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p-Methoxy-α-methyl-zimtsaeureanilid | 98681-42-6

中文名称
——
中文别名
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英文名称
p-Methoxy-α-methyl-zimtsaeureanilid
英文别名
4-Methoxy-α-methyl-zimtsaeure-anilid;3-(4-Methoxyphenyl)-2-methyl-N-phenylacrylamide;(E)-3-(4-methoxyphenyl)-2-methyl-N-phenylprop-2-enamide
p-Methoxy-α-methyl-zimtsaeureanilid化学式
CAS
98681-42-6
化学式
C17H17NO2
mdl
——
分子量
267.327
InChiKey
BELRQOCJHFJNJM-OUKQBFOZSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.5
  • 重原子数:
    20
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.12
  • 拓扑面积:
    38.3
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

文献信息

  • NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, CURED FILM, INSULATING FILM, COLOR FILTER, AND DISPLAY DEVICE
    申请人:Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
    公开号:EP2725423A1
    公开(公告)日:2014-04-30
    Provided are: a negative-type photosensitive resin composition capable of forming a pattern having favorable adhesiveness at a low light exposure; a pattern forming method using the negative-type photosensitive resin composition; a cured film, an insulating film, and a color filter formed using the negative-type photosensitive resin composition; and a display device provided with the cured film, insulating film, or color filter. The negative-type photosensitive resin composition according to the present invention contains a compound represented by the following formula (1). In the formula, R1 and R2 each independently indicate a hydrogen atom or an organic group, but at least one indicates an organic group. R1 and R2 may be bonded to form a ring structure and may contain a hetero atom bond. R3 indicates a single bond or an organic group. R4 to R9 each independently indicate a hydrogen atom, an organic group, etc., but R6 and R7 are never hydroxyl groups. R10 indicates a hydrogen atom or an organic group.
    本发明提供了:一种负型感光树脂组合物,该组合物能够在低光曝光下形成具有良好粘合性的图案;一种使用该负型感光树脂组合物的图案形成方法;一种使用该负型感光树脂组合物形成的固化薄膜、绝缘薄膜和彩色滤光片;以及一种装有该固化薄膜、绝缘薄膜或彩色滤光片的显示装置。根据本发明的负型感光树脂组合物含有下式(1)表示的化合物。式中,R1 和 R2 各自独立地表示氢原子或有机基团,但至少有一个表示有机基团。R1 和 R2 可以键合形成环状结构,也可以含有杂原子键。R3 表示单键或有机基团。R4 至 R9 各自独立地表示氢原子、有机基团等,但 R6 和 R7 绝不是羟基。R10 表示氢原子或有机基团。
  • NOVEL COMPOUND
    申请人:Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
    公开号:EP2725011A1
    公开(公告)日:2014-04-30
    Provided is a novel compound suitable for obtaining a negative-type photosensitive resin composition capable of forming a pattern having favorable adhesiveness at a low light exposure. The compound according to the present invention is represented by the following formula (1). In the formula, R1 and R2 each independently indicate a hydrogen atom or an organic group, but at least one indicates an organic group. R1 and R2 may be bonded to form a ring structure and may contain a hetero atom bond. R3 indicates a single bond or an organic group. R4 to R9 each independently indicate a hydrogen atom, an organic group, etc., but R6 and R7 are never hydroxyl groups. R10 indicates a hydrogen atom or an organic group.
    本发明提供了一种新型化合物,该化合物适用于获得底片型感光树脂组合物,该组合物能够在低光照条件下形成具有良好粘合性的图案。根据本发明的化合物由下式(1)表示。式中,R1 和 R2 各自独立地表示氢原子或有机基团,但至少有一个表示有机基团。R1 和 R2 可以键合形成环状结构,也可以含有杂原子键。R3 表示单键或有机基团。R4 至 R9 各自独立地表示氢原子、有机基团等,但 R6 和 R7 绝不是羟基。R10 表示氢原子或有机基团。
  • NOVEL BASE GENERATOR AND ADHESION ENHANCER
    申请人:Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
    公开号:EP2725011B1
    公开(公告)日:2021-10-27
  • US9244346B2
    申请人:——
    公开号:US9244346B2
    公开(公告)日:2016-01-26
  • [EN] NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, CURED FILM, INSULATING FILM, COLOR FILTER, AND DISPLAY DEVICE<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIF, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, FILM DURCI, FILM ISOLANT, FILTRE COLORÉ ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
    申请人:TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
    公开号:WO2012176694A1
    公开(公告)日:2012-12-27
     低露光量で密着性に優れたパターンを形成可能なネガ型感光性樹脂組成物、該ネガ型感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、該ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成された硬化膜、絶縁膜、及びカラーフィルタ、並びに該硬化膜、絶縁膜、又はカラーフィルタを備える表示装置を提供する。 本発明に係るネガ型感光性樹脂組成物は、下記式(1)で表される化合物を含有する。式中、R1及びR2は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示すが、少なくとも一方は有機基を示す。R1及びR2は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。R3は、単結合又は有機基を示す。R4~R9は、それぞれ独立に水素原子、有機基等を示すが、R6及びR7が水酸基となることはない。R10は、水素原子又は有機基を示す。
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