2-oxaspiro[4.5]decan-1-one | 4420-11-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 内酯类
• 英文名称: 2-oxaspiro[4.5]decan-1-one
• 英文别名: 2-Oxaspiro(4,5)decan-1-one
• CAS: 4420-11-5
• 化学式: C₉H₁₄O₂
• 分子量: 154.209
• InChiKey: VZHLSIACSZGPGA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2932209090
• 储存条件：
  存储在室温下

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sodium thiophenolate 、 2-oxaspiro[4.5]decan-1-one 以 乙醇 为溶剂， 生成 1-(2-Phenylsulfanylethyl)cyclohexane-1-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  [EN] SULFUR COMPOUNDS AS INHIBITORS OF HEPATITIS C VIRUS NS3 SERINE PROTEASE
  [FR] COMPOSES SOUFRES EN TANT QU'INHIBITEURS DE LA PROTEASE SERINE NS3 DU VIRUS DE L'HEPATITE C

  摘要：

  本发明揭示了具有HCV蛋白酶抑制活性的新化合物，以及制备这些化合物的方法。在另一实施例中，本发明揭示了包含这些化合物的药物组合物，以及使用它们治疗与HCV蛋白酶相关的疾病的方法。

  公开号：

  WO2005087731A1
• 作为产物：
  描述：

  环己甲酸甲酯 在 四氯化钛 、 lithium diisopropyl amide 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 3.5h， 生成 2-oxaspiro[4.5]decan-1-one
  参考文献：
  名称：

  甲硅烷基乙烯酮缩醛与环氧化物的反应：合成γ-丁醇化物的新方法

  摘要：

  四氯化钛促进了甲硅烷基乙烯酮缩醛与环氧化物的反应，然后进行酸性处理，以中等/良好的收率得到丁醇化物。与表卤代醇反应是区域选择性的，发生在环氧化物的取代度较低的末端。由此获得的γ-卤代烷基-γ-丁醇化物可以进一步转化为各种产物。

  DOI：

  10.1016/j.tet.2004.07.007

文献信息

• Facile Synthesis of Single α-<i>tert</i> -Alkylated Acetaldehydes by Hydroxyalkylation of Enamides in Aqueous Solution
  作者：Yumi Murata、Takashi Nishikata

  DOI：10.1002/chem.201801065

  日期：2018.4.25

  Cu‐catalyzed hydroxyalkylation of enamides in aqueous solutions. The yields of the products were very high and there was excellent functional group compatibility. Our reaction allows easy access to highly functionalized acetaldehydes that can be used to synthesize further useful compounds including spirocycles. The control experiments revealed that this reaction includes hydroxyalkylation processes via

  在这项工作中，我们建立了通用协议，通过水溶液中酰胺的铜催化羟烷基化来合成单个α-叔烷基化乙醛。产品的产率非常高，并且具有优异的官能团相容性。我们的反应可轻松获得高度官能化的乙醛，该乙醛可用于合成其他有用的化合物，包括螺环。对照实验表明，该反应包括通过自由基反应的羟烷基化过程。
• Titanium tetrachloride promoted reaction of silyl ketene acetals with epoxides: a new method for the synthesis of γ-butanolides
  作者：Veselin Maslak、Radomir Matović、Radomir N. Saičić

  DOI：10.1016/s0040-4039(02)01070-5

  日期：2002.7

  A new method for the synthesis of γ-butanolides is described. The titanium tetrachloride promoted reaction of silyl ketene acetals with epoxides, followed by acidic work-up, affords the corresponding butyrolactones in 44–83% yield.

  描述了一种合成γ-丁醇化物的新方法。四氯化钛促进了甲硅烷基烯酮缩醛与环氧化物的反应，然后进行酸性处理，以44-83％的产率提供了相应的丁内酯。
• [EN] NOVEL 5-HYDROXYTRYPTAMINE RECEPTOR 7 ACTIVITY MODULATORS AND THEIR METHOD OF USE<br/>[FR] NOUVEAUX MODULATEURS DE L'ACTIVITÉ DU RÉCEPTEUR 7 DE LA 5-HYDROXYTRYPTAMINE ET LEUR PROCÉDÉ D'UTILISATION
  申请人：UNIV TEMPLE

  公开号：WO2014164756A1

  公开（公告）日：2014-10-09

  Pharmaceiiticai compositions of the invention comprise functionalized lactone derivatives having a disease-modifying action in the treatment of diseases associated with dysregulation of 5-hydroxytryptamine receptor 7 activity.

  本发明的药物组合物包括具有疾病修饰作用的功能化内酯衍生物，在治疗与5-羟色胺受体7活性失调相关的疾病中发挥作用。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种感光组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物对应的重复单元的树脂；该树脂能够在受到光敏射线或辐射照射后产生酸基团：Z-A-X—B—R   （I）其中Z代表一个能够在受到光敏射线或辐射照射后由阳离子离去而形成酸基团的基团；A代表一个烷基基团；X代表一个单键或含杂原子的二价连接基团；B代表一个单键、一个氧原子或—N（Rx）-；Rx代表一个氢原子或一个一价有机基团；R代表一个通过Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合在一起形成一个环；Y代表一个可聚合的基团。
• Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator
  申请人：Kawaue Akiya

  公开号：US20100136478A1

  公开（公告）日：2010-06-03

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) containing a compound having a cation moiety represented by general formula (I) (in the formula, R 5 represents an organic group having a carbonyl group, an ester bond or a sulfonyl group; and Q represents a divalent linking group).

  一种抗蚀组合物，包括在酸发生剂的作用下在碱性显影溶液中表现出改变溶解度的基础组分（A）和在暴露后产生酸的酸发生剂组分（B），酸发生剂组分（B）包括含有由通式（I）表示的阳离子基团的化合物的酸发生剂（B1）（在该式中，R5代表具有羰基、酯键或磺酰基的有机基团；Q代表二价连接基团）。