| 1402933-00-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• CAS: 1402933-00-9
• 化学式: C₁₃H₁₅F₂O₆S*C₂₁H₂₁S
• 分子量: 642.785
• InChiKey: LFLYLYJBUFCRQG-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.77
• 重原子数：
  44.0
• 可旋转键数：
  7.0
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.41
• 拓扑面积：
  100.57
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  6.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  在 sodium tetrahydroborate 、 水 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 2.08h， 生成
  参考文献：
  名称：

  PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种包括(A)具有含酸敏感基团结构单元和含内酯环结构单元的树脂，以及(B)由式(I)表示的盐的光刻胶组合物：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，L1表示单键或C1-C10脂肪二基基团，其中亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，L1不是单键，R1表示羟基或被保护基团保护的羟基，Z+表示有机阳离子。

  公开号：

  US20120270153A1
• 作为产物：
  描述：

  5-(Imidazole-1-carbonyl)adamantan-2-one 在 盐酸 、 lithium aluminium tetrahydride 、 硫酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 氯仿 、 甲苯 、 乙腈 为溶剂， 反应 34.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种包括(A)具有含酸敏感基团结构单元和含内酯环结构单元的树脂，以及(B)由式(I)表示的盐的光刻胶组合物：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，L1表示单键或C1-C10脂肪二基基团，其中亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，L1不是单键，R1表示羟基或被保护基团保护的羟基，Z+表示有机阳离子。

  公开号：

  US20120270153A1