摩熵化学
数据库官网
小程序
打开微信扫一扫
首页 分子通 化学资讯 化学百科 反应查询 关于我们
请输入关键词

2,2,2-tribromo-1-(2,4-dimethylphenyl)ethanone | 14866-57-0

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2,2,2-tribromo-1-(2,4-dimethylphenyl)ethanone
英文别名
——
2,2,2-tribromo-1-(2,4-dimethylphenyl)ethanone化学式
CAS
14866-57-0
化学式
C10H9Br3O
mdl
——
分子量
384.893
InChiKey
YQSWHOKVTBVSEE-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.7
  • 重原子数:
    14
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.3
  • 拓扑面积:
    17.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

点击查看最新优质反应信息

文献信息

  • Decarboxylative Tribromination for the Selective Synthesis of Tribromomethyl Ketone and Tribromovinyl Derivatives
    作者:Aravindan Jayaraman、Eunjeong Cho、Jimin Kim、Sunwoo Lee
    DOI:10.1002/adsc.201800851
    日期:2018.10.18
    Tribromomethyl ketone and tribromovinyl derivatives were selectively prepared from the decarboxylative tribromination. The reaction between propiolic acid derivatives and dibromoisocyanuric acid (DBCA)/H2O afforded predominantly a tribromomethyl ketone derivative in the presence of AgOAc (10 mol%). When the same reaction was conducted with 2,2,6,6‐tetramethyl‐1‐piperidinyloxy (TEMPO) instead of AgOAc
    由脱羧三溴化作用选择性地制备三溴甲基酮和三溴乙烯基衍生物。在AgOAc(10mol%)存在下,丙酸衍生物与二溴异氰尿酸(DBCA)/ H 2 O之间的反应主要得到三溴甲基酮衍生物。当用2,2,6,6-四甲基-1-哌啶基氧基(TEMPO)代替AgOAc进行相同的反应时,仅以高收率形成了三溴乙烯基衍生物。发现乙炔基溴是中间体。
  • Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0006627A2
    公开(公告)日:1980-01-09
    Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben. das (a) eine unter Einwirkung von aktinischer Strahlung. insbesondere UV-Licht, Säure bildende Verbindung und (b) eine Verbindung enthält, die mindestens eine Enoläthergruppe entnält, und deren Löslichkeit in einem flüßigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird. Der Enoläther ist bevorzugt eine Verbindung der ailgemeinen Formel I in der R, einen n-wertigen aliphatischen Rest mit wenigstens 2 Kohlenstoffatomen bedeutet. R2, R3 und R4 gleich oder verschieden sind und Wasserstoffatome. Alkyl- oder Arylreste bedeuten oder jeweils zu zweit zu einem gesättigten oder olefinisch ungesättigten Ring verbunden sind, und eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist. Das Gemisch wird in Form einer strahlungsempfindlichen Schicht bildmäßig bestrahlt und an den bestrahlten Stellen mit einem Entwickler ausgewaschen, so daß ein positives Reliefbild entsteht
    本文描述了一种辐射敏感混合物,它含有 (a) 在光辐射,特别是紫外线作用下会形成酸的化合物,以及 (b) 至少含有一个烯醇醚基团的化合物,在酸的作用下,该化合物在液体显影剂中的溶解度会增加。烯醇醚最好是通式 I 的化合物 其中 R 是至少有 2 个碳原子的正价脂族基。 R2、R3 和 R4 相同或不同,均为氢原子。是烷基或芳基,或各自成对连接形成饱和环或烯烃不饱和环,以及 是 1 至 4 的整数。 混合物以辐射敏感层的形式进行图像辐照,并用显影剂冲洗辐照区域,从而形成正浮雕图像。
  • Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0184044A2
    公开(公告)日:1986-06-11
    Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch und ein daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Druckplatten und Photoresists beschrieben, das ein 1, 2-Chinondiazid oder eine Kombination aus 1.) einer unter Einwirkung von atkinischer Strahlung eine starke Säure bildenden Verbindung und 2.) einer Verbindung mit mindestens einer spaltbaren C-O-C-Bindung enthält, deren Löslichkeit in einem flüssigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, und als Bindemittel ein Polymeres mit seitenständigen vernetzenden Gruppen der Formel -CH20R enthält, worin R ein Wasserstoffatom, eine niedere Alkyl-, Acyl- oder Hydroxyalkylgruppe ist. Das Gemisch läßt sich nach dem Belichten und Entwickeln thermisch härten und ergibt eine Bildschablone mit sauberem Hintergrund.
    辐射敏感混合物、用其制备的记录材料和生产耐热浮雕记录的工艺 本文描述了一种辐射敏感混合物及其制备的记录材料,用于生产印版和光刻胶,该混合物包括 1, 2-重氮醌或其组合 1.) 在阿特金酸辐射下会形成强酸的化合物,以及 2.) 具有至少一个可裂解 C-O-C 键的化合物,其在液体显影剂中的溶解度在酸的作用下会增加、 并含有一种聚合物作为粘合剂,该聚合物具有-CH20R 式的悬垂交联基团,其中 R 为氢原子、低级烷基、酰基或羟烷基。该混合物在曝光和显影后可进行热固化,并生成具有干净背景的图像模板。
  • Polymere Verbindungen und diese enthaltendes strahlungsempfindliches Gemisch
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0212439A2
    公开(公告)日:1987-03-04
    Es werden neue Polymere mit wiederkehrenden Einheiten der allgemeinen Formel I beschrieben, worin R ein Wasserstoff- oder Halogenatom, eine Cyanid­gruppe oder eine Alkylgruppe ist, R¹, R² und R³ gleich oder verschieden sind und Wasserstoff- ­oder Halogenatome, Alkyl-, Alkoxy- oder Alkoxycarbonylgruppen bedeuten, R⁴ ein Wasserstoffatom oder ein zweiwertiger Rest ist, A die zur Vervollständigung eines ein- oder zweikernigen aromatischen Ringsystems er­forderlichen Atome bedeutet und m 2 oder 3 ist. Die neuen Polymeren werden als Bindemittel in positiv arbeitenden strahlungsempfindlichen Aufzeichnungs­materialien eingesetzt.
    具有通式 I 循环单元的新型聚合物 其中 R 是氢原子或卤素原子、氰基或烷基、 R¹、R² 和 R³ 相同或不同,表示氢原子或卤素原子、烷基、烷氧基或烷氧羰基、 R⁴ 是氢原子或二价基、 A 表示完成单核或双核芳香环系统所需的原子,且 m 为 2 或 3。 这种新型聚合物可用作正工作辐射敏感记录材料的粘合剂。
  • In wässrigem Alkali lösliche, Silanylgruppen in der Seitenkette enthaltende Bindemittel, Verfahren zu deren Herstellung sowie lichtempfindliches Gemisch, enthaltend diese Verbindungen
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0337188A1
    公开(公告)日:1989-10-18
    Es wird ein aliphatische und/oder aromatische Hydroxylgruppen tragendes Bindemittel beschrieben, das in Alkali löslich, zumindest aber quellbar ist und in der Seitenkette Einheiten der allgemeinen Formeln I und II enthält und worin A eine Silanylgruppe mit mindestens 2 miteinander verknüpften Siliciumatomen insgesamt, aber nicht mehr als 3 miteinander verknüpften Siliciumatomen in einer unverzweigten Kette aus Siliciumatomen, B eine Brückengruppe und C eine funktionelle Gruppe, die mit aromatischen und/oder aliphatischen bzw. cycloaliphatischen Hydroxylgruppen des Bindemittels und/oder der Gruppen D und/oder E eine kovalente Bindung ausgebildet hat, D einen ein- oder mehrwertigen aliphatischen bzw. cycloaliphatischen Alkohol und E einen ein- oder mehrwertigen aromatischen Alkohol, die ggf. über mindestens einer ihrer Hydroxylfunktionen eine Bindung zur Gruppe C der Funktionseinheit (A-Bn)mC hergestellt haben, sowie n 0 oder 1, m 1 oder 2 und o, p, u und v 0 oder 1 bedeuten. Die dieses Bindemittel enthaltenden lichtempfindlichen Gemische sind plasmaätzbeständig und lagerstabil und weisen eine hohe Wärmestabilität auf.
    所述脂肪族和/或芳香族羟基粘合剂可溶于碱,或至少可溶于碱,其侧链中含有通式 I 和 II 的单元 和 其中 A 是硅烷基,在未支链的硅原子链中至少有 2 个硅原子相连,但不超过 3 个硅原子相连、 B 是桥基,以及 C 与粘合剂和/或 D 和/或 E 的芳香族和/或脂肪族或环脂族羟基形成共价键的官能团、 D 是一元或多元脂肪族或环脂肪族醇,和 E 是一元或多元芳香醇,可通过至少一个羟基官能团与官能团单元 (A-Bn)mC 的基团 C 形成键合,且 n 为 0 或 1、 m 1 或 2,以及 o、p、u 和 v 为 0 或 1 意思是 含有这种粘合剂的光敏混合物具有耐等离子蚀刻性、储存稳定性和较高的热稳定性。
查看更多