tetrakis(N-tert-butylacetamido)zirconium | 1254485-59-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: tetrakis(N-tert-butylacetamido)zirconium
• 英文别名: tetrakis(N-tert-butylacetamidato)zirconium
• CAS: 1254485-59-0
• 化学式: C₂₄H₄₈N₄O₄Zr
• 分子量: 547.894
• InChiKey: JKYURGMXPUBKQI-UHFFFAOYSA-J

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  None
• 重原子数：
  None
• 可旋转键数：
  None
• 环数：
  None
• sp3杂化的碳原子比例：
  None
• 拓扑面积：
  None
• 氢给体数：
  None
• 氢受体数：
  None

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  四(二甲氨基)锆 、 N-叔丁基乙酰胺 以 甲苯 为溶剂， 反应 3.0h， 以81%的产率得到tetrakis(N-tert-butylacetamido)zirconium
  参考文献：
  名称：

  锆和a酰胺酸盐配合物的合成，结构表征和挥发性评估

  摘要：

  在回流的甲苯中用四当量的N-叔丁基乙酰胺，N-异丙基异丁酰胺，N-异丙基乙酰胺，N-甲基乙酰胺或N-叔丁基甲酰胺处理四（二甲基氨基）锆或四（二甲基氨基）ha，然后将其升华。于105–125°C / 0.05 Torr下得到粗产品，得到四（N-叔丁基乙酰胺基）锆（81％），四（N-异丙基异丁酰胺基）锆（87％），四（N-异丙基乙酰胺基）锆（51％） ，四（N-叔丁基乙酰胺基）ha（83％），四（N-异丙基异丁酰胺基）ha（79％），四（N-异丙基乙酰胺基）ha（67％），四（N-甲基乙酰胺基）锆（5 ％）和四（N-叔-丁基甲酰胺基）锆（1％），为无色结晶固体。新配合物的结构分配基于光谱和分析数据以及X射线晶体结构测定的四（N-叔丁基乙酰胺基）锆，四（N-异丙基乙酰胺基）锆，四（N-异丙基乙酰胺基）ha，四（N-甲基乙酰胺基）锆和四（N-叔丁基甲酰胺基）锆。这些络合物在固态单体的，具有八个坐标

  DOI：

  10.1016/j.jorganchem.2017.03.003

文献信息

• [EN] THERMALLY STABLE VOLATILE FILM PRECURSORS<br/>[FR] PRÉCURSEURS DE FILM MINCE VOLATILS ET THERMIQUEMENT STABLES
  申请人：UNIV WAYNE STATE

  公开号：WO2010132871A1

  公开（公告）日：2010-11-18

  A precursor for the deposition of a thin film by atomic layer deposition is provided. The compound has the formula MxLy where M is a metal and L is an amidrazone-derived ligand or an amidate-derived ligand. A process of forming a thin film using the precursors is also provided.

  提供了一种用原子层沉积法沉积薄膜的前体。该化合物的化学式为MxLy，其中M是金属，L是一种来自酰胺脲衍生配体或酰胺酸衍生配体的配体。还提供了一种使用这些前体形成薄膜的过程。
• Homoleptic zirconium amidates: single source precursors for the aerosol-assisted chemical vapour deposition of ZrO₂
  作者：Amanda L. Catherall、Michael S. Hill、Andrew L. Johnson、Gabriele Kociok-Köhn、Mary F. Mahon

  DOI：10.1039/c6tc03631g

  日期：——

  products resulting from their thermal decomposition, indicated the potential of the homoleptic species as exquisite single source precursors to ZrO2 at moderate temperatures. The compound bearing both N- and C-iso-propyl substituents was, thus, applied as a true single source precursor under ambient pressure AACVD conditions. The resultant films, deposited on either SiO2-coated glass or quartz substrates

  我们报告了一种真正的单一来源的前体（即不需要任何外部氧气源）的开发，该过程使用原始的锆（IV）酰胺化物衍生物族通过气溶胶辅助化学气相沉积（AACVD）来生长氧化锆薄膜。，可通过用游离酰胺原配体对[Zr（NMe 2）4 ]进行质子分解来轻松制备。除一种情况外，所有反应均导致分离出相应的均配八坐标锆（IV）四（酰胺）衍生物。这些物种中的三个连同三（酰胺）二甲基酰胺基锆（IV）衍生物已通过单晶X射线衍射分析进行了表征。通过应用设计标准确定了均化化合物的材料潜力，该设计标准是从考虑到与全有机酰胺热解有关的现有知识库中得出的。以这种方式，均化衍生物的热分解得益于容易的，分子施加的热解途径，这提供了挥发性小分子副产物的优先产生和无污染物的固体氧化物材料的生产。热重分析，再结合由其热分解产生的挥发性产物的NMR光谱分析，表明匀浆物质具有作为ZrO 2的精致单一来源前体的潜力在中等温度下。因此，在环境压力