摩熵化学
数据库官网
小程序
打开微信扫一扫
首页 分子通 化学资讯 化学百科 反应查询 关于我们
请输入关键词

[5-[4-(4-methylphenyl)sulfonylphenyl]sulfanyl-2-methylsulfanylphenyl] (E)-3-phenylprop-2-enoate

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
[5-[4-(4-methylphenyl)sulfonylphenyl]sulfanyl-2-methylsulfanylphenyl] (E)-3-phenylprop-2-enoate
英文别名
——
[5-[4-(4-methylphenyl)sulfonylphenyl]sulfanyl-2-methylsulfanylphenyl] (E)-3-phenylprop-2-enoate化学式
CAS
——
化学式
C29H24O4S3
mdl
——
分子量
532.7
InChiKey
XVHSEWYSGDMVPQ-VXLYETTFSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    7.5
  • 重原子数:
    36
  • 可旋转键数:
    9
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.07
  • 拓扑面积:
    119
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

文献信息

  • Photopatternable Compositions and Methods of Fabricating Transistor Devices Using Same
    申请人:Flexterra, Inc.
    公开号:US20170227846A1
    公开(公告)日:2017-08-10
    The present teachings relate to compositions for forming a negative-tone photopatternable dielectric material, where the compositions include, among other components, an organic filler and one or more photoactive compounds, and where the presence of the organic filler enables the effective removal of such photoactive compounds (after curing, and during or after the development step) which, if allowed to remain in the photopatterned dielectric material, would lead to deleterious effects on its dielectric properties.
查看更多