6-ethyl-quinolin-8-ol | 103985-96-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 喹啉及其衍生物
• 英文名称: 6-ethyl-quinolin-8-ol
• 英文别名: 6-Ethylquinolin-8-ol
• CAS: 103985-96-2
• 化学式: C₁₁H₁₁NO
• 分子量: 173.214
• InChiKey: NDNCMZPUUYHQBV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.18
• 拓扑面积：
  33.1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

文献信息

• Monoacylglycerol Lipase Modulators
  申请人：Janssen Pharmaceutica NV

  公开号：US20200102311A1

  公开（公告）日：2020-04-02

  Bridged compounds of Formula (I) and Formula (II), pharmaceutical compositions containing them, methods of making them, and methods of using them including methods for treating disease states, disorders, and conditions associated with MGL modulation, such as those associated with pain, psychiatric disorders, neurological disorders (including, but not limited to major depressive disorder, treatment resistant depression, anxious depression, bipolar disorder), cancers and eye conditions. wherein R 2 , R 3 R 4 , R 5 and R 6 are defined herein.

  桥接化合物，其结构式为(I)和(II)，包含它们的药物组合物，制造它们的方法，以及使用它们的方法，包括用于治疗与MGL调节相关的疾病状态、障碍和状况的方法，如与疼痛、精神障碍、神经障碍（包括但不限于重性抑郁障碍、难治性抑郁、焦虑性抑郁、双相情感障碍）、癌症和眼科疾病相关的方法。 其中R2、R3、R4、R5和R6的定义如下。
• Biocidal compositions comprising iron chelators
  申请人：Arch Chemicals, Inc.

  公开号：US10433548B2

  公开（公告）日：2019-10-08

  The present invention, therefore, is directed to an antimicrobial compositions that decreases the bioavailability of iron by introducing a higher-affinity iron-selective chelating agent capable of competing with microbial siderophores. In one aspect, the present invention relates to an antimicrobial composition including a potentiating antimicrobial composition including one or more antimicrobial agents and a chelator having a weight ratio of the antimicrobial agent to the chelator from about 1:1000 to about 1000:1.

  因此，本发明涉及一种抗菌剂组合物，该组合物通过引入能够与微生物嗜苷酸盐竞争的高亲和性铁选择性螯合剂来降低铁的生物利用率。在一个方面，本发明涉及一种抗菌组合物，包括一种增效抗菌组合物，其中包括一种或多种抗菌剂和一种螯合剂，抗菌剂与螯合剂的重量比约为 1:1000 至约 1000:1。
• Positive photoresist composition and method of forming resist pattern
  申请人：Masuda Yasuo

  公开号：US20060166131A1

  公开（公告）日：2006-07-27

  A positive photoresist composition comprising an alkali-soluble novolak resin (A) containing a structural unit (a1) represented by a general formula (I) shown below, and a structural unit (a2) represented by a general formula (II) shown below, and a photosensitizer (B).

  一种正性光刻胶组合物，包括一种碱溶性酚醛树脂（A），其中含有由下图所示通式（I）表示的结构单元（a1）和由下图所示通式（II）表示的结构单元（a2），以及一种光敏剂（B）。
• POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：EP1644426A1

  公开（公告）日：2006-04-12
• BIOCIDAL COMPOSITIONS COMPRISING IRON CHELATORS
  申请人：Arch Chemicals, Inc.

  公开号：EP2906038A1

  公开（公告）日：2015-08-19