2,4-Dimethyl-2-ethyl-1,3-dioxan | 6413-36-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2,4-Dimethyl-2-ethyl-1,3-dioxan
• 英文别名: 2-ethyl-2,4-dimethyl-[1,3]dioxane；2-Aethyl-2,4-dimethyl-[1,3]dioxan；2-Ethyl-2,4-dimethyl-1,3-dioxane
• CAS: 6413-36-1
• 化学式: C₈H₁₆O₂
• 分子量: 144.214
• InChiKey: SSDWZTRJPNXQRL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,4-Dimethyl-2-ethyl-1,3-dioxan 在 modified zirconium superacid 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 1,3-丁二醇
  参考文献：
  名称：

  一种制备1,3-丁二醇的方法

  摘要：

  本发明提供了一种制备1，3‑丁二醇的方法。包括以下步骤：(1)丁二烯、水和醛酮化合物以一定物料配比在双氧水和催化剂A存在下发生缩合成环反应得到含有中间体I的反应液；(2)含有中间体I的反应液与一定量水混合，在催化剂B存在下发生水解反应得到1,3‑丁二醇和相应的醛酮化合物。该方法相对于现有的生产方法，具有反应原料易得，反应转化率高，选择性高等优点，适合工业化生产。

  公开号：

  CN111908999B
• 作为产物：
  描述：

  1,3-丁二醇 、 丁酮 在 对甲苯磺酸 、 苯 作用下， 生成 2,4-Dimethyl-2-ethyl-1,3-dioxan
  参考文献：
  名称：

  Salmi; Rannikko, Chemische Berichte, 1939, vol. 72, p. 600,602

  摘要：

  DOI：

文献信息

• PRODUCTION OF HYDROXY ETHER HYDROCARBONS BY LIQUID PHASE HYDROGENOLYSIS OF CYCLIC ACETALS OR CYCLIC KETALS
  申请人：Billodeaux Damon Ray

  公开号：US20120330069A1

  公开（公告）日：2012-12-27

  A liquid phase hydrogenolysis of acetal compounds such as cyclic acetals and cyclic ketals are fed to a reaction zone and reacted in the presence of a noble metal catalyst supported on a carbon or silica support to make hydroxy ether mono-hydrocarbons in high selectivity, without the necessity to use acidic co-catalysts such as phosphorus containing acids or stabilizers such as hydroquinone.

  将环丙二醛和环酮等缩醛类化合物进行液相氢解反应，将其送入反应区，在贵金属催化剂的存在下，在碳或硅基负载物上反应，高选择性地制备羟基醚单一碳氢化合物，无需使用含磷酸类酸或稳定剂如羟基苯酚。
• CATALYSTS FOR THE PRODUCTION OF HYDROXY ETHER HYDROCARBONS BY VAPOR PHASE HYDROGENOLYSIS OF CYCLIC ACETALS AND KETALS
  申请人：Devon Thomas James

  公开号：US20120330067A1

  公开（公告）日：2012-12-27

  Catalyst compositions of palladium supported on alumina or zirconium oxide supports having low or no silicon dioxide contents and having a specific surface area or modified with alkali, alkaline earth, or phosphine oxide compounds are selective in a vapor phase hydrogenolysis reaction to convert cyclic acetal compounds and/or cyclic ketal compounds in the presence of hydrogen to their corresponding hydroxy ether hydrocarbon reaction products.

  在氧化铝或氧化锆载体上支撑的钯催化剂组合物，具有低或无二氧化硅含量，并具有特定比表面积或经过碱金属、碱土金属或膦氧化物化合物改性，在氢气存在下对环氧乙醛化合物和/或环酮化合物进行选择性蒸汽相氢解反应，将它们转化为相应的羟基醚烃反应产物。
• PRODUCTION OF HYDROXY ETHER HYDROCARBONS BY VAPOR PHASE HYDROGENOLYSIS OF CYCLIC ACETALS AND KETALS
  申请人：Devon Thomas James

  公开号：US20120330066A1

  公开（公告）日：2012-12-27

  A vapor phase hydrogenolysis reaction to convert cyclic acetal compounds and/or cyclic ketal compounds in the presence of hydrogen to their corresponding hydroxy ether hydrocarbon reaction products using a supported noble metal catalyst. The hydrogenolysis reaction can be carried out in the vapor phase and in the absence of a polyhydroxyl hydrocarbon co-solvent.

  在氢气存在下，使用支持的贵金属催化剂将环缩醛化合物和/或环缩酮化合物转化为相应的羟基醚烃反应产物的气相氢解反应。氢解反应可以在气相中进行，并且不需要多羟基烃共溶剂的存在。
• NICKEL MODIFIED CATALYST FOR THE PRODUCTION OF HYDROXY ETHER HYDROCARBONS BY VAPOR PHASE HYDROGENOLYSIS OF CYCLIC ACETALS AND KETALS
  申请人：Billodeaux Damon Ray

  公开号：US20120330068A1

  公开（公告）日：2012-12-27

  Catalyst compositions of alumina supports containing palladium and nickel are selective in a vapor phase hydrogenolysis reaction to convert cyclic acetal compounds and/or cyclic ketal compounds in the presence of hydrogen to their corresponding hydroxy ether hydrocarbon reaction products.

  氧化铝负载的催化剂组合物中含有钯和镍，在氢气存在下对环状缩醛化合物和/或环状缩酮化合物进行选择性的气相氢解反应，将它们转化为相应的羟基醚烃反应产物。
• COMPOUND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160024005A1

  公开（公告）日：2016-01-28

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound represented by the following formula (1) or (2), and the formula (1) and (2) are defined as herein, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method comprising a step of exposing the resist film, and a step of developing the exposed film, and a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method, and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种包含下列式子（1）或（2）所代表的化合物的光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中式（1）和（2）的定义如本文所述，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的光阻膜，以及包括曝光光阻膜的步骤和显影曝光膜的步骤的图案形成方法，以及包括图案形成方法的制造电子装置的方法，以及由电子装置的制造方法制造的电子装置。