3-甲氧基-2,3-二甲基-丁-1-烯 | 82992-72-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 3-甲氧基-2,3-二甲基-丁-1-烯
• 英文名称: 3-methoxy-2,3-dimethyl-but-1-ene
• 英文别名: 1.1.2-Trimethyl-2-propenylmethylaether；3-Methoxy-2,3-dimethyl-but-1-en；3-Methoxy-2,3-dimethylbuten-1；3-Methoxy-2,3-dimethyl-1-butene；3-methoxy-2,3-dimethylbut-1-ene
• CAS: 82992-72-1
• 化学式: C₇H₁₄O
• 分子量: 114.188
• InChiKey: FQWYSXVYQBOOAX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  107.0±9.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.785±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,3-二甲基-2-丁烯 在 N-溴代丁二酰亚胺(NBS) 、 硫酸 、 silver fluoride 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 3-甲氧基-2,3-二甲基-丁-1-烯
  参考文献：
  名称：

  Stable carbonium ions. XLVIII. Halonium ion formation via neighboring halogen participation. Tetramethylethylene halonium ions

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00994a031

文献信息

• Exciplex and radical ion intermediates in the photochemical reaction of 9-cyanophenanthrene with 2,3-dimethyl-2-butene
  作者：Frederick D. Lewis、Robert J. DeVoe

  DOI：10.1016/0040-4020(82)80124-5

  日期：1982.1

  The photochemical reaction of 9-cyanophenanthrene and 2,3-dimethyl-2-butene, first reported by Mizuno, Pac and Sakurai, has been reinvestigated. The formation of a [2+2]-cycloadduct via a singlet exciplex is the exclusive reaction in the nonpolar solvents benzene and ethyl acetate. Photochemical behavior in polar solvents is far more complicated than previously reported. Mechanisms consistent with

  由Mizuno，Pac和Sakurai首次报道的9-氰基菲和2,3-二甲基-2-丁烯的光化学反应已被重新研究。通过单重态激基复合物形成[2 + 2]-环加合物是在非极性溶剂苯和乙酸乙酯中的排他性反应。在极性溶剂中的光化学行为比以前报道的要复杂得多。提出了与溶剂极性，甲醇浓度，甲醇氘化和光强度对产物收率的影响一致的机理。9-氰基菲蒽阴离子基团和2,3-二甲基-2-丁烯阳离子基团的形成是极性溶剂中主要的光引发过程。阳离子可以进行去质子化反应，以产生烯丙基，或被甲醇进行亲核攻击以产生甲氧基烷基。这些基团和9-氰基菲菲阴离子基团的共价键合产生了在极性溶剂中获得的无环加合物。阴离子自由基也可以被质子化，最终导致9,10-二氢-9-氰基菲的形成。
• Photochemistry of alkenes. Direct irradiation in hydroxylic media
  作者：Paul J. Kropp、Edward J. Reardon、Zalman L. F. Gaibel、Kenny F. Williard、James H. Hattaway

  DOI：10.1021/ja00802a029

  日期：1973.10
• Photochemistry of olefins. Radical-cation behavior
  作者：Edward J. Reardon、Paul J. Kropp

  DOI：10.1021/ja00750a056

  日期：1971.10
• CURRENT-EFFICIENT SUPPRESSORS AND METHOD OF USE
  申请人：DIONEX CORPORATION

  公开号：EP1141697B1

  公开（公告）日：2007-08-15
• RESIST UNDERLAYER FILM COMPOSITION, PROCESS FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING PROCESS AND FULLERENE DERIVATIVE
  申请人：Watanabe Takeru

  公开号：US20110195362A1

  公开（公告）日：2011-08-11

  There is disclosed a resist underlayer film composition of a multilayer resist film used in lithography including (A) a fullerene derivative having a carboxyl group protected by a thermally labile group and (B) an organic solvent. There can be a resist underlayer film composition of a multilayer resist film used in lithography for forming a resist underlayer in which generation of wiggling in substrate etching can be highly suppressed and the poisoning problem in forming an upper layer pattern using a chemically amplified resist can be avoided, a process for forming the resist underlayer film, a patterning process and a fullerene derivative.