α-mercaptocyclohexanone | 42904-05-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: α-mercaptocyclohexanone
• 英文别名: α-Mercaptocyclohexanon；2-mercaptocyclohexanone；2-mercapto-cyclohexanone；2-Mercapto-cyclohexanon；2-sulfanylcyclohexan-1-one
• CAS: 42904-05-2
• 化学式: C₆H₁₀OS
• 分子量: 130.211
• InChiKey: GSDIICCYVAIIOY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  18.1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  α-mercaptocyclohexanone 在 氨 、 sulfur 作用下， 反应 2.0h， 生成 2-甲基-4,5,6,7-四氢-苯并噻唑
  参考文献：
  名称：

  Asinger,F. et al., Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1960, vol. 634, p. 144 - 163

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-氯环己酮 在 sodium hydrogensulfide 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 0.5h， 生成 α-mercaptocyclohexanone
  参考文献：
  名称：

  新型四氢-3H-苯并噻吩并[2,3-d]-咪唑的合成

  摘要：

  摘要 描述了新型四氢 3H-苯并噻吩并[2,3-d]咪唑 2b 和相应的 2-羧酸酯 2a 的合成。利用了关键的 1,2-二酰基氨基苯并噻吩 9 的分子内环化。

  DOI：

  10.1080/00397919708006049

文献信息

• Synthesis of 2-(Substituted-silyl)thiophene-3-carboxylates via a Facile [3+2] Cycloaddition Reaction Catalyzed by Potassium tert-Butoxide
  作者：Yi-Nan Cheng、Wen-Bo Jin、Li-Min Wang、Shu-Jun Sun、Gui-Ying Xie、Xiu-Feng You、Yan-Qin Zhao、Hong-Lian Li

  DOI：10.2174/1570178613666160812102130

  日期：2016.10.25

  synthesized smoothly via cycloaddition reaction catalyzed by potassium tert-butoxide. Results: A small library of target compounds was prepared under optimized reaction conditions in moderate to good yields. The reaction mechanism has been proposed. Conclusion: Potassium tert-butoxide is an environmentally friendly and efficient catalyst for the cycloaddition reaction of α -mercapto ketones and 3-(subs

  背景：取代的甲硅烷基噻吩羧酸盐是合成取代的甲硅烷基噻吩羧酰胺的重要中间体，已发现其具有很高的生物活性。 方法：以α-巯基酮和3-（取代-甲硅烷基）丙酸酯为原料，通过叔丁醇钾催化的环加成反应可平稳合成2-（取代-甲硅烷基）噻吩-3-羧酸酯。 结果：在优化的反应条件下以中度到良好的产率制备了小的目标化合物库。已经提出了反应机理。 结论：叔丁醇钾是一种环保，高效的催化剂，可用于α-巯基酮与3-（取代甲硅烷基）丙酸酯的环加成反应。该方法提供了2-（取代-甲硅烷基）噻吩-3-羧酸的现成途径，所述羧酸可以用作2-（取代-甲硅烷基）噻吩-3-羧酰胺和其他药学上令人感兴趣的化合物的原料。
• Hair Relaxer
  申请人：Shibuya Akira

  公开号：US20080131389A1

  公开（公告）日：2008-06-05

  A hair relaxer includes at least one specific mercapto compound such as 2-methoxyethyl 3-mercaptopropionate, 2-mercapto-4-butanolide and 2-mercapto-4-butyrolactam. The hair relaxer can achieve an excellent effect of shaping and relaxing hair over a wide range of pH values from weak acidity to weak alkalinity. In particular, the hair relaxer displays a more superior hair shaping and relaxing performance in a weakly acidic to neutral pH range. Consequently, the hair relaxer can drastically reduce the damage to the hair and skin and can reliably perform straightening, uncurling, curling and other hair processing.

  一种头发放松剂包括至少一种特定的巯基化合物，例如2-甲氧基乙基3-巯基丙酸酯，2-巯基-4-丁醇内酯和2-巯基-4-丁酰内酰胺。该头发放松剂可以在从弱酸性到弱碱性的广泛pH值范围内实现出色的造型和放松头发的效果。特别是，该头发放松剂在弱酸性到中性pH范围内显示出更卓越的头发造型和放松性能。因此，该头发放松剂可以大大减少对头发和皮肤的损伤，并可可靠地进行拉直、卷曲和其他头发加工。
• Antireflection film composition, patterning process and substrate using the same
  申请人：Shinetsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP1798599A1

  公开（公告）日：2007-06-20

  There is disclosed an antireflection film composition for forming an intermediate resist film of a multilayer resist film used in lithography comprising: at least a polymer obtained by reacting a chelating agent with a polymer having a repeating unit represented by the following general formula (1); an organic solvent; and an acid generator. There can be provided a novel antireflection film composition that exhibits high etch selection ratio to a photoresist film, that forms a dense inorganic film, whereby an excellent pattern can be formed on the overlying photoresist film, that can be removed with wet stripping, that exhibits high preservation stability and high dry etching resistance when an underlying layer is etched, and that is suitable for forming an intermediate resist film of a multilayer resist film; a patterning process in which an antireflection film is formed over a substrate by using the antireflection film composition; and a substrate having the antireflection film as an intermediate resist film.

  本发明公开了一种用于形成光刻技术中使用的多层光刻胶膜的中间光刻胶膜的抗反射膜组合物，该组合物包括：至少一种通过螯合剂与具有以下通式(1)所代表的重复单元的聚合物反应而得到的聚合物；一种有机溶剂；以及一种酸发生器。本发明提供了一种新型抗反射膜组合物，该组合物对光刻胶膜具有高蚀刻选择比，可形成致密的无机膜，从而可在上覆的光刻胶膜上形成极佳的图案，该组合物可通过湿法剥离去除，当底层被蚀刻时，该组合物具有高保存稳定性和高抗干蚀刻性，并且适用于形成多层抗蚀膜的中间抗蚀膜；使用该抗反射膜组合物在基底上形成抗反射膜的图案化工艺；以及具有该抗反射膜作为中间抗蚀膜的基底。
• On the joint reaction of elemental selenium with gaseous ammonia and ethylenimine, respectively in the presence of ketones. Joint reaction of elementary sulfur and gaseous ammonia with ketones, 96
  作者：Friedrich Asinger、Maria Karoline Schmitz

  DOI：10.1007/bf00808632

  日期：1982.10
• Asinger,F. et al., Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1971, vol. 753, p. 151 - 168
  作者：Asinger,F. et al.

  DOI：——

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