difluorosulfoacetic acid (3-hydroxy-1-adamantyl)methyl ester sodium salt | 912290-02-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物
• 英文名称: difluorosulfoacetic acid (3-hydroxy-1-adamantyl)methyl ester sodium salt
• 英文别名: 1-((3-hydroxy-1-adamantyl)methoxycarbonyl)difluoro(sulfo)acetic acid sodium salt；sodium 1,1-difluoro-2-((3-hydroxyadamantan-1-yl)methoxy)-2-oxoethane-1-sulfonate；sodium difluoro-(3-hydroxy-adamantan-1-ylmethoxycarbonyl)methanesulfonate；3-hydroxy-1-adamantylmethyl difluorosulfoacetate sodium salt；Sodium;1,1-difluoro-2-[(3-hydroxy-1-adamantyl)methoxy]-2-oxoethanesulfonate
• CAS: 912290-02-9
• 化学式: C₁₃H₁₇F₂O₆S*Na
• 分子量: 362.327
• InChiKey: CVERWORUNNIQBM-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2.0
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  112
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  difluorosulfoacetic acid (3-hydroxy-1-adamantyl)methyl ester sodium salt 在 copper diacetate 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 22.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  JP2015/27992

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  difluorobromoethanoic acid 3-hydroxyadamantan-1-ylmethyl ester 在 sodium pyrosulfate 、 sodium carbonate 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 以94%的产率得到difluorosulfoacetic acid (3-hydroxy-1-adamantyl)methyl ester sodium salt
  参考文献：
  名称：

  一种ArF光刻胶用光引发剂三苯基硫鎓盐的制备方法及其应用

  摘要：

  本申请涉及有机合成领域，具体提供一种三苯基硫鎓盐的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：以二氟溴乙酸和醇为原料，经缩合反应得到二氟溴乙酸酯；步骤二：将所述二氟溴乙酸酯和焦硫酸钠发生取代反应得到磺酸钠；步骤三：将所述磺酸钠与三苯基氯化硫反应，得到三苯基硫鎓盐。本申请的目的在于提供一种新的合成方法，具有操作简单，安全，收率高，易纯化，便于工业化生产。

  公开号：

  CN114736120A

文献信息

• 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2016000725A

  公开（公告）日：2016-01-07

  【課題】良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）又は良好なフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができる塩、及び該塩を含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［ＸはＯ、Ｓ又は−Ｎ（ＳＯ２Ｒ５）；Ｒ５はＣ１〜１２のアルキル基、Ｃ３〜１２のシクロアルキル基又はＣ６〜１２の芳香族炭化水素基；ＡｒはＣ６〜３６の芳香族炭化水素基又はＣ６〜３６のヘテロ芳香族炭化水素基；Ｒ１及びＲ２は各々独立に、Ｈ、ＯＨ基又はＣ１〜１２の炭化水素基；ｍ及びｎは各々独立に１又は２；Ｒ３及びＲ４は各々独立に、Ｈ又はＣ１〜１２の炭化水素基；Ａ−は酸不安定基、塩基不安定基又はその両方を有する有機アニオン］【選択図】なし

  【课题】提供能够制造良好CD均匀性（CDU）或良好焦深（DOF）的盐以及包含该盐的感光剂组合物。 【解决方案】式（I）表示的盐。［X是O、S或-N（SO2R5）；R5是C1～12的烷基、C3～12的环烷基或C6～12的芳香族碳氢基；Ar是C6～36的芳香族碳氢基或C6～36的杂芳香族碳氢基；R1和R2分别是独立地H、OH基或C1～12的碳氢基；m和n分别是独立地1或2；R3和R4分别是独立地H或C1～12的碳氢基；A-是含有酸不稳定基、盐基不稳定基或两者的有机阴离子］【选择图】无
• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160334702A1

  公开（公告）日：2016-11-17

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, R 1 and R 2 in each occurrence independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, z represents an integer of 0 to 6, X 1 represents *—CO—O—, *—O—CO— or —O—, * represents a binding position to C(R 1 )(R 2 ) or C(Q 1 )(Q 2 ), A 1 represents a C 4 to C 24 hydrocarbon group having a C 4 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon moiety, A 2 represents a C 2 to C 12 divalent hydrocarbon group, R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a C 1 to C 6 monovalent saturated hydrocarbon group, R 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a C 1 to C 6 alkyl group where a hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom, and Z + represents an organic cation.

  公式(I)表示的盐，其中Q1和Q2独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，R1和R2每次出现独立地代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，z代表0到6的整数，X1代表*—CO—O—，*—O—CO—或—O—，*代表与C(R1)(R2)或C(Q1)(Q2)的连接位置，A1代表具有C4至C18二价脂环烃基团的C4至C24的烃基团，A2代表C2至C12的二价烃基团，R3和R4独立地代表一个氢原子或一个C1至C6的一价饱和烃基团，R5代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的烷基团，其中氢原子可以被氟原子替换，而Z+代表一个有机阳离子。
• 化合物、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2016210769A

  公开（公告）日：2016-12-15

  【課題】優れたラインエッジラフネスのレジストパターンを製造することができる化合物、レジスト組成物に用いる樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する樹脂、この化合物を含む酸発生剤及びこれらを含むレジスト組成物。［式中、Ｑ１及びＱ２はそれぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；ｚは０〜６の整数；Ｘ１は、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−等；Ａ１は２価の脂環式炭化水素基含有炭化水素基；Ａ２は２価の炭化水素基；Ｒ３及びＲ４はそれぞれ、水素原子又は飽和炭化水素基；Ｒ５は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基等；Ｒ６は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基；Ｒ７は、置換基を有してもよい炭化水素基又はシアノ基等を表す。］【選択図】なし

  【课题】提供能够制造出优良线边缘粗糙度图案的化合物、用于光刻胶组合物的树脂以及光刻胶组合物。 【解决手段】提供公式（I）所表示的化合物、由该化合物派生的树脂、含有该化合物的酸发生剂以及包含这些的光刻胶组合物。其中，Q1和Q2分别代表氟原子或全氟烷基；R1和R2分别代表氢原子、氟原子或全氟烷基；z是0到6的整数；X1是*−CO−O−、*−O−CO−等；A1是含有二价脂环烃基的碳氢基团；A2是二价的碳氢基团；R3和R4分别代表氢原子或饱和碳氢基团；R5是可以含有卤素原子的烷基等；R6是可以含有取代基的芳香族碳氢基团；R7是可以含有取代基的碳氢基团或氰基等。 【选择图】无
• SALT, ACID GENERATOR, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160200702A1

  公开（公告）日：2016-07-14

  A salt represented by the formula (I): wherein R 1 represents a C1 to C12 alkyl group in which a methylene group can be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group; Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group; A 1 represents a lactone ring-containing group which has 4 to 24 carbon atoms; R 2 represents an acid-labile group; and “m” represents an integer of 0 to 3.

  由公式(I)表示的盐： 其中 R1 代表一个C1至C12的烷基，其中一个亚甲基基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代； Q1 和 Q2 各自独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的全氟烷基团； A1 代表一个含有内酯环的基团，该基团有4到24个碳原子； R2 代表一个酸不稳定的基团；并且 “m”代表一个0到3之间的整数。