Synthesis of (2-hydroxo-5-chlorophenylaminoisonitrosoacetyl)phenyl ligands and their complexes: Spectral, thermal and solvent-extraction studies
摘要:
Four different types of new ligands Ar[COC(NOH)R](n) (Ar=biphenyl, n = 1 H(2)L(1); Ar=biphenyl, n = 2 H(4)L(2); Ar=diphenylmethane, n = 1 H(2)L(3); Ar=diphenylmethane, n = 2 H(4)L(4); R=2-amino-4-chlorophenol in all ligands) have been obtained from 1 equivalent of chloroketooximes Ar[COC(NOH)Cl](n) (HL1-H2L4) and 1 equivalent of 2-amino-4-chlorophenol (for H(2)L(1) and H(2)L(3)) or 2 equivalent of 2-amino-4-chlorophenol (for H(4)L(2) and H(4)L(4)). (Mononuclear or binuclear cobalt(II), nickel(II), copper(II) and zinc(II) complexes were synthesized with these ligands.) These compounds have been characterized by elemental analyses, AAS, infra-red spectra and magnetic susceptibility measurements. The ligands have been further characterized by (1)H NMR. The results suggest that the dinuclear complexes of H(2)L(1) and H(2)L(3) have a metal:ligand ratio of 1:2; the mononuclear complexes of H(4)L(2) and H(4)L(4) have a metal:ligand ratio of 1:1 and dinuclear complexes H(4)L(2) and H(4)L(4) have a metal:ligand ratio of 2:1. The binding properties of the ligands towards selected transition metal ions (Mn(II), Co(II), Ni(II), Cu(II), Zn(II), Pb(II), Cd(II), Hg(II)) have been established by extraction experiments. The ligands show strong binding ability towards mercury(II) ion. In addition, the thermal decomposition of some complexes is studied in nitrogen atmosphere
Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
公开号:EP0097864A1
公开(公告)日:1984-01-11
Es wird ein durch Strahlung polymerisierbares Gemisch beschrieben, das ein polymeres Bindemittel, einen durch Strahlung aktivierbaren Polymerisationsinitiator und eine polymerisierbare Verbindung einer der allgemeinen Formeln 1 und II
und
enthält, worin
R1 eine Phenylen-, Biphenyldiylgruppe oder eine aus zwei über eine Brücke verbundenen Phenylenresten gebildete Gruppe ist, wobei die Brücke ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine Sulfongruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylen- oder Cyploalkylengruppe oder eine Gruppe der Formel (O-Alkylen)nO mit n = 1-3 ist,
R2 ein Sauerstoffatom oder die Gruppe CH2-CH2-CO,
R3 ein Wasserstoffatom oder ein Methylrest und
R4 ein Wasserstoffatom oder der Rest
ist. Das Gemisch wird zur Herstellung photopolymerisierbarer. Druck platten und von Photoresists verwendet und zeichnet sich durch Unempfindlichkeit gegen Sauerstoff aus.