(E)-3-Phenyl-acrylic acid cyano-methyl-methyl ester | 116704-41-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 肉桂酸及其衍生物
• 英文名称: (E)-3-Phenyl-acrylic acid cyano-methyl-methyl ester
• 英文别名: 1-cyanoethyl 3-phenylprop-2-enoate
• CAS: 116704-41-7
• 化学式: C₁₂H₁₁NO₂
• 分子量: 201.225
• InChiKey: GUYXANWAAZFTGV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.17
• 拓扑面积：
  50.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-oxo-1-((triphenyl-l5-phosphaneylidene)amino)propan-2-yl 3-phenylacrylate 以68%的产率得到(E)-3-Phenyl-acrylic acid cyano-methyl-methyl ester
  参考文献：
  名称：

  Babin, Pierre; Clin, Bernard; Dunogues, Jacques, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1987, # 6, p. 997 - 1000

  摘要：

  DOI：

文献信息

• SINGLE STEP ENANTIOSELECTIVE PROCESS FOR THE PREPARATION OF 3-SUBSTITUTED CHIRAL PHTHALIDES
  申请人：Council of Scientific & Industrial Research

  公开号：US20140330027A1

  公开（公告）日：2014-11-06

  The present invention discloses single step, highly enantioselective catalytic oxidative cyclization process for the synthesis of 3-substituted chiral phthalides. In particular, the invention discloses asymmetric synthesis of chiral phthalides via synergetic nitrile accelerated oxidative cyclization of o-cyano substituted aryl alkenes in high yield and enantiomeric excess (ee) in short reaction time. Also, disclosed herein is “one-pot” asymmetric synthesis of biologically important natural compounds having 3-substituted chiral phthalide structural framework in the molecule.

  本发明公开了一种单步、高对映选择性的催化氧化环化过程，用于合成3-取代手性邻苯二甲酸酐。具体来说，该发明公开了通过协同作用的腈加速氧化环化，以高产率和对映选择性（ee）在短反应时间内合成手性邻苯二甲酸酐的不对称合成方法。此外，还公开了一种“一锅法”不对称合成具有3-取代手性邻苯二甲酸酐结构框架的生物重要天然化合物。
• [EN] A SINGLE STEP ENANTIOSELECTIVE PROCESS FOR THE PREPARATION OF 3-SUBSTITUTED CHIRAL PHTHALIDES<br/>[FR] PROCÉDÉ ÉNANTIOSÉLECTIF EN UNE SEULE ÉTAPE POUR LA PRÉPARATION DE PHTALIDES CHIRAUX 3-SUBSTITUÉS
  申请人：COUNCIL SCIENT IND RES

  公开号：WO2013072830A9

  公开（公告）日：2014-02-20
• Coating composition
  申请人：Gallagher Michael K.

  公开号：US20080248331A1

  公开（公告）日：2008-10-09

  The invention relates to organic coating compositions useful for photolithographic processes including the manufacture of semiconductors and other electronic devices. Compositions of the invention comprise component that comprise a nitrile-containing component, such as a resin component that contains nitrile moieties. Compositions of the invention are particularly useful as an underlayer material in two, three, four or more layer pattern forming processes.
• US9073887B2
  申请人：——

  公开号：US9073887B2

  公开（公告）日：2015-07-07
• US9505733B2
  申请人：——

  公开号：US9505733B2

  公开（公告）日：2016-11-29