triphenylsulfonium 2-((3-((1H-imidazole-1-carbonyl)oxy)adamantan-1-yl)methoxy)-1,1-difluoro-2-oxoethane-1-sulfonate | 1329659-27-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: triphenylsulfonium 2-((3-((1H-imidazole-1-carbonyl)oxy)adamantan-1-yl)methoxy)-1,1-difluoro-2-oxoethane-1-sulfonate
• CAS: 1329659-27-9
• 化学式: C₁₇H₁₉F₂N₂O₇S*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 696.793
• InChiKey: DRDSUBDSNDQXNO-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.67
• 重原子数：
  48.0
• 可旋转键数：
  8.0
• 环数：
  8.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.34
• 拓扑面积：
  127.62
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  9.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triphenylsulfonium 2-((3-((1H-imidazole-1-carbonyl)oxy)adamantan-1-yl)methoxy)-1,1-difluoro-2-oxoethane-1-sulfonate 在 对甲苯磺酸 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 21.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  提供包含含有良好线边粗糙度（LER）的盐的光刻胶图案的方法，以及包含该盐的光刻胶组合物。所述盐由式（I）表示。【式中，R1和R2分别表示羟基或由式（R-1）表示的基，至少一个是由式（R-1）表示的基；Qr1和Qr2分别表示氟原子或碳数为1〜6的全氟烷基；Rr1和Rr2分别表示氢原子、氟原子或碳数为1〜6的全氟烷基；zr是0〜6之间的整数；Xr1是−CO−O−、−O−CO−、−O−CO−O−或−O−；Lr1是单键或碳数为1〜28的二价饱和碳氢基；ZR+是有机阳离子；Ar1和Ar2分别表示具有取代基的碳数为6〜36的芳香族碳氢环。】【选择图】无

  公开号：

  JP2019059716A
• 作为产物：
  描述：

  triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-(1H-imidazol-1-yl)-2-oxoethane-1-sulfonate 以 乙腈 为溶剂， 反应 6.0h， 生成 triphenylsulfonium 2-((3-((1H-imidazole-1-carbonyl)oxy)adamantan-1-yl)methoxy)-1,1-difluoro-2-oxoethane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR

  摘要：

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。

  公开号：

  US20110201823A1

文献信息

• 塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2019099553A

  公开（公告）日：2019-06-24

  【課題】良好なラインエッジラフネスでレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤、樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［式中、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。Ｒ１及びＲ２は、それぞれ、水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。ｚは、０〜６の整数を表す。Ｘ1は、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は＊−Ｏ−を表す。Ｌ１は、単結合又は置換基を有していてもよい２価の炭化水素基を表す。Ａｒは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。Ｒ３は炭化水素基を表す。Ｒ４は、水素原子又は炭化水素基を表す。Ｒ５は、水素原子又はメチル基を表す。ＺＩ＋は有機カチオンを表す。］【選択図】なし

  这段文本描述了提供一种可以制造具有良好线条边缘粗糙度的光刻图案的盐、酸发生剂、树脂和光刻胶组合物的目的。其中包括由式（Ｉ）表示的盐。在式中，Ｑ１和Ｑ２分别表示氟原子或全氟烷基，Ｒ１和Ｒ２分别表示氢原子、氟原子或全氟烷基，ｚ表示0〜6的整数，Ｘ1表示＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−或＊−Ｏ−，Ｌ１表示具有单键或取代基的二价碳氢基，Ａｒ表示具有取代基的芳香族碳氢基，Ｒ３表示碳氢基，Ｒ４表示氢原子或碳氢基，Ｒ５表示氢原子或甲基基团，ＺＩ＋表示有机阳离子。
• SALT, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160145205A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A salt represented by formula (1): wherein Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, z represents an integer of 0 to 6, R 3 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a C 1 to C 12 alkyl group or a C 1 to C 12 fluorinated alkyl group, R 4 represents a C 1 to C 12 fluorinated alkyl group, L 2 represents a single bond, a C 1 to C 12 divalent saturated hydrocarbon group, etc., R 5 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 to C 6 alkyl group that may have a halogen atom, L 1 represents a group represented by formula (b1-1), etc., * represents a bonding site to —CR 3 R 4 ; L b2 and L b3 each independently represent a single bond or a C 1 to C 22 divalent saturated hydrocarbon group; Z + represents an organic cation.

  一种盐，其化学式如下（1）：其中Q1和Q2分别代表氟原子或C1至C6全氟烷基基团，R1和R2各自独立代表氢原子、氟原子或C1至C6全氟烷基基团，z代表0至6的整数，R3代表氢原子、氟原子、C1至C12烷基基团或C1至C12氟化烷基基团，R4代表C1至C12氟化烷基基团，L2代表单键、C1至C12二价饱和碳氢基团等，R5代表氢原子、卤素原子或可能含有卤素原子的C1至C6烷基基团，L1代表化学式（b1-1）等表示的基团，*代表与—CR3R4结合的位置，Lb2和Lb3各自独立代表单键或C1至C22二价饱和碳氢基团；Z+代表有机阳离子。
• JP6159617
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• JP6146122
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• JP6159618
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——