甲基丙烯酰氧甲基三甲基硅烷 | 18269-97-1

• 物质功能分类: 化学试剂 - 硅烷试剂
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 甲基丙烯酰氧甲基三甲基硅烷
• 中文别名: 丙烯酸氧基甲基三甲基硅烷
• 英文名称: methacrylic acid trimethylsilanylmethyl ester
• 英文别名: Methacrylsaeure-trimethylsilylmethylester；Methacroyloxymethyl-trimethyl-silan；Methacryloxymethyltrimethylsilane；trimethylsilylmethyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 18269-97-1
• 化学式: C₈H₁₆O₂Si
• mdl: MFCD00054807
• 分子量: 172.299
• InChiKey: VGOXVARSERTCRY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  98 °C
• 密度：
  0.883
• 闪点：
  45°C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.77
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.625
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• TSCA：
  No
• 安全说明：
  S16,S26,S36/37/39
• 危险类别码：
  R10,R36/37/38
• 危险品运输编号：
  UN 1993
• 海关编码：
  2931900090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  甲基丙烯酰氧甲基三甲基硅烷 、 甲基丙烯酸叔丁酯 、 偶氮二异丁腈 、 水 以 甲苯 、 甲醇 为溶剂， 反应 0.25h， 生成 Trimethylsilylmethyl methacrylate tertiarybutyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  Resist material including si-containing resist having acid removable

  摘要：

  使用一种抗蚀材料，包括含硅丙烯酸酯的共聚物和含有酸消除基团的丙烯酸酯，并使用光酸发生剂进行辐照，形成一种精细的图案。该材料的极性在消除基团后发生变化，并变得可溶于水性碱溶液。

  公开号：

  US05856071A1
• 作为产物：
  描述：

  氯甲基三甲基硅烷 、 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 生成 甲基丙烯酰氧甲基三甲基硅烷
  参考文献：
  名称：

  Notes - Methacryloxymethyl and Acryloxymethyl Silicones

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo01118a621

文献信息

• Photosensitive thick film composition
  申请人：INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE

  公开号：US20030162128A1

  公开（公告）日：2003-08-28

  A photosensitive thick film composition. The photosensitive thick film composition can produce electrode material with high resolution and high contrast. The photosensitive thick film composition includes an acrylic copolymer, a photoinitiator, a reactive monomer, a conductive metal, glass powder, an additive, and an organic solvent.

  一种光敏厚膜组合物。该光敏厚膜组合物能够制备具有高分辨率和高对比度的电极材料。该光敏厚膜组合物包括丙烯酸共聚物、光引发剂、反应性单体、导电金属、玻璃粉末、添加剂和有机溶剂。