(3,4-difluoro-2-methylphenyl)methanol | 847502-86-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: (3,4-difluoro-2-methylphenyl)methanol
• 英文别名: 3,4-Difluoro-2-methylbenzyl alcohol
• CAS: 847502-86-7
• 化学式: C₈H₈F₂O
• mdl: MFCD07777158
• 分子量: 158.148
• InChiKey: NTTCNPWHTYWDLK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (3,4-difluoro-2-methylphenyl)methanol 在 四溴化碳 、 硫酸 、 水 、 三苯基膦 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 、 溶剂黄146 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 47.0h， 生成 2-(3,4-difluoro-2-methylphenyl)acetic acid
  参考文献：
  名称：

  [EN] HISTONE DEACETYLASE INHIBITORS AND COMPOSITIONS AND METHODS OF USE THEREOF
  [FR] INHIBITEURS D'HISTONE DÉSACÉTYLASE, ET COMPOSITIONS ET MÉTHODES D'UTILISATION ASSOCIÉES

  摘要：

  提供了一些组蛋白去乙酰化酶（HDAC）抑制剂，其化学公式为I，包括它们的组合物及使用方法。

  公开号：

  WO2014159224A1
• 作为产物：
  描述：

  3,4-二氟-2-甲基苯甲酸 在 草酰氯 、 sodium tetrahydroborate 作用下， 以 二氯甲烷 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 四氢呋喃 为溶剂， 反应 23.5h， 以82%的产率得到(3,4-difluoro-2-methylphenyl)methanol
  参考文献：
  名称：

  [EN] HISTONE DEACETYLASE INHIBITORS AND COMPOSITIONS
  [FR] INHIBITEURS D'HISTONE DÉSACÉTYLASE, ET COMPOSITIONS ET MÉTHODES D'UTILISATION DE CEUX-CI

  摘要：

  提供了某些Formula (I)的组织脱乙酰酶（HDAC）抑制剂，其组成物和使用方法。

  公开号：

  WO2014159218A1

文献信息

• Difluoroalkylaromatics
  申请人：Hilgers Petra

  公开号：US20050054733A1

  公开（公告）日：2005-03-10

  The present invention relates to 3,4-difluoro-2-alkylaromatics and 2,4-difluoro-3-alkylaromatics, to a process for their preparation and to their use for preparing active ingredients.

  本发明涉及3,4-二氟-2-烷基芳烃和2,4-二氟-3-烷基芳烃，涉及它们的制备方法以及它们用于制备活性成分的应用。
• [EN] HISTONE DEACETYLASE INHIBITORS AND COMPOSITIONS AND METHODS OF USE THEREOF<br/>[FR] INHIBITEURS D'HISTONE DÉSACÉTYLASE, ET COMPOSITIONS ET MÉTHODES D'UTILISATION ASSOCIÉES
  申请人：CHDI FOUNDATION INC

  公开号：WO2014159224A1

  公开（公告）日：2014-10-02

  Provided are certain histone deacetylase (HDAC) inhibitors of Formula I, compositions thereof, and methods of their use.

  提供了一些组蛋白去乙酰化酶（HDAC）抑制剂，其化学公式为I，包括它们的组合物及使用方法。
• COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINED PATTERN USING SAME
  申请人：Okamura Toshira

  公开号：US20140127478A1

  公开（公告）日：2014-05-08

  The present invention provides a resist pattern-forming composition capable of forming a resist pattern excellent in etching resistance. The invention also provides a resist pattern formation method using that composition. The composition comprises pure water and a water-soluble resin having aromatic group-containing substituents in its side chain. The composition also contains a free acid or an acid group combined with the water-soluble resin.

  本发明提供了一种能够形成具有优异蚀刻抗性的光阻图案的光阻图案形成组合物。该发明还提供了使用该组合物的光阻图案形成方法。该组合物包括纯水和具有含芳香基取代基的侧链的水溶性树脂。该组合物还含有自由酸或与水溶性树脂结合的酸基。
• HISTONE DEACETYLASE INHIBITORS AND COMPOSITIONS AND METHODS OF USE THEREOF
  申请人：CHDI Foundation, Inc.

  公开号：US20160031876A1

  公开（公告）日：2016-02-04

  Provided are certain histone deacetylase (HDAC) inhibitors of Formula I, compositions thereof, and methods of their use.

  提供了某些式I的组蛋白去乙酰化酶（HDAC）抑制剂，其组成物以及使用它们的方法。
• Difluoralkylaromaten
  申请人：Bayer Chemicals AG

  公开号：EP1514864A2

  公开（公告）日：2005-03-16

  Die vorliegende Erfindung betrifft 3,4-Difluor-2-alkylaromaten und 2,4-Difluor-3-alkylaromaten, ein Verfahren zu deren Herstellung sowie ihre Verwendung zur Herstellung von Wirkstoffen.

  本发明涉及 3,4-二氟-2-烷基芳烃和 2,4-二氟-3-烷基芳烃、其制备方法以及在制备活性化合物中的用途。