4-(4-甲基-4,5-二氢-1H-咪唑-2-基)苯酚 | 868260-15-5

• 物质功能分类: 有机原料 - 杂环化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 中文名称: 4-(4-甲基-4,5-二氢-1H-咪唑-2-基)苯酚
• 英文名称: 2-(4-hydroxyphenyl)-4,5-dihydro-4-methyl-1H-imidazole
• 英文别名: 4-(4-Methyl-4,5-dihydro-1H-imidazol-2-yl)phenol；4-(5-methyl-4,5-dihydro-1H-imidazol-2-yl)phenol
• CAS: 868260-15-5
• 化学式: C₁₀H₁₂N₂O
• mdl: MFCD07776876
• 分子量: 176.218
• InChiKey: PMBQYJGSKZZJKC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  286-290 °C
• 沸点：
  318.6±44.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.23±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.3
• 拓扑面积：
  44.6
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2933290090

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-羟基苯甲腈 、 1,2-丙二胺 在 H₄SiW₁₂O₄₀-SiO₂ 作用下， 反应 1.5h， 以75%的产率得到4-(4-甲基-4,5-二氢-1H-咪唑-2-基)苯酚
  参考文献：
  名称：

  用二氧化硅负载的钨硅酸高效催化合成 2-咪唑啉和双咪唑啉

  摘要：

  据报道，在回流条件下，在 SiO(2) 上负载的钨硅酸催化量的存在下，乙二胺或 1,2-丙二胺与腈反应，快速有效地制备 2-咪唑啉和双咪唑啉。该方法的优点是反应时间适中、产率高到高，并且能够进行大规模反应。

  DOI：

  10.3998/ark.5550190.0011.207

文献信息

• Efficient and one-pot catalytic synthesis of 2-imidazolines and bis-imidazolines with p-toluenesulfonic acid under solvent free conditions
  作者：Masoud Nasr-Esfahani、Morteza Montazerozohori、Safie Mehrizi

  DOI：10.1002/jhet.516

  日期：2011.3

  A practical, efficient, and inexpensive method for the synthesis of 2‐imidazoline from the reaction of nitriles with ethylenediamine or 1,2‐propanediamine using p‐toluenesulfonic acid or pyridinium p‐toluenesulfonate under reflux conditions is reported. This catalyst can be successfully applied for the chemoselective conversion of dicyanobenzenes to corresponding mono‐ and bis‐imidazolines. The applications

  据报道，在回流条件下，使用对甲苯磺酸或对甲苯磺酸吡啶鎓，由腈与乙二胺或1,2-丙二胺的反应合成2-咪唑啉的实用，高效且廉价的方法。该催化剂可成功用于将二氰基苯化学选择性转化为相应的单咪唑和双咪唑啉。这些催化剂的制备，易于处理，稳定性，价格便宜，活性好和生态友好等优点使其可行。J.杂环化​​学。（2011）。
• INK COMPOSITION AND METHOD OF FABRICATING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME
  申请人：KIM Sung-Hee

  公开号：US20100120181A1

  公开（公告）日：2010-05-13

  Disclosed are an ink composition and a method for fabricating a liquid crystal display (LCD) device using the same, wherein in forming patterns of the LCD device using an imprint lithography and a roll printing, an ink composition with high thermal resistance, consisting of polymer resin and additive both endurable even at a high temperature is used to form fine patterns with constantly maintaining pattern linewidths and line intervals, the ink composition consisting of 5-45% by weight of polymer resin, 5-45% by weight of additive added to retain thermal stability, and 50-90% by weight of organic solvent, wherein the ink composition is endurable even at a high temperature of 90-250° C.
• INK COMPOSITION FOR IMPRINT LITHOGRAPHY AND ROLL PRINTING
  申请人：LG Display Co., Ltd.

  公开号：US20150133582A1

  公开（公告）日：2015-05-14

  Disclosed are an ink composition for an imprint lithography and a roll printing, wherein in forming patterns of the LCD device using the imprint lithography and the roll printing, an ink composition with high thermal resistance, consisting of polymer resin and additive both endurable even at a high temperature is used to form fine patterns with constantly maintaining pattern linewidths and line intervals, and wherein the ink composition is endurable even at a high temperature of 90-250° C.
• US7935552B2
  申请人：——

  公开号：US7935552B2

  公开（公告）日：2011-05-03
• US9169409B2
  申请人：——

  公开号：US9169409B2

  公开（公告）日：2015-10-27