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6-phenyl-5,6-dihydrobenzo[f ]tetrazolo[1,5-d][1,4]oxazepine | 27752-50-7

中文名称
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中文别名
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英文名称
6-phenyl-5,6-dihydrobenzo[f ]tetrazolo[1,5-d][1,4]oxazepine
英文别名
6-Phenyl-5,6-dihydrotetrazolo[1,5-d][1,4]benzoxazepine
6-phenyl-5,6-dihydrobenzo[f ]tetrazolo[1,5-d][1,4]oxazepine化学式
CAS
27752-50-7
化学式
C15H12N4O
mdl
——
分子量
264.286
InChiKey
DQJUEIOCFDEEIU-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 反应信息
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物化性质

  • 熔点:
    137-138 °C(Solv: ethanol (64-17-5))
  • 沸点:
    483.4±55.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.38±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.4
  • 重原子数:
    20
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.13
  • 拓扑面积:
    52.8
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

反应信息

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文献信息

  • Remodeling and Enhancing Schmidt Reaction Pathways in Hexafluoroisopropanol
    作者:Hashim F. Motiwala、Manwika Charaschanya、Victor W. Day、Jeffrey Aubé
    DOI:10.1021/acs.joc.5b02764
    日期:2016.2.19
    The effect of carrying out two variations of the Schmidt reaction with ketone electrophiles in hexafluoroisopropanol (HFIP) solvent has been studied. When TMSN3 is reacted with ketones in the presence of triflic acid (TfOH) promoter, tetrazoles are obtained as the major products. This observation is in contrast to established methods, which usually lead to amides or lactams arising from formal NH insertion
    研究了在六氟异丙醇(HFIP)溶剂中与酮亲电试剂进行Schmidt反应的两种变化的效果。当TMSN 3在三氟甲磺酸(TfOH)促进剂的存在下,使酮与酮反应,得到四唑为主要产物。该观察结果与已建立的方法相反,已建立的方法通常导致正式NH插入作为主要产物而产生酰胺或内酰胺。还报道了该反应的几个实例的全部产物概况,发现其包括机械上令人感兴趣的产物(例如,双环膨胀)。还发现在HFIP中使用TfOH促进剂可以促进羟烷基叠氮化物与酮的反应,与最初报道的方法相比,在亲核打开初始形成的亚胺醚后,内酰胺得到内酰胺的效率更高。
  • Use of a chemical mechanical polishing (CMP) composition for polishing of cobalt comprising substrates
    申请人:BASF SE
    公开号:US10899945B2
    公开(公告)日:2021-01-26
    Use of a chemical mechanical polishing (CMP) composition (Q) for chemical mechanical polishing of a substrate (S) comprising (i) cobalt and/or (ii) a cobalt alloy and (iii) Ti N and/or TaN, wherein the CMP composition (Q) comprises (E) Inorganic particles (F) at least one organic compound comprising an amino-group and an acid group (Y), wherein said compound comprises n amino groups and at least n+1 acidic protons, wherein n is a integer≥1. (G) at least one oxidizer in an amount of from 0.2 to 2.5 wt.-% based on the total weight of the respective CMP composition, (H) an aqueous medium wherein the CMP composition (Q) has a pH of more than 6 and less than 9.
    一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q),用于对包含(i)钴和/或(ii)钴合金和(iii)Ti N和/或TaN的基体(S)进行化学机械抛光,其中所述CMP组合物(Q)包含 (E) 无机颗粒 (F) 至少一种包含氨基和酸基(Y)的有机化合物,其中所述化合物包含n个氨基和至少n+1个酸性质子,其中n为整数≥1。(G) 至少一种氧化剂,其用量为 0.2 至 2.5 wt.- %,以混合物总重量为基准。(H) 一种水介质,其中 CMP 组合物 (Q) 的 pH 值大于 6 但小于 9。
  • Kaye, Perry T.; Mphahlele, M. Jack; Brown, Michael E., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions II, 1995, # 4, p. 835 - 838
    作者:Kaye, Perry T.、Mphahlele, M. Jack、Brown, Michael E.
    DOI:——
    日期:——
  • 2,3-dihydro-2-phenyl-1,4-benzoxazepin-5(4H)-one from the reaction of the flavanone with hydrazoic acid. A reappraisal
    作者:D. Misiti、V. Rimatori
    DOI:10.1016/s0040-4039(01)97875-x
    日期:1970.1
  • LITKEI, GY.;PATONAY, T., ACTA CHIM. HUNG., 1983, 114, N 1, 47-56
    作者:LITKEI, GY.、PATONAY, T.
    DOI:——
    日期:——
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