9,10-Dihydro-2-phenanthrenebutanoic Acid | 7494-59-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 菲及其衍生物
• 英文名称: 9,10-Dihydro-2-phenanthrenebutanoic Acid
• 英文别名: 4-(9,10-dihydro-[2]phenanthryl)-butyric acid；4-(9,10-Dihydro-[2]phenanthryl)-buttersaeure；9,10-dihydro-2-phenanthrenebutyric acid；4-(9,10-dihydro-2-phenanthryl)butyric acid；γ-(9,10-Dihydro-phenanthryl)buttersaeure；4-(9,10-Dihydrophenanthren-2-yl)butanoic acid
• CAS: 7494-59-9
• 化学式: C₁₈H₁₈O₂
• 分子量: 266.34
• InChiKey: ATBNZVJRYSEKAE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  82 °C
• 沸点：
  457.9±14.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.175±0.06 g/cm3(Predicted)
• 溶解度：
  可溶于DCM、乙酸乙酯、甲醇

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.28
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  9,10-Dihydro-2-phenanthrenebutanoic Acid 生成 2-(4-Hydroxy-butyl)-9,10-dihydro-phenanthren
  参考文献：
  名称：

  1,3-benzenedimethanamines useful as central nervous system active agents

  摘要：

  药物化合物的公式为：##STR1## R.sup.1到R.sup.8分别为氢或C.sub.1-4烷基，m、n和p分别为0、1或2，q为0、1、2或3，X和Z分别为C.sub.1-4烷基、C.sub.1-4烷氧基、羟基、硝基、氰基、卤素、三卤甲基、羧基、C.sub.1-4烷氧基羰基或苯基，另外z与连接它的苯环一起可以是：##STR2##Y为--O--、--S--或--CH.sub.2--，V为--(CH.sub.2).sub.r--或--(CH.sub.2).sub.r S--，其中r为1到15，W为氢或可选择取代的苯基；及其盐。

  公开号：

  US05428065A1
• 作为产物：
  描述：

  9,10-二氢菲 在 氢氧化钾 、 三氯化铝 、 一水合肼 作用下， 反应 2.92h， 生成 9,10-Dihydro-2-phenanthrenebutanoic Acid
  参考文献：
  名称：

  Synthesis of a dodecahydro-18,21-dioxoniakekulene

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00348a052

文献信息

• Substituted m-xylylene diamines for the treatment of diseases of the central nervous system
  申请人：LILLY INDUSTRIES LIMITED

  公开号：EP0645370A1

  公开（公告）日：1995-03-29

  Pharmaceutical compounds of the formula: in which A is B is R¹ to R⁸ are each hydrogen or C₁₋₄ alkyl, m, n and p are each 0, 1, or 2, q is 0, 1, 2 or 3, X and Z are each C₁₋₄ alkyl, C₁₋₄ alkoxy, hydroxy, nitro, cyano, halo, trihalomethyl, carboxy, C₁₋₄ alkoxy-carbonyl or phenyl, and in addition Z, together with the phenyl ring to which it is attached, can be: Y is -O-, -S- or -CH₂-, V is -(CH₂)r- or -(CH₂)rS- where r is 1 to 15, and W is hydrogen or optionally substituted phenyl; and salts thereof.

  式中的药物化合物： 其中 A 为 B 是 R¹至R⁸各自为氢或C₁₋₄烷基，m、n和p各自为0、1或2，q为0、1、2或3，X和Z各自为C₁₋₄烷基、C₁₋₄烷氧基、羟基、硝基、氰基、卤代、三卤甲基、羧基、C₁₋₄烷氧基-羰基、硝基、氰基、卤代、三卤甲基、羧基、C₁₋₄ 烷氧羰基或苯基，此外，Z 及其所连接的苯基环可以是： Y为-O-、-S-或-CH₂-，V为-(CH₂)r-或-(CH₂)rS-，其中 r 为 1 至 15，W 为氢或任选取代的苯基；及其盐类。
• COMPOSITION FOR FORMING UPPER FILM AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1950610A1

  公开（公告）日：2008-07-30

  An upper layer-forming composition formed on a photoresist while causing almost no intermixing with the photoresist film and a photoresist patterning method are provided. The upper layer-forming composition is stably maintained without being eluted in a medium such as water during liquid immersion lithography and is easily dissolved in an alkaline developer. The upper layer-forming composition covers a photoresist film for forming a pattern by exposure to radiation. The composition comprises a resin dissolvable in a developer for the photoresist film and a solvent in which the resin is dissolved. The solvent has a viscosity of less than 5.2 x 10-3 Pa·s at 20°C. In addition, the solvent does not cause intermixing of the photoresist film and the upper layer-forming composition. The solvent contains an ether or a hydrocarbon.

  本发明提供了一种在光刻胶上形成的上层形成组合物，同时几乎不会造成与光刻胶膜的混合，并提供了一种光刻胶图案化方法。在液浸光刻过程中，上层形成组合物可稳定地保持在水等介质中而不会被洗脱，并且很容易溶解在碱性显影剂中。上层形成组合物覆盖在光刻胶膜上，通过辐射形成图案。该组合物包括一种可溶解于光刻胶膜显影剂中的树脂和一种可溶解树脂的溶剂。溶剂在 20°C 时的粘度小于 5.2 x 10-3 Pa-s。此外，该溶剂不会造成光刻胶膜和上层形成组合物的混合。溶剂含有醚或烃。
• THE SYNTHESIS OF 7,9,10-TRIMETHYL-1,2-BENZANTHRACENE AND 8,9,10-TRIMETHYL-1,2-BENZANTHRACENE¹
  作者：W. E. BACHMANN、J. M. CHEMERDA

  DOI：10.1021/jo01201a003

  日期：1941.1
• 8-Methyl-1,2-benzanthracene
  作者：Louis F. Fieser、William S. Johnson

  DOI：10.1021/ja01870a054

  日期：1939.1
• Studies in the Phenanthrene Series. XV. Observations on Substitution in 9,10-Dihydrophenanthrene: Tetracyclic Compounds Derived from It¹
  作者：Alfred Burger、Erich Mosettig

  DOI：10.1021/ja01286a042

  日期：1937.7