1-iodobiphenylene | 17557-56-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 芳基卤化物
• 英文名称: 1-iodobiphenylene
• 英文别名: 1-Jod-biphenylen
• CAS: 17557-56-1
• 化学式: C₁₂H₇I
• 分子量: 278.092
• InChiKey: REXHAHDDKNCVAX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  343.6±11.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.854±0.06 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-iodobiphenylene 在 copper(I) bromide 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 生成 1-bromobiphenylene
  参考文献：
  名称：

  苯并环辛酸酯。第一部分。联苯的加成反应中形成的溴衍生物

  摘要：

  溴与联苯的非催化反应得到3,8-二溴苯并环辛酸酯（I）和1,2,4a，8b-四溴-1,2,4a，8b-四氢联苯的立体异构体（V）。将它们进一步溴化得到3,5,6,8-四溴-反式-5,6-二氢苯并环辛酸酯（II）和1,2,3,4,4a，8b-六溴-1,2,3的两种立体异构体分别为，4，4a，8b-六氢联苯。讨论了这些产物的形成方式。描述了用作参考化合物的1-溴代联苯的制备。

  DOI：

  10.1039/j39680000028
• 作为产物：
  描述：

  邻氨基苯甲酸 在 正丁基锂 、 碘 、 亚硝酸异戊酯 作用下， 以 乙醚 、 正己烷 、 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 5.0h， 生成 1-iodobiphenylene
  参考文献：
  名称：

  甲p -benzyne到米通的苯基的1,2-移-benzyne转换。苯并炔级联反应完成

  摘要：

  1,6- diphenylhexa -1,5- diyne-热解顺式-3-烯在800-1000℃通入1-和2- phenylbiphenylene的混合物，用菲沿。两个亚联的形成被取为一个的重新安排的强有力的证据p -benzyne成米通过苯基基团中的一个的移位-benzyne。版权所有©2004 John Wiley＆Sons，Ltd.

  DOI：

  10.1002/poc.797

文献信息

• Benzocyclo-octenes. Part III. Reactions of 5,10-dibromobenzocyclo-octene
  作者：J. W. Barton、T. A. Chaudri、P. Gaskin、K. E. Whitaker

  DOI：10.1039/p19720000717

  日期：——

  The thermal decomposition of 5,10-dibromobenzocyclo-octene gives biphenylene and 2-bromobiphenylene. Reactions of this dihalide with silver salts also give 2-substituted biphenylenes, whereas reaction with sodium methoxide gives 1-methoxybiphenylene as the main product. The mechanisms of these reactions are discussed. The dihalide undergoes normal halogen–metal exchange to give 5,10-dilithiobenzocyclo-octene

  5，10-二溴苯并环辛烯的热分解得到联苯和2-溴联苯。该二卤化物与银盐的反应也产生2-取代的联苯撑，而与甲醇钠的反应产生1-甲氧基联苯撑作为主要产物。讨论了这些反应的机理。二卤化物经过正常的卤素-金属交换，生成5,10-二硫代苯并环辛烯，从而提供了通往母体烃和其他5,10-二取代的苯并环辛烯的途径。
• Biphenylenes. Part XVIII. Preparation and reactions of some 1-substituted biphenylenes
  作者：A. J. Boulton、J. B. Chadwick、Charles R. Harrison、J. F. W. McOmie

  DOI：10.1039/j39680000328

  日期：——

  Reaction of biphenylene with butyl-lithium gives a mixture of 1- and 2-lithiobiphenylene in the approximate ratio of 20 : 1. This mixture has been used to prepare the following 1-substituted biphenylenes: pentanoyl, methoxycarbonyl, carboxy, acetyl, formyl, hydroxymethyl, bromo-methyl, methyl, hydroxy, methoxy, acetoxy, allyloxy, carboxymethoxy, and iodo.

  联苯与丁基锂的反应生成1-和2-硫代联苯的混合物，比例约为20：1。该混合物已用于制备以下1-取代的联苯：戊酰基，甲氧羰基，羧基，乙酰基，甲酰基，羟甲基，溴甲基，甲基，羟基，甲氧基，乙酰氧基，烯丙氧基，羧甲氧基和碘。
• Radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030219680A1

  公开（公告）日：2003-11-27

  A radiation-sensitive resin composition suitable as a chemically-amplified resist is provided. The composition comprised (A) a resin insoluble or scarcely soluble in alkali, but becoming alkali soluble by the action of an acid, and (B) a photoacid generator. The resin comprises a recurring unit of the following formula (I), 1 wherein R 1 is typically a hydrogen atom and the —C (R 5 ) 3 structure is a 2-methyl-2-tricyclodecanyl group, 2-ethyl-2-tricyclodecanyl group, 2-methyl-2-adamantyl group, 2-ethyl-2-adamantyl group, 1-methylcyclopentyl group, 1-ethylcyclopentyl group, 1-methylcyclohexyl group, or 1-ethylcyclohexyl group.

  提供一种适用于化学放大光刻胶的辐射敏感树脂组合物。该组合物包含(A)一种碱不溶或难溶的树脂，但在酸的作用下变得碱溶，以及(B)一种光酸发生剂。该树脂包含以下式(I)的重复单元，其中R1通常是氢原子，而—C(R5)3结构是2-甲基-2-三环己基基团、2-乙基-2-三环己基基团、2-甲基-2-金刚烷基团、2-乙基-2-金刚烷基团、1-甲基环戊基团、1-乙基环戊基团、1-甲基环己基团或1-乙基环己基团。
• Anthracene derivative and radiation-sensitive resin composition
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1343048A2

  公开（公告）日：2003-09-10

  A novel anthracene derivative useful as an additive to a radiation-sensitive resin composition is disclosed. The anthracene derivative has the following formula (1), wherein R1 groups individually represent a hydroxyl group or a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, n is an integer of 0-9, X is a single bond or a divalent organic group having 1-12 carbon atoms, and R2 represents a monovalent acid-dissociable group. The radiation-sensitive resin composition comprises the anthracene derivative of the formula (1), a resin insoluble or scarcely soluble in alkali, but becomes alkali soluble in the presence of an acid, and a photoacid generator. The composition is useful as a chemically-amplified resist for microfabrication utilizing deep ultraviolet rays, typified by a KrF excimer laser and ArF excimer laser.

  本发明公开了一种可用作辐射敏感树脂组合物添加剂的新型蒽衍生物。蒽衍生物具有下式（1）、 其中 R1 基团分别代表羟基或具有 1-20 个碳原子的一价有机基团，n 为 0-9 的整数，X 为单键或具有 1-12 个碳原子的二价有机基团，R2 代表一价酸可分解基团。辐射敏感树脂组合物包括式（1）的蒽衍生物、不溶于碱或几乎不溶于碱但在酸存在下可溶于碱的树脂和光酸发生器。该组合物可用作利用深紫外线（以 KrF 准分子激光器和 ArF 准分子激光器为例）进行微加工的化学放大抗蚀剂。
• PROCESS FOR THE PREPARATION OF ARYL SULFIDES
  申请人：EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation)

  公开号：EP0377634B1

  公开（公告）日：1992-12-02