has been studied by 1H-NMR and UV–vis techniques. The rate of reaction appears to be strongly influenced by the steric and electronic properties of the ancillary ligand. The distortion induced by the substituent R′ in position 6 of the pyridine ring on the main coordination plane of the substrate (allowed by sulphur sp3 hybridisation) renders the substrate itself more prone to nucleophilic attack by the
合成了含有
吡啶硫基醚辅助
配体(R'NSR)(R'= H,Me,Cl; R = Me,Et,i -Pr,t -Bu,Ph)的中性甲基和酰基
钯氯络合物,并合成通过元素分析和光谱学方法表征。1 H-NMR和UV-vis技术研究了这些络合物对插入
钯-碳键中的
丙二烯的反应性(
丙二烯=
DMA =
1,1-二甲基丙二烯; TMA = 1,1,3,3-四甲基
丙二烯)。反应速率似乎受辅助
配体的空间和电子性质强烈影响。由底物主配位平面上
吡啶环6位上的取代基R'引起的形变(由
硫SP 3允许)杂交)使底物本身更容易受到
丙二烯的亲核攻击。通过降低NS部分中螯合原子的碱度,可进一步提高
丙二烯插入的速率,这会导致
钯核的亲电性增加,因此,在含有
配体的配合物的情况下,测得的速率常数到目前为止,对于类似的反应,6-
氯-2-苯基
硫代
甲基吡啶(ClN =
SPh)是最大的。此外,在详尽研究所有相关
吡啶基
硫醚甲基配合物的行为