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2-hydrazinopropionaldehyde diethyl acetal | 93620-07-6

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2-hydrazinopropionaldehyde diethyl acetal
英文别名
1,1-diethoxypropan-2-ylhydrazine
2-hydrazinopropionaldehyde diethyl acetal化学式
CAS
93620-07-6
化学式
C7H18N2O2
mdl
——
分子量
162.232
InChiKey
SCHBQZUSVANSFD-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.1
  • 重原子数:
    11
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    56.5
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    4

反应信息

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文献信息

  • Intermediates for cephem compounds
    申请人:Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd.
    公开号:US05302712A1
    公开(公告)日:1994-04-12
    The invention relates to compounds, useful as intermediates in the preparation of products of antimicrobial activity, of the formula: ##STR1## wherein R.sup.3 is hydrogen, lower alkyl, hydroxy(lower)alkyl, protected hydroxy(lower)alkyl, amino(lower)alkyl, protected amino (lower) alkyl, carbamoyl)lower)alkyl, N,N-di(lower) alkylcarbamoyl(lower)alkyl or an amino protective group, and R.sup.4 is hydrogen, lower alkyl, carboxy, protected carboxy, amino, protected amino or carbamoyl, or a salt thereof.
    本发明涉及化合物,其在制备具有抗微生物活性的产物中作为中间体有用,其化学式为:##STR1## 其中R.sup.3是氢,低烷基,羟基(低)烷基,保护羟基(低)烷基,氨基(低)烷基,保护氨基(低)烷基,氨基甲酰(低)烷基,N,N-二(低)烷基氨基甲酰(低)烷基或氨基保护基,R.sup.4是氢,低烷基,羧基,保护羧基,氨基,保护氨基或氨基甲酰,或其盐。
  • New cephem compounds and processes for preparation thereof
    申请人:FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.
    公开号:EP0427248A2
    公开(公告)日:1991-05-15
    A compound of the formula wherein R1 is amino or a protected amino group, R2 is hydrogen or an organic group, R3 is hydrogen, lower alkyl, hydrory(lower)alkyl, protected hydroxy(lower)alkyl, amino(lower)alkyl, protected amino(lower)alkyl, carbamoyl-(lower)alkyl, N,N-di(lower)alkylcarbamoyl(lower)alkyl or an imino protective group, R4 is hydrogen, lower alkyl, carboxy, protected carboxy, amino,protected amino or carbamoyl, and Z is N or CH, and a pharmaceutically acceptable salt thereof, processes for their preparation and pharmaceutical compositions comprising them as an active ingredient in admixture with pharmaceutically acceptable carriers. The invention also relates to intermediates of the formula and processes for their preparation.
    式中的化合物 其中 R1 是氨基或受保护的氨基、 R2 是氢或有机基团 R3 是氢、低级烷基 R3是氢、低级烷基、羟基(低级)烷基、受保护的羟基(低级)烷基、氨基(低级)烷基、受保护的氨基(低级)烷基、氨基甲酰基(低级)烷基、N,N-二(低级)烷基氨基甲酰基(低级)烷基或亚胺保护基团、 R4 是氢、低级烷基、羧基、保护羧基、氨基、保护氨基或氨基甲酰基,以及 Z 是 N 或 CH、 及其药学上可接受的盐、 它们的制备工艺,以及将它们作为活性成分与药学上可接受的载体混合的药物组合物。本发明还涉及式 及其制备工艺。
  • US5215982A
    申请人:——
    公开号:US5215982A
    公开(公告)日:1993-06-01
  • US5302712A
    申请人:——
    公开号:US5302712A
    公开(公告)日:1994-04-12
  • Cephem compounds
    申请人:Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd.
    公开号:US05215982A1
    公开(公告)日:1993-06-01
    Cephem compounds of the following formula are disclosed: ##STR1## wherein R.sup.1 is amino or protected amino group. R.sup.2 is H or an organic group, R.sup.3 is H or an organic group, R.sup.4 is H, lower alkyl, carboxy, protected carboxy, amino, protected amino or carbamoyl, Z=N or CH. The compounds are useful as antimicrobial agents.
    公开了以下式子的Cephem化合物:##STR1## 其中R.sup.1是氨基或受保护的氨基团。R.sup.2是H或有机基团,R.sup.3是H或有机基团,R.sup.4是H、较低的烷基、羧基、受保护的羧基、氨基、受保护的氨基或氨基甲酰基,Z=N或CH。这些化合物可用作抗微生物药剂。
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