2-(1-methylpropyl)-5-(4-methoxyphenyl)oxazole | 1441641-43-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: 2-(1-methylpropyl)-5-(4-methoxyphenyl)oxazole
• 英文别名: 2-Butan-2-yl-5-(4-methoxyphenyl)-1,3-oxazole
• CAS: 1441641-43-5
• 化学式: C₁₄H₁₇NO₂
• 分子量: 231.294
• InChiKey: LPUAEDAZBXLEMD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  35.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  isoleucine 、 对甲氧基苯乙酮 在 Oxone 、 碘 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 以51%的产率得到2-(1-methylpropyl)-5-(4-methoxyphenyl)oxazole
  参考文献：
  名称：

  通过碘催化的脱羧多米诺反应直接合成2,5-二取代的恶唑

  摘要：

  提出了一种高效的碘催化的高度取代的恶唑合成方法。从容易获得的芳基甲基酮，β-酮酸酯或苯乙烯与α-氨基酸（作为含胺的偶联伙伴）结合开始，可以以高达80％的收率获得相应的2-烷基-5-芳基取代的恶唑通过脱羧多米诺反应。

  DOI：

  10.1021/jo400753n

文献信息

• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
  申请人：Takahashi Hidenori

  公开号：US20120156618A1

  公开（公告）日：2012-06-21

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (P) containing not only at least one repeating unit (A) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid and is expressed by any of general formulae (I) to (III) below but also a repeating unit (B) containing at least an aromatic ring group provided that the repeating unit (B) does not include any of those of general formulae (I) to (III). (The characters used in general formulae (I) to (III) have the meanings mentioned in the description.)

  根据一种实施例，一种感光射线或辐射敏感的树脂组合物包括树脂（P），该树脂不仅包含至少一个重复单元（A），当暴露于感光射线或辐射时，分解从而产生酸，并由下列任一通式（I）至（III）表示，而且还包括一个重复单元（B），其中至少包含一个芳香环基团，前提是重复单元（B）不包括通式（I）至（III）中的任何一个。（通式（I）至（III）中使用的字符在描述中有所提及。）