1,4-bis(2-benzoylethyl)piperazine | 13993-24-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1,4-bis(2-benzoylethyl)piperazine
• 英文别名: 1,1'-diphenyl-3,3'-piperazine-1,4-diyl-bis-propan-1-one；1,1'-Diphenyl-3,3'-piperazin-1,4-diyl-bis-propan-1-on；N,N'-Di(β-benzoylethyl)piperazin；N,N'-Bis-(2-benzoyl-ethyl)-piperazin；N,N-Bis(2-benzoylaethyl)piperazin；3-[4-(3-Oxo-3-phenylpropyl)piperazin-1-yl]-1-phenylpropan-1-one
• CAS: 13993-24-3
• 化学式: C₂₂H₂₆N₂O₂
• 分子量: 350.461
• InChiKey: PGNUAROEBCPZTA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  144 °C
• 沸点：
  512.8±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1?+-.0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  40.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,4-bis(2-benzoylethyl)piperazine 在 甲基碘化镁 作用下， 生成 1,4-bis-(3-hydroxy-3-phenyl-butyl)-piperazine
  参考文献：
  名称：

  Lespagnol et al., 1957, p. 185,187

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  哌嗪 在 三乙胺 作用下， 生成 1,4-bis(2-benzoylethyl)piperazine
  参考文献：
  名称：

  AMINE-FUNCTIONAL MONOMERS AND METHODS OF MAKING SAME

  摘要：

  Disclosed herein are addition-polymerizable monomer composition including an amine-derivatized alpha-methyl styrene (ADAMS) monomer according to structure (I) and/or an aminated conjugated aliphatic methylated polyene (ACAMP) monomer according to structure (II): with k, R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 defined herein. Difunctional monomers of these types with two polymerizable loci and/or two amine loci are also disclosed herein. Further disclosed herein are methods for making such compositions.

  公开号：

  US20240287009A1

文献信息

• Chemical mechanical planarization for tungsten-containing substrates
  申请人：AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.

  公开号：EP2779217A2

  公开（公告）日：2014-09-17

  Chemical mechanical polishing (CMP) compositions for polishing tungsten or tungsten-containing substrates comprise an abrasive, at least one solid catalyst, a chemical additive selected from the groups consisting of piperazine derivatives, salts of cyanate, and combinations thereof; and a liquid carrier. Systems and processes use the aqueous formulations for polishing tungsten or tungsten-containing substrates.

  用于抛光钨或含钨基材的化学机械抛光（CMP）组合物包括磨料、至少一种固体催化剂、一种选自哌嗪衍生物、氰酸盐及其组合的化学添加剂；以及一种液体载体。系统和工艺使用水性制剂抛光钨或含钨基材。
• DE379950
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• Mannich; Lammering, Chemische Berichte, 1922, vol. 55, p. 3518
  作者：Mannich、Lammering

  DOI：——

  日期：——
• 33. Pyrazoline ring formation. Part I. The action of phenylhydrazine on some saturated and unsaturated β-amino-ketones
  作者：Hugh B. Nisbet

  DOI：10.1039/jr9450000126

  日期：——
• Valenta, Vladimir; Bartosova, Marie; Protiva, Miroslav, Collection of Czechoslovak Chemical Communications, 1981, vol. 46, # 5, p. 1280 - 1287
  作者：Valenta, Vladimir、Bartosova, Marie、Protiva, Miroslav

  DOI：——

  日期：——