methyl 2-(4-methyl-N-(2-nitrophenyl)phenylsulfonamido)acetate | 1493774-35-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: methyl 2-(4-methyl-N-(2-nitrophenyl)phenylsulfonamido)acetate
• CAS: 1493774-35-8
• 化学式: C₁₆H₁₆N₂O₆S
• 分子量: 364.379
• InChiKey: MINNYDDCOKBKIO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.27
• 重原子数：
  25.0
• 可旋转键数：
  6.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.19
• 拓扑面积：
  106.82
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  6.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  methyl 2-(4-methyl-N-(2-nitrophenyl)phenylsulfonamido)acetate 在 3,5-二乙酰基-1,4-二氢-2,6-二甲基吡啶 、 camphor-10-sulfonic acid 、 [bis(2,2′‐bipyridine)ruthenium(II)](chloride)₂ hexahydrate 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 16.0h， 生成 tert-butyl [2-oxo-4-(tosyl-3,4-dihydroquinoxalin-1(2H)-yl)]carbonate
  参考文献：
  名称：

  Reductive Cyclizations of Nitroarenes to Hydroxamic Acids by Visible Light Photoredox Catalysis

  摘要：

  We have developed a photocatalytic reduction of nitroarenes as an efficient, chemoselective route to biologically important N-phenyl hydroxamic acid scaffolds. Optimal conditions call for 2.5 mol% of a ruthenium photocatalyst, visible light irradiation, and a dihydropyridine terminal reductant. Because of the mild nature of the visible light activation, functional groups that might be sensitive to other non-photochemical reduction methods are easily tolerated.

  DOI：

  10.1055/s-0033-1338419
• 作为产物：
  描述：

  对甲苯磺酰氯 在 吡啶 、 sodium hydride 作用下， 以 二氯甲烷 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 0.25h， 生成 methyl 2-(4-methyl-N-(2-nitrophenyl)phenylsulfonamido)acetate
  参考文献：
  名称：

  Reductive Cyclizations of Nitroarenes to Hydroxamic Acids by Visible Light Photoredox Catalysis

  摘要：

  We have developed a photocatalytic reduction of nitroarenes as an efficient, chemoselective route to biologically important N-phenyl hydroxamic acid scaffolds. Optimal conditions call for 2.5 mol% of a ruthenium photocatalyst, visible light irradiation, and a dihydropyridine terminal reductant. Because of the mild nature of the visible light activation, functional groups that might be sensitive to other non-photochemical reduction methods are easily tolerated.

  DOI：

  10.1055/s-0033-1338419