ω-Hexylthio-acetophenon | 84040-11-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: ω-Hexylthio-acetophenon
• 英文别名: 2-(hexylthio)-1-phenylethanone；2-hexylmercapto-1-phenyl-ethanone；2-Hexylmercapto-1-phenyl-aethanon；2-Hexylsulfanyl-1-phenylethanone
• CAS: 84040-11-9
• 化学式: C₁₄H₂₀OS
• 分子量: 236.378
• InChiKey: URQKHRURJXNLHR-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  156 °C
• 密度：
  1.010±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  42.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  ω-Hexylthio-acetophenon 在 间氯过氧苯甲酸 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.0h， 以85%的产率得到2-(hexylsulfonyl)-1-phenylethanone
  参考文献：
  名称：

  Selectfluor™F–TEDA–BF 4对β-酮砜进行α-氟化

  摘要：

  使用Selectfluor™尝试对β-酮硫醚进行氟化，仅导致了相应的二芳基二硫化物的分离，推测是由于不稳定的氟化中间体的分解而引起的。但是，在无水条件下使用Selectfluor™对β-酮砜进行氟化，确实能够以中等到良好的产率分离出单氟化和二氟化的产物。

  DOI：

  10.1016/j.tet.2008.05.034
• 作为产物：
  描述：

  1-己硫醇 、 alpha-氯乙酰苯 在 甲基三辛基氯化铵 potassium carbonate 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 以81%的产率得到ω-Hexylthio-acetophenon
  参考文献：
  名称：

  Lissel, Manfred, Journal of Chemical Research, Miniprint, 1982, # 10, p. 2946 - 2966

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US11048165B2

  公开（公告）日：2021-06-29

  A resist composition comprising a base polymer and a sulfonium salt of brominated indole or brominated indazole carboxylic acid offers a high sensitivity, minimal LWR and improved CDU independent of whether it is of positive or negative tone.

  抗蚀剂组合物由基质聚合物和溴化吲哚或溴化吲唑羧酸的锍盐组成，具有高灵敏度、最低 LWR 和更好的 CDU（与正色调或负色调无关）。
• LISSEL, M., J. CHEM. RES. MICROFICHE, 1982, N 10, 286
  作者：LISSEL, M.

  DOI：——

  日期：——
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20130157201A1

  公开（公告）日：2013-06-20

  A resist composition containing a base component (A) which generates acid upon exposure, and exhibits changed solubility in a developing solution under the action of acid, wherein the base component (A) contains a polymeric compound (A1) having a structural unit (a5) represented by general formula (a5-0) shown below and a structural unit (a6) that generates acid upon exposure. In the formula, R represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, R 1 represents a sulfur atom or an oxygen atom, R 2 represents a single bond or a divalent linking group, and Y represents a hydrocarbon group in which a carbon atom or a hydrogen atom may be substituted with a substituent.