1-ethyl-2-[3-(1-ethyl-2H-quinolin-2-yl)prop-2-enylidene]quinoline

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 喹啉及其衍生物
• 英文名称: 1-ethyl-2-[3-(1-ethyl-2H-quinolin-2-yl)prop-2-enylidene]quinoline
• 化学式: C₂₅H₂₆N₂
• 分子量: 354.5
• InChiKey: HXATXDBGGTVKCE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.5
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  6.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• MODIFIED SILICA PARTICLES, AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE EACH CONTAINING THE PARTICLES
  申请人：Hayashi Koji

  公开号：US20090092923A1

  公开（公告）日：2009-04-09

  An object of the present invention is to satisfactorily maintain adhesion between a photosensitive layer and a substrate after the exposure of the photosensitive lithographic printing plate. Modified silica particles, the surface of which is modified by an organic compound having at least one ethylenically unsaturated group, at least one hydrophilic moiety and at least one silyloxy group, are incorporated into a photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate.

  本发明的目的是在曝光光敏印刷版的光敏层和基板之间满意地保持粘附。经过有机化合物至少具有一个乙烯基不饱和基团，至少一个亲水基团和至少一个硅氧基团修改的改性二氧化硅颗粒被并入光敏层中。
• US7951526B2
  申请人：——

  公开号：US7951526B2

  公开（公告）日：2011-05-31