post development residue.

  提供了一种颜色抗蚀组合物，包括树脂（A）、光酸发生剂或光碱发生剂（B）、交联化合物（C）和染料混合物（D），其中染料混合物（D）含有一种具有氨基磺酸酯或铵磺酸盐结构的染料，占总染料含量的40-95%重量比。优选，树脂（A）是聚乙烯酚或其共聚物，颜色抗蚀组合物在400 nm到700 nm波长范围内具有至少一个透过率为70%或更高和一个透过率为10%或更低的区域，即使在组合物经过200℃或更高温度处理时，透过率变化也不超过5%。该颜色抗蚀组合物适用于颜色滤光片，具有高光谱重现性、高耐光性和耐热性，并具有5μm或更低的高分辨率和无后处理残留物。
• CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME
  申请人：Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.

  公开号：US20150056557A1

  公开（公告）日：2015-02-26

  A chemically amplified positive-type photosensitive resin composition including a compound represented by the following formula (1), having a melting point of 40° C. or lower at 1 atm, a resin whose solubility in alkali increases under the action of an acid, and a photoacid generator. In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an organic group; and R 2 , R 3 , and R 4 independently represent a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent, and at least two of R 2 , R 3 , and R 4 may be bonded to each other to form a cyclic structure.

  一种化学增感正型光敏树脂组合物，包括以下式子（1）所代表的化合物，其在1大气压下的熔点为40℃或更低，以及一种树脂，在酸的作用下其在碱中的溶解度增加，以及一种光酸发生剂。在式子中，R1代表氢原子或有机基团；R2、R3和R4分别独立地代表一种单价碳氢基团，可能具有取代基，且R2、R3和R4中至少有两个可以相互连接形成环状结构。
• Chemically amplified photosensitive resin composition and method for producing resist pattern using the same
  申请人：Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.

  公开号：US09372403B2

  公开（公告）日：2016-06-21

  A chemically amplified photosensitive resin composition including a compound represented by formula (1) and/or formula (4), a resin having an acid-dissociative dissolution-controlling group whose solubility in alkali increases under the action of an acid or an alkali-soluble resin, a photoacid generator, and an organic solvent, in which the solid concentration is 40% by mass to 65% by mass. R1, R2, and R3 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R4 represents a group represented by formula (2) or (3), and R5 and R6 represent a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent.

  一种化学增感光敏树脂组合物，包括式（1）和/或式（4）所代表的化合物、具有酸解离溶解控制基团的树脂，其在酸的或碱的作用下在碱中的溶解度增加或可溶于碱的树脂、光酸发生剂和有机溶剂，其中固体浓度为40%至65%。其中，R1、R2和R3分别表示氢原子或烷基，R4表示式（2）或（3）所表示的基团，R5和R6表示可能具有取代基的一价碳氢基团。