2-Isopropyloxy-3-methyl-butan | 90951-62-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-Isopropyloxy-3-methyl-butan
• 英文别名: 2-isopropoxy-3-methyl-butane；2-Methyl-3-propan-2-yloxybutane
• CAS: 90951-62-5
• 化学式: C₈H₁₈O
• 分子量: 130.23
• InChiKey: UUMOVDMUHSSRJX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3-甲基-2-丁酮 、 异丙醇 在 platinum(IV) oxide 盐酸 、 氢气 作用下， 生成 2-Isopropyloxy-3-methyl-butan
  参考文献：
  名称：

  1072.醚的一般合成

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9630005598

文献信息

• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140045123A1

  公开（公告）日：2014-02-13

  A polymer comprising recurring units derived from a (meth)acrylate monomer of tertiary ester type having branched alkyl on alicycle is used to form a resist composition. When subjected to exposure, PEB and organic solvent development, the resist composition is improved in dissolution contrast.

  一种聚合物，包括由具有支链烷基的萜酸酯单体衍生的重复单元，用于形成抗蚀组合物。在经过曝光、PEB和有机溶剂显影处理后，抗蚀组合物在溶解对比度方面得到改善。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170115566A1

  公开（公告）日：2017-04-27

  A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。
• Substituted Oxazole Compounds with Analgesic Activity
  申请人：Merla Beatrix

  公开号：US20090069330A1

  公开（公告）日：2009-03-12

  Substituted oxazole derivatives corresponding to formula 1: a method for producing such compounds, pharmaceutical compositions containing such compounds, and the use of such compounds to treat pain, depression, urinary incontinence, diarrhoea, pruritus, alcohol and drug misuse, drug dependency, lethargy and/or anxiety.

  对应于公式1的氧唑衍生物替代物：生产这类化合物的方法，含有这类化合物的药物组合物，以及使用这类化合物治疗疼痛、抑郁、尿失禁、腹泻、瘙痒、酒精和药物滥用、药物依赖、倦怠和/或焦虑的用途。
• SULFONIUM COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20180099928A1

  公开（公告）日：2018-04-12

  A sulfonium compound having formula (1) is provided wherein R 1 , R 2 and R 3 are a C 1 -C 20 monovalent hydrocarbon group which may contain a heteroatom, p=0-5, q=0-5, and r=0-4. A resist composition comprising the sulfonium compound is processed by lithography to form a resist pattern with improved LWR and pattern collapse.

  提供了一个具有式（1）的磺鎓化合物，其中R1，R2和R3是C1-C20单价含有杂原子的碳氢基团，p = 0-5，q = 0-5，r = 0-4。利用光刻技术处理含有该磺鎓化合物的抗蚀剂组合物，可形成具有改善的LWR和图案崩溃的抗蚀剂图案。
• RESIST UNDERLAYER FILM COMPOSTION, PATTERNING PROCESS, AND COMPOUND
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170018436A1

  公开（公告）日：2017-01-19

  The present invention provides a resist underlayer film composition for lithography, containing a compound having an indenofluorene structure. This resist underlayer film composition is excellent in filling property, generates little outgas, and has high heat resistance.

  本发明提供了一种用于光刻的抗蚀底层膜组合物，包含具有茚并芴结构的化合物。这种抗蚀底层膜组合物具有优异的填充性能，产生少量气体释放，并具有高耐热性。