N¹,N⁴-dibenzyl-2,3-dihydroxysuccinamide | 313266-11-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: N¹,N⁴-dibenzyl-2,3-dihydroxysuccinamide
• 英文别名: dibenzyl tartaric amide；N,N'-dibenzyl-2,3-dihydroxy-succinamide；N,N'-dibenzyl-tartramide；N,N'-dibenzyl-2,3-dihydroxybutanediamide
• CAS: 313266-11-4
• 化学式: C₁₈H₂₀N₂O₄
• mdl: MFCD01366194
• 分子量: 328.368
• InChiKey: BBYSAHVLSFBCMN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  706.2±60.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.279±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.6
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.222
• 拓扑面积：
  98.7
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N¹,N⁴-dibenzyl-2,3-dihydroxysuccinamide 在 高碘酸 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 N-benzyl-2-oxoacetamide
  参考文献：
  名称：

  通过亚氨基酰胺获得具有芳基硼酸的α-功能化甘氨酸衍生物

  摘要：

  开发了一种有效的方法，用于亚氨基酰胺与芳基硼酸的 α-芳基化。针对该芳基化反应检查了不同的底物。对于N-苯基亚氨基酰胺的α-芳基化，由于苯基的吸电子特性，酰胺与亚胺醇之间的互变异构化更加困难。因此，观察到低反应速率和低转化率。这种现象支持我们之前提出的α-氨基酸衍生物芳基化机制。同时，该方法为α-功能化甘氨酸衍生物的合成提供了一种替代方法。

  DOI：

  10.1055/s-0029-1218266
• 作为产物：
  描述：

  酒石酸 、 苄胺 在 1-羟基苯并三唑 、 盐酸-N-乙基-Nˊ-(3-二甲氨基丙基)碳二亚胺 、 三乙胺 作用下， 以 DMF (N,N-dimethyl-formamide) 为溶剂， 以86%的产率得到N¹,N⁴-dibenzyl-2,3-dihydroxysuccinamide
  参考文献：
  名称：

  Amino amides, peptides and peptidomimetics

  摘要：

  合成方法和涉及氨酰胺、肽和肽类似物的化合物。氨酰胺衍生物是通过一步三组分反应制备的，反应物包括甘氨酰胺、胺和有机硼衍生物。将产物转化为另一种甘氨酰胺中间体，可以迭代地利用这种化学方法合成肽和肽类似物。

  公开号：

  US20040010162A1

文献信息

• Asymmetric [3+2]-cyclization of α-imino amide surrogates to construct 3,4-diaminopyrrolidine-2,5-diones
  作者：Peiran Ruan、Cefei Zhang、Jin Wu、Fengnan Xiao、Yongyan Zhang、Qingfa Tan、Zhishan Su、Xiaoming Feng、Xiaohua Liu

  DOI：10.1039/d3cc01203d

  日期：——

  Using novel α-imino amide surrogates and chiral guanidine, diaminopyrrolidines derivatives could be obtained with good results and versatile application value. The role of guanidine was demonstrated by DFT calculations.

  利用新型α-亚氨基酰胺代用品和手性胍，获得了二氨基吡咯烷衍生物，结果良好，具有广泛的应用价值。DFT 计算证明了胍的作用。
• ABRASIVE LIQUID FOR METAL AND METHOD FOR POLISHING
  申请人：Hitachi Chemical Company, Ltd.

  公开号：EP1137056A1

  公开（公告）日：2001-09-26

  An abrasive liquid for a metal comprising (1) an oxidizing agent for a metal, (2) a dissolving agent for an oxidized metal, (3) a first protecting film-forming agent such as an amino acid or an azole which adsorbs physically on the surface of the metal and/or forms a chemical bond, to thereby form a protecting film, (4) a second protecting film-forming agent such as polyacrylic acid, polyamido acid or a salt thereof which assists the first protecting film-forming agent in forming a protecting film and (5) water; and a method for polishing.

  一种用于金属的研磨液，包括：(1) 金属的氧化剂；(2) 氧化金属的溶解剂；(3) 第一保护成膜剂，如氨基酸或唑，其物理吸附在金属表面和/或形成化学键，从而形成保护膜；(4) 第二保护成膜剂，如聚丙烯酸、聚酰胺酸或其盐，其协助第一保护成膜剂形成保护膜；(5) 水；以及抛光方法。
• Polishing solution for metal and polishing method
  申请人：Hitachi Chemical Company, Ltd.

  公开号：EP2242091A1

  公开（公告）日：2010-10-20

  This invention relates to a polishing solution for metal, comprising: an oxidizing agent; an oxidized-metal dissolving agent; at least one compound selected from a first group of ammonia, amines, amino acids, imines, azoles, mercaptans and saccharides; at least one compound selected from a second group of polyacrylic acids, polymethacrylic acids, polyamic acids, ammonium polyacrylates, ammonium polymethacrylates, ammonium polyamides and polyacrylamides; and water, and a polishing method, especially suited for use in polishing in the step of forming wirings of semiconductor devices.

  本发明涉及一种金属抛光液，包括 一种氧化剂 氧化金属溶解剂； 至少一种选自氨、胺、氨基酸、亚胺、唑、硫醇和糖类的第一组化合物； 至少一种选自聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚酰胺、聚丙烯酸酯铵、聚甲基丙烯酸酯铵、聚酰胺铵和聚丙烯酰胺的第二类化合物； 和 水、 以及一种抛光方法，尤其适用于在半导体设备的线材成型步骤中进行抛光。
• Abrasive liquid for metal and method for polishing
  申请人：——

  公开号：US20020017630A1

  公开（公告）日：2002-02-14

  An abrasive liquid for a metal comprising (1) an oxidizing agent for a metal, (2) a dissolving agent for an oxidized metal, (3) a first protecting film-forming agent such as an amino acid or an azole which adsorbs physically on the surface of the metal and/or forms a chemical bond, to thereby form a protecting film, (4) a second protecting film-forming agent such as polyacrylic acid, polyamido acid or a salt thereof which assists the first protecting film-forming agent informing a protecting film and (5) water; and a method for polishing.

  一种用于金属的研磨液，包括：(1) 金属的氧化剂；(2) 氧化金属的溶解剂；(3) 第一保护成膜剂，如氨基酸或唑，其物理吸附在金属表面和/或形成化学键，从而形成保护膜；(4) 第二保护成膜剂，如聚丙烯酸、聚酰胺酸或其盐，其协助第一保护成膜剂形成保护膜；(5) 水；以及抛光方法。
• [EN] COMPOSITIONS AND METHODS FOR CYCLOFRUCTANS AS SEPARATION AGENTS<br/>[FR] COMPOSITIONS ET PROCÉDÉS POUR DES CYCLOFRUCTANES EN TANT QU'AGENTS DE SÉPARATION
  申请人：UNIV TEXAS

  公开号：WO2010148191A3

  公开（公告）日：2011-05-19

表征谱图