1,1'-diadamantyl ketone | 82679-52-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1,1'-diadamantyl ketone
• 英文别名: 2,2-diadamantyl ketone；di(1-adamantyl)ketone；2,2'-Biadamantylketon；2-Adamantyl ketone；bis(2-adamantyl)methanone
• CAS: 82679-52-5
• 化学式: C₂₁H₃₀O
• 分子量: 298.469
• InChiKey: WTNUPSUIFQNEJB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  8.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.95
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1'-diadamantyl ketone 、 甲基锂 以 乙醚 为溶剂， 生成 1,1'-Diadamantylmethylcarbinol
  参考文献：
  名称：

  Primary and secondary kinetic isotope effects in the acid-catalyzed dehydration of 1,1'-diadamantylmethylcarbinol in aqueous acetic acid

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00315a035
• 作为产物：
  描述：

  2-溴代金刚烷 在 氯化亚砜 、 magnesium 、 1,2-二溴乙烷 、 copper(I) bromide 作用下， 反应 5.25h， 生成 1,1'-diadamantyl ketone
  参考文献：
  名称：

  Formation of cage-structure organomagnesium compounds. Influence of the degree of adsorption of the transient species at the metal surface

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00142a023

文献信息

• Competing inter- and intramolecular hydrogen bonding: solvent-driven rotamerization in 3,4-(ethylenedioxy)-2-thienyldi(tert-alkyl)methanols
  作者：John S. Lomas

  DOI：10.1039/b010082j

  日期：——

  constant ([syn]/[anti]) is close to unity in benzene and chloroform, regardless of the tert-alkyl groups (tert-butyl or 1-adamantyl). This rises to about 10 in pyridine and 20 in DMSO (both at 25 °C), where intermolecular hydrogen bonding clearly prevails over intramolecular. For the di(tert-butyl) derivative there is a good correlation between the equilibrium constant (log K) and the hydrogen bond basicity

  3,4-（乙二氧基）-2-噻吩基二（叔烷基）甲醇以两种旋转形式存在，抗⇌式旋转异构化的平衡常数取决于溶剂。平衡常数（[ syn ] / [ anti ]）在苯 和 氯仿，而不管叔烷基（叔丁基或1-金刚烷基）。上升到大约10英寸吡啶 和20英寸 二甲基亚砜（均在25°C下），分子间氢键明显高于分子内氢键。对于二（叔丁基）衍生物有平衡常数（日志之间的良好相关性ķ）和氢键参数碱度（β ħ 2）。强氢键中旋转异构体比率的温度依赖性溶剂表示焓项偏爱顺式异构体，熵项偏爱反式。已经在氢键和非氢键中测量了旋转势垒溶剂。平衡常数的差异反映了溶剂时的效果的抗→顺式异构化，其被示出为“溶剂在二（1-金刚烷基）衍生物的情况下 吡啶。
• Resin useful for resist, resist composition and pattern forming process using the same
  申请人：KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

  公开号：US20020098441A1

  公开（公告）日：2002-07-25

  According to the present invention, a resist resin having in its structure a specific bridged-bond-containing aliphatic ring, and a resist composition comprising the same are provided. By using this resist composition, a resist pattern excellent in both transparency against short-wavelength light and dry-etching resistance can be formed by alkali development with high resolution.

  根据本发明，提供了一种在其结构中具有特定桥式键含有的脂环的抗蚀树脂，以及包括该树脂的抗蚀组合物。通过使用这种抗蚀组合物，可以通过高分辨率的碱性显影形成对短波长光具有优异透明度和干法刻蚀抗性的抗蚀图案。
• Wieringa,J.H. et al., Synthetic Communications, 1971, vol. 1, # 1, p. 7 - 10
  作者：Wieringa,J.H. et al.

  DOI：——

  日期：——
• US6541597B2
  申请人：——

  公开号：US6541597B2

  公开（公告）日：2003-04-01