1-ethyl-4-trifluoromethylcyclohexanol | 1344365-66-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-ethyl-4-trifluoromethylcyclohexanol
• 英文别名: 1-ethyl-4-(trifluoromethyl)cyclohexan-1-ol
• CAS: 1344365-66-7
• 化学式: C₉H₁₅F₃O
• 分子量: 196.213
• InChiKey: SBIFTJQCCYQJGS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-ethyl-4-trifluoromethylcyclohexanol 生成 1-ethyl-4-(trifluoromethyl)cyclohexyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN, COMPOUND, AND POLYMER

  摘要：

  一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物，其中包括具有酸敏感基团的重复单元，在酸敏感基团解离后变为碱溶解性，并且包括辐射敏感酸发生剂。酸敏感基团具有通式（1）所示的结构。R1代表甲基基团或类似物，R2代表形成环状结构的碳氢基团，R3代表氟原子或类似物，R4代表碳原子，n1为1至7之间的整数。

  公开号：

  US20120156612A1
• 作为产物：
  描述：

  溴乙烷 、 4,4-二氟环已酮 、 magnesium 在 硫酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 (2S)-N-methyl-1-phenylpropan-2-amine hydrate 为溶剂， 以65%的产率得到1-ethyl-4-trifluoromethylcyclohexanol
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN, COMPOUND, AND POLYMER

  摘要：

  一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物，其中包括具有酸敏感基团的重复单元，在酸敏感基团解离后变为碱溶解性，并且包括辐射敏感酸发生剂。酸敏感基团具有通式（1）所示的结构。R1代表甲基基团或类似物，R2代表形成环状结构的碳氢基团，R3代表氟原子或类似物，R4代表碳原子，n1为1至7之间的整数。

  公开号：

  US20120156612A1

文献信息

• 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2021075524A

  公开（公告）日：2021-05-20

  【課題】良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。［式中、Ｑ１及びＱ２は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。Ｒ１及びＲ２は、それぞれ水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。ｚは、０〜６の整数を表す。Ｘ1は、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は＊−Ｏ−を表す。Ｌ1は、単結合又は置換基を有してもよい炭化水素基を表す。Ａ1は、置換基を有してもよい単環式の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。Ｒ３は、フッ素原子又はフッ素化アルキル基を表す。Ｒ４はアルキル基を表す。Ｚ＋は有機カチオンを表す。］【選択図】なし

  目的是提供一种可以制造具有良好CD均一性（CDU）的光阻图案的盐、酸发生剂和光阻组合物。解决方案是由式（I）表示的盐、酸发生剂和光阻组合物。在方程中，Q1和Q2分别表示氟原子或全氟烷基。R1和R2分别表示氢原子、氟原子或全氟烷基。z表示0到6的整数。X1表示*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−或*−O−。L1表示可以具有取代基的碳氢基。A1表示可以具有取代基的单环脂环烃基，其中包含在该脂环烃基中的−CH2−可以被替换为−O−、−S−、−SO2−或−CO−。R3表示氟原子或氟化烷基。R4表示烷基。Z+表示有机阳离子。【选择图】无
• Radiation-sensitive resin composition, method for forming a resist pattern, compound, and polymer
  申请人：Asano Yuusuke

  公开号：US08535871B2

  公开（公告）日：2013-09-17

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer that includes a repeating unit having an acid-labile group and becomes alkali-soluble upon dissociation of the acid-labile group, and a radiation-sensitive acid-generating agent. The acid-labile group has a structure shown by a general formula (1). R1 represents a methyl group or the like, R2 represents a hydrocarbon group that forms a cyclic structure, R3 represents a fluorine atom or the like, R4 represents a carbon atom, and n1 is an integer from 1 to 7.

  一种辐射敏感的树脂组合物，包括第一聚合物，该聚合物包括具有酸敏感基团的重复单元，并在酸敏感基团解离时变为碱溶性，以及辐射敏感的酸生成剂。酸敏感基团具有通式（1）所示的结构。其中，R1代表甲基基团或类似物，R2代表形成环状结构的碳氢基团，R3代表氟原子或类似物，R4代表碳原子，n1为1至7的整数。
• US8535871B2
  申请人：——

  公开号：US8535871B2

  公开（公告）日：2013-09-17