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bis-(3-cyclohexyl-propyl)-ether | 500786-50-5

中文名称
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中文别名
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英文名称
bis-(3-cyclohexyl-propyl)-ether
英文别名
Bis-(3-cyclohexyl-propyl)-aether;3-(3-Cyclohexylpropoxy)propylcyclohexane
bis-(3-cyclohexyl-propyl)-ether化学式
CAS
500786-50-5
化学式
C18H34O
mdl
——
分子量
266.467
InChiKey
HLWHLCDAIRDUFL-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    7
  • 重原子数:
    19
  • 可旋转键数:
    8
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    9.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

反应信息

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文献信息

  • Organoleptic compounds
    申请人:INTERNATIONAL FLAVORS & FRAGRANCES INC.
    公开号:US10273432B2
    公开(公告)日:2019-04-30
    The present invention relates to the novel use of (oxybis)dicyclohexane compounds as fragrance materials.
    本发明涉及将(氧双)二环己烷化合物作为香料材料的新用途。
  • US2355586
    申请人:——
    公开号:——
    公开(公告)日:——
  • Liquid crystalline composition for the use in a twisted nematic cell
    申请人:MERCK PATENT GmbH
    公开号:EP0423520B1
    公开(公告)日:1995-08-02
  • FRAGRANCE COMPOSITION
    申请人:International Flavors & Fragrances Inc.
    公开号:EP3339406B1
    公开(公告)日:2020-02-12
  • METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND COMPOSITION FOR FORMING PROTECTIVE FILM
    申请人:MARUYAMA Ken
    公开号:US20130059252A1
    公开(公告)日:2013-03-07
    A method for forming a resist pattern includes providing a resist film. A protective film is provided on the resist film using a composition for forming the protective film. The composition includes a polymer and an organic solvent. The resist film on which the protective film is provided is exposed to irradiation with EUV light or an electron beam. The exposed resist film is developed.
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