2,2-dimethyl-1-phenyl-octan-1-one | 873416-40-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2,2-dimethyl-1-phenyl-octan-1-one
• 英文别名: 2,2-Dimethyl-1-phenyl-octan-1-on；2,2-Dimethyl-1-phenyloctan-1-one
• CAS: 873416-40-1
• 化学式: C₁₆H₂₄O
• 分子量: 232.366
• InChiKey: NTUOZISIUMHJSX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  160-165 °C(Press: 10 Torr)
• 密度：
  0.918±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.5
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.56
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2-dimethyl-1-phenyl-octan-1-one 在 盐酸 、 alkaline KOBr 、 sodium amide 、 甲苯 作用下， 生成 2-甲基-2-辛胺
  参考文献：
  名称：

  Buu-Hoi; Cagniant, Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1946, vol. 65, p. 249

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 sodium amide 、 甲苯 作用下， 生成 2,2-dimethyl-1-phenyl-octan-1-one
  参考文献：
  名称：

  Buu-Hoi; Cagniant, Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1946, vol. 65, p. 249

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Curable ink composition and oxetane compound
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：EP1783184A1

  公开（公告）日：2007-05-09

  According to the present invention, provided are a curable composition containing a (A) compound which has a structure having two or more cyclic ether groups, in the molecule and a linking group linking the cyclic ether groups, which contains an alkylene group having 4 or more carbon atoms, or a curable composition containing a compound which has, in the molecule, two or more moiety structures containing 4-membered or more cyclic ether and a moiety structure represented by the following formula (Y-I), and an ink composition comprising the curable composition and a compound represented by the following formula (i).

  根据本发明，提供了一种可固化组合物，该组合物含有 (A) 化合物，其分子中具有两个或两个以上环醚基团的结构，以及连接环醚基团的连接基团，该连接基团含有具有 4 个或 4 个以上碳原子的亚烷基、 或一种可固化组合物，其中含有一种化合物，该化合物在分子中具有两个或两个以上含有 4 个或更多环醚的分子结构和由下式（Y-I）表示的分子结构，以及一种油墨组合物，该油墨组合物由该可固化组合物和由下式（i）表示的化合物组成。
• Carter; Slater, Journal of the Chemical Society, 1946, p. 132
  作者：Carter、Slater

  DOI：——

  日期：——
• TANNER, DENNIS D.;CHEN, JIAN JEFFREY, J. ORG. CHEM., 54,(1989) N6, C. 3842-3846
  作者：TANNER, DENNIS D.、CHEN, JIAN JEFFREY

  DOI：——

  日期：——
• US4089908A
  申请人：——

  公开号：US4089908A

  公开（公告）日：1978-05-16
• [EN] METHOD OF FORMING PATTERN AND ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR USE IN THE METHOD<br/>[FR] PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UN RAYONNEMENT OU AUX RAYONS ACTINIQUES POUR UTILISATION DANS LE PROCÉDÉ
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2014007361A1

  公开（公告）日：2014-01-09

  Provided is a method of forming a pattern, including (a) forming a film comprising an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition comprising a resin (P) containing a repeating unit (P1) with a cyclic carbonic acid ester structure and any of repeating units (P2) of general formula (P2-1) below, and a compound (B) that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, (b) exposing the film to actinic rays or radiation, and (c) developing the exposed film with a developer comprising an organic solvent to thereby obtain a negative pattern.