2-adamantan-1-yl propionate | 37818-91-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-adamantan-1-yl propionate
• 英文别名: adamantan-1-yl propionate；1-adamantyl propionate；adamantyl propionate；1-propionyloxyadamantane；1-Adamantyl propanoate
• CAS: 37818-91-0
• 化学式: C₁₃H₂₀O₂
• 分子量: 208.301
• InChiKey: MVLMNZBWGSNOIM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-adamantan-1-yl propionate 、 (R)-(+)-环氧丙烷 在 lithium diisopropyl amide 、 氯化二乙基铝 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 为溶剂， 反应 5.83h， 以60%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  Negishi交叉偶合法合成Seragamide A和相关环二肽的聚酮化合物部分

  摘要：

  据报道，存在强细胞毒性的海洋环二肽茉莉素和相关天然产物，地二糖和西拉酰胺中存在的聚酮化合物片段的合成。关键步骤是（R）-（3-甲氧基-2-甲基-3-氧代丙基）锌（II）溴化物与（E）-碘代烯烃的Negishi交叉偶联，该偶联是通过在（R）-环氧丙烷。整个合成过程包括九个步骤，总产率为21％。事实证明有可能释放出游离的8-羟基壬烯酸并将其与由L-丙氨酸，N，O组成的受保护的三肽偶联-二甲基-D-碘酪氨酸和TIPS保护的L-苏氨酸，它们以seragamide A的部分结构形式存在。通过溶液相合成组装了seragamide A的三肽部分，得到了天然产物的开链类似物。

  DOI：

  10.3762/bjoc.15.53
• 作为产物：
  描述：

  1-金刚烷醇 、 丙酸酐 在 4-二甲氨基吡啶 作用下， 反应 10.0h， 以90%的产率得到2-adamantan-1-yl propionate
  参考文献：
  名称：

  一种沙库必曲的制备方法

  摘要：

  本发明公开了一种沙库必曲及其中间体与手性辅基的制备方法，包括如下合成路线中的步骤1～11：其中，ROH(式X)为手性醇及其类似物，PG为羟基保护基，式VI化合物和式V化合物为本发明的手性辅基。本发明以便宜易得的丙酸酐和手性醇ROH(式X)制备手性辅基式VI化合物和式V化合物，通过手性辅基高效制备高非对映体过量的沙库必曲中间体式XI化合物和式IV化合物，式IV化合物经三步简单的操作步骤，即可制得本发明所述的沙库必曲，整条路线工艺简单，安全环保，对设备无特殊要求，生成成本低，收率高，分对映异构体选择性高，适用于工业生成。

  公开号：

  CN113387829B

文献信息

• SALT, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160052877A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A salt represented by the formula (I); wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, L b1 represents a single bond or a divalent C 1 to C 24 saturated hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group and where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group or a fluorine atom, and Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an optionally substituted C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group; and Ar represents a divalent C 6 to C 20 aromatic hydrocarbon group, and Z + represents an organic sulfonium cation or an organic iodonium cation.

  根据您的要求，以下是化合物的中文翻译： 由公式(I)表示的盐； 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟代烷基团，Lb1代表一个单键或一个二价的C1至C24的饱和烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代，并且其中氢原子可以被一个羟基或一个氟原子所取代，并且Y代表一个氢原子，一个氟原子，或一个可选地被取代的C3至C18的芳环烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子，一个羰基团或一个磺酰基团所取代；并且Ar代表一个二价的C6至C20的芳香烃基团，以及Z+代表一个有机硫正离子或一个有机碘正离子。
• SALT, ACID GENERATOR, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160200702A1

  公开（公告）日：2016-07-14

  A salt represented by the formula (I): wherein R 1 represents a C1 to C12 alkyl group in which a methylene group can be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group; Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group; A 1 represents a lactone ring-containing group which has 4 to 24 carbon atoms; R 2 represents an acid-labile group; and “m” represents an integer of 0 to 3.

  由公式(I)表示的盐： 其中 R1 代表一个C1至C12的烷基，其中一个亚甲基基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代； Q1 和 Q2 各自独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的全氟烷基团； A1 代表一个含有内酯环的基团，该基团有4到24个碳原子； R2 代表一个酸不稳定的基团；并且 “m”代表一个0到3之间的整数。
• COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160130212A1

  公开（公告）日：2016-05-12

  A compound represented by formula (I), a resin including a structural unit derived from the compound and a resist composition including the resin: wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 to C 6 alkyl group in which a hydrogen atom may be replaced by a halogen atom, R 2 represents a C 1 to C 12 fluorinated saturated hydrocarbon group, A 1 represents a single bond, a C 1 to C 6 alkanediyl group or *-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 )a-(A 5 )b-, * represents a binding site to an oxygen atom, A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represent a C 1 to C 6 alkanediyl group, X 1 and X 2 each independently represent —O—, —CO—O— or —O—CO—, W 1 represents a C 5 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon group, a represents 0 or 1, and b represents 0 or 1.

  化合物的化学式（I）所代表的化合物，包括从该化合物衍生的结构单元的树脂和包括该树脂的抗蚀组合物：其中R1代表氢原子、卤素原子或C1到C6烷基基团，其中氢原子可以被卤素原子取代，R2代表C1到C12氟化饱和碳氢基团，A1代表单键，C1到C6烷二基基团或*-A3-X1-(A4-X2)a-(A5)b-，*代表与氧原子的结合位点，A2、A3、A4和A5分别独立地代表C1到C6烷二基基团，X1和X2分别独立地代表—O—、—CO—O—或—O—CO—，W1代表C5到C18二价脂环碳氢基团，a代表0或1，b代表0或1。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20190137873A1

  公开（公告）日：2019-05-09

  The present invention can provide a salt and a resist composition including the salt, capable of producing a resist pattern with satisfactory line edge roughness (LER). A salt represented by formula (I): wherein R 1 and R 2 each represent a chain hydrocarbon group which may have a substituent, an alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or R 1 and R 2 are bonded each other to form a ring together with sulfur atoms to which they are bonded, R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, —CH 2 — included in the hydrocarbon group may be replaced by —O— or —CO—, and A − represents a counter anion.

  本发明提供了一种盐和包括该盐的抗蚀剂组合物，能够产生具有令人满意的线边粗糙度（LER）的抗蚀图案。该盐由式（I）表示：其中R1和R2各代表可能具有取代基的链烃基，可能具有取代基的脂环烃基或可能具有取代基的芳香烃基，或者R1和R2彼此相连以形成与它们结合的硫原子一起的环，R3、R4和R5各自独立地表示氢原子、氟原子或具有1至12个碳原子的烃基，烃基中包括的—CH2—可以被—O—或—CO—所取代，A-表示反离子。
• SALT, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：ANRYU Yukako

  公开号：US20120328986A1

  公开（公告）日：2012-12-27

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently each represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, n represents 0 or 1, L l represents a single bond or a C1-C10 alkanediyl group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or carbonyl group, provided that L l is not a single bond when n is 0, ring W represents a C3-C36 aliphatic ring in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group and in which a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group, a C1-C12 alkyl group or a C1-C12 alkoxy group, R l represents a hydroxyl group or a hydroxyl group protected by a protecting group, and Z + represents an organic cation.

  一种用化学式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，n表示0或1，Ll表示单键或C1-C10脂肪二基团，其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代，但当n为0时，Ll不是单键，环W表示C3-C36脂肪环，其中一个亚甲基基团可被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基取代，氢原子可被氢氧基、C1-C12烷基基团或C1-C12烷氧基取代，Rl表示氢氧基或受保护的氢氧基，Z+表示有机阳离子。