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Δ9-1-octalin-1,5-diol | 861093-08-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
Δ9-1-octalin-1,5-diol
英文别名
1,2,3,4,5,6,7,8-octahydro-naphthalene-1,5-diol;1.5-Dihydroxy-1.2.3.4.5.6.7.8-octahydro-naphthalin;1,2,3,4,5,6,7,8-Octahydro-naphthalin-1,5-diol;1,2,3,4,5,6,7,8-Octahydronaphthalene-1,5-diol
Δ<sup>9</sup>-1-octalin-1,5-diol化学式
CAS
861093-08-5
化学式
C10H16O2
mdl
——
分子量
168.236
InChiKey
OJYWTHYDZHYFNN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.8
  • 拓扑面积:
    40.5
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    2

反应信息

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文献信息

  • Resist underlayer film composition and patterning process using the same
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP2476713A1
    公开(公告)日:2012-07-18
    There is disclosed a resist underlayer film composition, wherein the composition contains a polymer obtained by condensation of, at least, one or more compounds represented by the following general formulae (1-1) and/or (1-2), and one or more kinds of compounds, represented by the following general formulae (2-1) and/or (2-2), and/or equivalent bodies thereof. There can be provided an underlayer film composition, especially for a trilayer resist process, that can form an underlayer film having reduced reflectance, (namely, an underlayer film having optimum n-value and k-value as an antireflective film), excellent filling-up properties, high pattern-antibending properties, and not causing line fall or wiggling after etching especially in a high aspect line that is thinner than 60 nm, and a patterning process using the same.
    本发明公开了一种抗蚀剂底层薄膜组合物,其中该组合物含有至少由以下通式(1-1)和/或(1-2)表示的一种或多种化合物和以下通式(2-1)和/或(2-2)表示的一种或多种化合物和/或其等效体缩合而得的聚合物。可以提供一种底层膜组合物,特别是用于三层抗蚀工艺的底层膜组合物,该组合物可以形成反射率降低的底层膜(即作为抗反射膜具有最佳 n 值和 k 值的底层膜)、填充性能优异、图案抗弯曲性能高、蚀刻后尤其是在厚度小于 60 nm 的高纵横向线上不会出现掉线或晃动的底层膜,以及使用该底层膜组合物的图案化工艺。
  • Application of electron spin resonance spectroscopy to problems of structure and conformation. XXVIII. Aliphatic semidiones. XXVI. 1,4-Semidiones in C5-C7 carbocyclic systems
    作者:Glen A. Russell、Ronald L. Blankespoor、J. Mattox、P. R. Whittle、D. Symalla、J. R. Dodd
    DOI:10.1021/ja00830a013
    日期:1974.11
  • HILL, RICHARD K.;PENDALWAR, SHEKHAR L.;KIELBASINSKI, KAREN;BAEVSKY, MATTH+, SYNTH. COMMUN., 20,(1990) N2, C. 1877-1884
    作者:HILL, RICHARD K.、PENDALWAR, SHEKHAR L.、KIELBASINSKI, KAREN、BAEVSKY, MATTH+
    DOI:——
    日期:——
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