4-甲基磺酰基-苯磺酸 | 70140-60-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4-甲基磺酰基-苯磺酸
• 中文别名: 4-(甲基硫基)苯磺酸
• 英文名称: 4-(methylthio)benzenesulfonic acid
• 英文别名: p-methylthiobenzenesulfonic acid；Thioanisolsulfonsaeure；4-methylsulfanyl-benzenesulfonic acid；Thioanisol-sulfonsaeure-(4)；4-Methylmercapto-benzolsulfonsaeure；4-methylsulfanylbenzenesulfonic Acid
• CAS: 70140-60-2
• 化学式: C₇H₈O₃S₂
• mdl: MFCD05813793
• 分子量: 204.271
• InChiKey: BNYVROOBDQTCKD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.48

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.142
• 拓扑面积：
  88
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 储存条件：
  2-8°C，干燥

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-甲基磺酰基-苯磺酸 在 permanganate(VII) ion 作用下， 生成 4-methanesulfonyl-benzenesulfonic acid
  参考文献：
  名称：

  Pollak; Deutscher; Krauss, Monatshefte fur Chemie, 1927, vol. 48, p. 105

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  4-碘苯硫基甲烷 在 (1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene)palladium(II) dichloride 、 caesium carbonate 、 二氧化硫脲 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 14.0h， 以53%的产率得到4-甲基磺酰基-苯磺酸
  参考文献：
  名称：

  空气可持续获取卤化物和二氧化硫脲中的磺酸

  摘要：

  探索了一种可持续且温和的一步法，在空气中使用卤化物和二氧化硫代用品的简便组合来合成芳基和烷基磺酸。廉价的工业原料二氧化硫脲被用作一种生态友好，易于处理的二氧化硫替代物，而空气则被用作绿色氧化剂。芳基和烷基磺酸都在过渡金属催化或无过渡金属的条件下获得。机理研究表明，亚硫酸盐作为该转化的中间体。值得注意的是，该方案已被应用于萘普生，异氧平和布洛芬的后期磺化。

  DOI：

  10.1039/d0gc03135f

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, MASK BLANK PROVIDED WITH ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PHOTOMASK, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, COMPOUND, AND METHOD FOR PRODUCING COMPOUND
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20160280621A1

  公开（公告）日：2016-09-29

  The composition contains an alkali-soluble resin and a crosslinking agent that is represented by the following General Formula (I). In the formula, each of R 1 and R 6 independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 5 or less carbon atoms; each of R 2 and R 5 independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or an acyl group; and each of R 3 and R 4 independently represents a hydrogen atom or an organic group having 2 or more carbon atoms, and R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring.

  该组合物包含一种碱溶性树脂和一种由下列通式（I）表示的交联剂。在该式中，R1和R6各自独立地表示氢原子或具有5个或更少碳原子的碳氢基团；R2和R5各自独立地表示烷基、环烷基、芳基或酰基；R3和R4各自独立地表示氢原子或具有2个或更多碳原子的有机基团，且R3和R4可以结合形成环。
• Fuel oil compositions
  申请人：Exxon Chemical Patents Inc.

  公开号：US05348561A1

  公开（公告）日：1994-09-20

  Sediment and color formation in distillate fuels are reduced by the addition of a quaternary ammonium compound comprising a cation in which the ratio of carbon atoms to quaternary nitrogen atoms is not more than 10:1 and an anion which is derived from an acid which is a carboxylic acid, carboxylic acid anhydride, phenol, sulphurized phenol or sulphonic acid.

  在蒸馏燃料中添加一个季铵化合物可以减少沉淀和颜色的形成，该化合物包括一个阳离子，其中碳原子与季铵氮原子的比例不超过10:1，并且阴离子源自羧酸，羧酸酐，酚，硫化酚或磺酸。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANKS, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK EACH USING THE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20150010855A1

  公开（公告）日：2015-01-08

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition containing (α) a compound represented by the formula (αI) capable of generating an acid having a size of 200 Å 3 or more in volume and (β) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and the formula (αI) is defined as herein, and a resist film formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, a resist-coated mask blanks coated with the resist film, a resist pattern forming method comprising exposing the resist film and developing the exposed film, a photomask obtained by exposing and developing the resist-coated mask blanks, a method for manufacturing an electronic device, comprising the resist pattern forming method and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供一种感光或辐射敏感的组合物，其中包含(α)一种化合物，其由公式(αI)表示，能够产生大小为200Å3或更大的体积的酸，以及(β)一种化合物，能够在受到光辐射或辐射时产生酸，公式(αI)的定义如本文所述。还提供了使用该感光或辐射敏感组合物形成的光阻膜，涂有光阻膜的光阻涂层掩模坯料，包括曝光光阻膜和显影曝光后膜的光阻图案形成方法，通过曝光和显影涂有光阻涂层的掩模坯料获得的光掩模，以及一种电子器件的制造方法，包括光阻图案形成方法和制造电子器件的电子器件制造方法，以及通过该电子器件制造方法制造的电子器件。
• NOVEL COMPOUNDS THAT ARE ERK INHIBITORS
  申请人：Boga Sobhana Babu

  公开号：US20130237518A1

  公开（公告）日：2013-09-12

  Disclosed are the ERK inhibitors of formula (1): and the pharmaceutically acceptable salts thereof, wherein: A is a five membered monocyclic heteroaryl ring; and B is a monocyclic heterocycloalkyl ring, or a monocyclic heterocycloalkenyl ring, or a bridged monocyclic heterocycloalkyl ring, or a fused (monocyclic heterocycloalkyl ring) cyclopropyl ring. Also disclosed are methods of treating cancer using the compounds of formula (1).

  本发明公开了式（1）的ERK抑制剂及其药学上可接受的盐，其中：A是五元杂环单环芳基环；B是单环杂环烷基环，或单环杂环烯基环，或桥接的单环杂环烷基环，或融合的（单环杂环烷基环）环丙基环。本发明还公开了使用式（1）的化合物治疗癌症的方法。
• Penicillin derivatives as anti-inflammatory and antidegenerative agents
  申请人：Merck & Co., Inc.

  公开号：EP0170192A1

  公开（公告）日：1986-02-05

  Derivatives of Penicillin, their sulfoxides and sulfones of the structural formula: wherein q is 0, 1 or 2; A is, e.g., CH3 or CH2O(CO)CH3; R, is, e.g., R'NR. wherein R. is H or C1-6alkyl and R' is, e.g., hydrogen or where R represents: (i) hydrogen; (ii) C1-6alkyl; (iii) trifluoromethyl or methoxymethyl; (iv) thienyl; (v) phenyl; or (vi) mono- and disubstituted phenyl and thienyl wherein the substituents are selected from the group consisting of chloro, bromo, fluoro, nitro, loweralkyl, and loweralkoxy; n is 0 or 1; B is, e.g., hydrogen or alkyl and R is, e.g., H or halo; are found to be potent elastase inhibitors and thereby useful anti-inflammatory/antidegenerative agents.

  青霉素的衍生物、其结构式为硫醚和砜的衍生物： 其中 q 是 0、1 或 2； A 是 CH3 或 CH2O(CO) 等； 其中 R. 是 H 或 C1-6 烷基，R'是氢或 C1-6 烷基。 其中 R 代表 (i) 氢 (ii) C1-6 烷基 (iii) 三氟甲基或甲氧基甲基 (iv) 噻吩基 (v) 苯基；或 (vi) 单取代和二取代苯基和噻吩基，其中取代基选自由氯、溴、氟、硝基、低级烷基和低级烷氧基组成的组； n 为 0 或 1； B 是氢或烷基，以及 R 是氢或卤素； 是有效的弹性蛋白酶抑制剂，因此是有用的抗炎/抗变性制剂。