heptafluoro-1-p-tolyl-butan-1-one | 559-92-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: heptafluoro-1-p-tolyl-butan-1-one
• 英文别名: Heptafluor-1-p-tolyl-butan-1-on；2,2,3,3,4,4,4-Heptafluoro-1-(4-methylphenyl)butan-1-one
• CAS: 559-92-2
• 化学式: C₁₁H₇F₇O
• 分子量: 288.165
• InChiKey: LAXSGZOZXFTLFG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

安全信息

• 海关编码：
  2914700090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  heptafluoro-1-p-tolyl-butan-1-one 在 吡啶 、 盐酸羟胺 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 以50%的产率得到C₁₁H₈F₇NO
  参考文献：
  名称：

  [EN] HALOGENATED OXIME DERIVATIVES AND THE USE THEREOF AS LATENT ACIDS
  [FR] DERIVES D'OXIME HALOGENEE ET UTILISATION DE CEUX-CI COMME ACIDES LATENTS

  摘要：

  公开号：

  WO2004074242A3
• 作为产物：
  描述：

  七氟丁酰氯 、 甲苯 在 aluminum (III) chloride 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成 heptafluoro-1-p-tolyl-butan-1-one
  参考文献：
  名称：

  [EN] HALOGENATED OXIME DERIVATIVES AND THE USE THEREOF AS LATENT ACIDS
  [FR] DERIVES D'OXIME HALOGENEE ET UTILISATION DE CEUX-CI COMME ACIDES LATENTS

  摘要：

  公开号：

  WO2004074242A3

文献信息

• α-Substitution effect of fluorine atoms in the cobalt-catalyzed hydrosilylation of fluorine-containing aromatic ketones
  作者：Tatsuya Kumon、Siti Asiah Binti Mohd Sari、Shigeyuki Yamada、Tsutomu Konno

  DOI：10.1016/j.jfluchem.2017.12.003

  日期：2018.2

  Hydrosilylation of fluorine-containing aromatic ketones with triethylsilane in the presence of a catalytic amount of a low-cost and an environmentally benign cobalt catalyst proceeded very smoothly to give the corresponding adducts. Interestingly, this hydrosilylation reaction was not applicable to non-fluorinated ketones. As revealed by density functional theory analysis, a fluorine substituent at

  在催化量的低成本催化剂和对环境有益的钴催化剂的存在下，含氟芳族酮与三乙基硅烷的硅氢加成反应非常顺利，得到了相应的加合物。有趣的是，这种氢化硅烷化反应不适用于非氟化酮。如通过密度泛函理论分析所揭示的，在α位的氟取代基在促进氢化硅烷化反应中起关键作用。
• Fluorocarbon Aromatic Ketones
  作者：J. H. Simons、W. T. Black、Reginald F. Clark

  DOI：10.1021/ja01118a044

  日期：1953.11
• Halogenated oxime derivatives and the use therof as latent acids
  申请人：Yamato Hitoshi

  公开号：US20090042114A1

  公开（公告）日：2009-02-12

  Compounds of the formula I or II wherein R 1 is C 1 -C 10 haloalkylsulfonyl, halobenzenesulfonyl, C 2 -C 10 haloalkanoyl, halobenzoyl; R 2 is halogen or C 1 -C 10 haloalkyl; Ar 1 is phenyl, biphenylyl, fluorenyl, naphthyl, anthracyl, phenanthryl, or heteroaryl, all of which are optionally substituted; Ar′ 1 is for example phenylene, naphthylene, diphenylene, heteroarylene, oxydiphenylene, phenylene-D-D 1 -D-phenylene or —Ar″ 1 -A 1 -Y 1 -A 1 -Ar″ 1 —; wherein these radicals optionally are substituted; Ar″ 1 is phenylene, naphthylene, anthracylene, phenanthrylene, or heteroarylene, all optionally substituted; A 1 is for example a direct bond, —O—, —S—, or —NR 6 —; Y 1 inter alia is C 1 -C 18 alkylene; X is halogen; D is for example —O—, —S— or —NR 6 —; D 1 inter alia is C 1 -C 18 alkylene; are particularly suitable as photolatent acids in ArF resist technology.
• US7399577B2
  申请人：——

  公开号：US7399577B2

  公开（公告）日：2008-07-15
• US8241822B2
  申请人：——

  公开号：US8241822B2

  公开（公告）日：2012-08-14